[發(fā)明專利]曝光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010143056.4
• 申請日: 2010-03-19
• 公開（公告）號: CN101840160A
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 小池雄輝;岡野達(dá)廣;佐藤善彥
• 申請（專利權(quán)）人: 優(yōu)志旺電機(jī)株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 龐乃媛

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及將印刷基板或液晶面板用玻璃基板等進(jìn)行曝光的曝光裝置。

背景技術(shù)

圖10表示在印刷基板或液晶面板等(以下也稱為工件)的制造工程中，使用于配線等的圖案形成的現(xiàn)有的曝光裝置的概略構(gòu)成及其動作的一例。

這種曝光裝置主要具備有：光照射部10；形成有復(fù)制在工件上的圖案的掩模M；保持該掩模的掩模臺20；保持進(jìn)行曝光處理的印刷基板或液晶面板等的工件W的工件臺30；及將形成于掩模M的圖案投影在工件臺30上的工件W的投影透鏡40。另外，也有不具備投影透鏡40而使掩模M與工件W接近或緊貼來進(jìn)行曝光的曝光裝置。

光照射部10具備：作為放射包含紫外線的光的光源的燈11、及將來自燈11的光反射的反射鏡12。

此外，該圖的工件臺30為利用平面電動機(jī)(Surface?Motor)的平面臺，工件臺30具備有臺板(platen)31與滑動件(移動體)32。

臺板31是具有以棋盤格子狀設(shè)有磁性體凸極的平面的構(gòu)件。在該臺板31上，滑動件32利用空氣的作用而懸浮。在該狀態(tài)下對滑動件32施加磁力，使滑動件32與臺板31的凸極之間的磁場產(chǎn)生變化，由此使滑動件32在臺板31上移動。作為如上所示的工件臺的例，有專利文獻(xiàn)1中所記載的平面臺裝置。

在滑動件32之上安裝有連接真空配管(未圖示)的吸附平臺33，吸附保持進(jìn)行曝光處理的工件W。

此外，在滑動件32上安裝有用于測定滑動件32的位置的激光干涉儀34，此外，在臺板31上安裝有將來自該激光干涉儀34的激光光線36反射的反射鏡35。由激光干涉儀34所射出的激光光線36通過該反射鏡35予以反射而返回至激光干涉儀34，來測定滑動件32的位置(移動距離)。

被吸附在吸附平臺33的工件W，使滑動件32在通過上述激光干涉儀34來檢測位置的同時移動，由此將曝光區(qū)域分割成多個而逐次予以曝光。

此外，曝光裝置是具備有預(yù)對準(zhǔn)臺50。進(jìn)行曝光處理前的工件W被置放在該預(yù)對準(zhǔn)臺50，對工件臺30進(jìn)行粗略的定位(預(yù)對準(zhǔn))。

預(yù)對準(zhǔn)的方法有將工件抵碰在定位銷的方法、或通過傳感器在多個部位檢測工件的邊緣而使位置對位的方法等。

進(jìn)行曝光的工件的從預(yù)對準(zhǔn)臺50向工件臺30的搬入、或已完成曝光的工件從工件臺30的搬出，通過工件搬運(yùn)機(jī)構(gòu)60的機(jī)械手(handler)61來進(jìn)行。機(jī)械手61是利用安裝在臂部的多吸附墊62來吸附工件W而懸吊進(jìn)行搬運(yùn)的。

作為利用吸附墊吸附如上所示的工件而懸吊進(jìn)行搬運(yùn)的機(jī)械手的例，有專利文獻(xiàn)2所記載的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)。

使用圖10(a)、(b)、(c)，說明通過機(jī)械手61搬運(yùn)工件W(向工件臺30的搬入與搬出)。另外，在圖10(b)、(c)中，省略表示了曝光裝置的光照射部10與掩模M及掩模臺20。

圖10(a)。在工件臺30的吸附平臺33上吸附保持工件W1而進(jìn)行曝光處理。接著，進(jìn)行曝光處理的工件W2被置放在預(yù)對準(zhǔn)臺50而進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)。

工件搬運(yùn)機(jī)構(gòu)60是在一支臂部63的兩側(cè)具備工件搬出用的機(jī)械手61a、及工件搬入用的機(jī)械手61b。在各自的機(jī)械手61a、61b安裝有多個吸附墊62，通過該吸附墊62，將工件W吸附保持而懸吊進(jìn)行搬運(yùn)。在臂部63安裝有移動機(jī)構(gòu)(未圖示)，工件搬運(yùn)機(jī)構(gòu)60作為全體沿圖示左右與上下方向移動。

圖10(b)。若工件W1的曝光處理與工件W2的預(yù)對準(zhǔn)結(jié)束，則工件搬運(yùn)機(jī)構(gòu)60下降，由工件搬入用機(jī)械手61a保持預(yù)對準(zhǔn)臺50的工件W2，此外，由工件搬出用機(jī)械手61b保持吸附平臺33上的工件W1。保持兩工件的工件搬運(yùn)機(jī)構(gòu)60上升而沿圖示右方向移動。

圖10(c)。若保持工件W2的工件搬入用機(jī)械手61a來到吸附平臺33之上，則工件搬運(yùn)機(jī)構(gòu)60下降而將工件W2置放在吸附平臺33上。吸附平臺33吸附保持工件W2。此外，工件搬出用機(jī)械手61b也將所保持的工件W1置放在進(jìn)行后序工程的顯影處理的裝置的工作臺(未圖示)。

工件搬運(yùn)機(jī)構(gòu)向圖示左方移動而返回至圖10(a)的位置。工件W2的曝光處理開始，在預(yù)對準(zhǔn)臺50上，將接下來予以曝光處理的工件，通過其他搬運(yùn)機(jī)構(gòu)(未圖示)搬運(yùn)來。

(專利文獻(xiàn)1)日本特開2004-138878號公報

(專利文獻(xiàn)2)日本特開2000-340635號公報

工件W尤其為印刷基板時，有在工件W發(fā)生較大翹曲的情形。其原因之一，考慮到印刷基板是在樹脂制基板上粘貼銅箔等金屬所形成的，因此，因兩者的熱膨脹率的差異而發(fā)生的。