[發明專利]涂膜形成方法

無效

• 申請號: 201010113658.5
• 申請日: 2010-02-05
• 公開（公告）號: CN101797551A
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發明（設計）人: 紙谷明;齊藤芳彥
• 申請（專利權）人: 日本碧化學公司
• 主分類號: B05D1/36
• 分類號: B05D1/36;B05D3/02;C09D4/06
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 丁香蘭;龐東成

1.一種涂膜形成方法，其具有如下工序：

(1)在被涂物上涂布底涂涂料的工序；

(2)在通過所述工序(1)形成的底涂層上涂布頂涂涂料的工序；

(3)在通過所述工序(1)、(2)形成的未固化涂膜上進行能量線照射的工序；和

(4)在所述工序(3)后烘烤固化的工序，

其特征在于，所述頂涂涂料含有：含羥基樹脂(A)、具有不飽和鍵的活性能量線固化性化合物(B)和多異氰酸酯化合物(C)，

所述含羥基樹脂(A)的玻璃化轉變溫度(Tg)為-20℃～50℃，重均分子量為10000～30000，羥值為80～230(KOHmg/g)，以羥值基準計，伯羥基與仲羥基的比為伯羥基/仲羥基＝30/70～80/20，所述多異氰酸酯化合物(C)的每一個分子的平均異氰酸酯基數為2.5～3.4，多異氰酸酯化合物(C)的異氰酸酯基與含羥基樹脂(A)的羥基的當量比(NCO/OH)為1.2～3.0，以重量比計，(A)、(B)、(C)的混合比例為((A)+(C))/(B)＝90/10～50/50。

2.如權利要求1所述的涂膜形成方法，其中，所述工序(4)在70℃～100℃進行。

3.如權利要求1或2所述的涂膜形成方法，其中，所述頂涂涂料中不揮發成分為45質量％～65質量％。