[發明專利]一種利用雙縫干涉法測量偏振態的裝置及方法有效
| 申請號： | 201010137833.4 | 申請日： | 2010-03-30 |
| 公開（公告）號： | CN101846553A | 公開（公告）日： | 2010-09-29 |
| 發明（設計）人： | 白云峰;董娟;李艷秋 | 申請（專利權）人： | 北京理工大學 |
| 主分類號： | G01J4/00 | 分類號： | G01J4/00 |
| 代理公司： | 北京理工大學專利中心 11120 | 代理人： | 張利萍 |
| 地址： | 100081 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 利用 干涉 測量 偏振 裝置 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用雙縫干涉法測量偏振態的裝置，其特征在于包括偏振片(1)、擋光板(2)和CCD探測器(3)；其中擋光板(2)上有兩條狹縫，除了擋光板(2)上的兩條狹縫外，擋光板(2)上的其余部分完全不透光；沿光路方向依次為偏振片(1)、擋光板(2)和CCD探測器(3)。
2.一種利用雙縫干涉法測量偏振態的方法，其特征在于其具體步驟為：
1)將偏振片(1)覆蓋在擋光板(2)的一條狹縫上，然后沿光路方向依次固定擋光板(2)和CCD探測器(3)；
2)平行入射光照射在擋光板(2)上，平行入射光透過擋光板(2)上的兩條狹縫在CCD探測器(3)成像，形成干涉條紋；
3)根據相干理論，推導CCD探測器(3)上任意點如P點光強表達式如式(1)：
4)在步驟2)得到的干涉條紋中任取一段根據步驟3)中的式(1)進行擬合，得到平行入射光的偏振態。
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