[發明專利]陶瓷涂層臭氧發生管及其制備方法

有效

• 申請號: 201010129838.2
• 申請日: 2010-03-18
• 公開（公告）號: CN101792128A
• 公開（公告）日: 2010-08-04
• 發明（設計）人: 張繼影
• 申請（專利權）人: 蘇州至順表面科技有限公司
• 主分類號: C01B13/11
• 分類號: C01B13/11;H01B3/12;C04B35/48;C23C4/16;C23C4/10;C23C4/02
• 代理公司: 常熟市常新專利商標事務所 32113
• 代理人: 朱偉軍

1.一種陶瓷涂層臭氧發生管，包括內電極(1)、外電極(2)、結合于內電極(1)的外表面的介電層(3)和構成于介電層(3)與外電極(2)之間的放電間隙(4)，其特征在于：所述的介電層(3)為陶瓷介電體絕緣涂層，所述的陶瓷介電體絕緣涂層的材料為Y₂O₃、ZrO₂或Al₂O₃，或者由80-85wt％的ZrO₂、5-6wt％的HfO₂和8-15wt％的R₂O₃三者的混合物，R₂O₃式中的R為Y、Yb、Nb、Sm或Sc。

2.根據權利要求1所述的陶瓷涂層臭氧發生管，其特征在于所述的陶瓷介電體絕緣涂層的厚度為0.3-1.0mm。

3.一種如權利要求1所述的陶瓷涂層臭氧發生管的制備方法，其特征在于它法包括以下步驟：

A)清洗，將內電極(1)投入清洗裝置中清洗，得到清潔處理的內電極(1)；

B)表面預處理，用噴砂裝置對內電極(1)的外表面噴砂，使內電極(1)的外表面形成粗糙面，得到待噴涂的內電極(1)；

C)噴涂，用等離子體噴涂裝置將Y₂O₃、ZrO₂或Al₂O₃，或者由80-85wt％的ZrO₂、5-6wt％的HfO₂和8-15wt％的R₂O₃三者的混合物噴涂到待噴涂的內電極(1)的外表面上，所述的等離子體噴涂裝置所用的等離子氣體為氬氣和氫氣，控制等離子體噴涂裝置的電流、控制氬氣和氫氣的流量和送粉量以及控制噴槍的噴嘴與工件的距離，所述R₂O₃式中的R為Y、Yb、Nb、Sm或Sc，得到內電極(1)的外表面的介電層3為陶瓷介電體絕緣涂層的待磨削加工的內電極半成品；

D)磨削加工，用粗磨砂輪先對陶瓷介電體絕緣涂層的表面粗磨，再用細磨砂輪進行精磨，得到內電極(1)的外表面的介電層(3)為厚度為0.3-1.0mm的陶瓷介電體絕緣涂層的內電極成品，其中：步驟B)中所述的噴砂所用的噴砂材料為20#白剛玉砂，步驟C)中所述的控制等離子體噴涂裝置的電流是將電流控制為350-450A，所述的控制氬氣和氫氣的流量是將氬氣和氫氣的流量分別控制為100-150L/min和15-30L/min，所述的控制送粉量是將送粉量控制為15-50g/min，所述的控制噴槍的噴嘴與工件的距離是將距離控制為10-20cm。

4.根據權利要求3所述的陶瓷涂層臭氧發生管的制備方法，其特征在于步驟A)中所述的清洗裝置為超聲波清洗機。

5.根據權利要求3所述的陶瓷涂層臭氧發生管的制備方法，其特征在于步驟D)中所述的粗磨砂輪為金剛石砂輪，而所述的細磨砂輪為碳化硅砂輪。