[發明專利]工作臺清掃器、描繪裝置以及基板處理裝置

無效

• 申請號: 201010112950.5
• 申請日: 2010-02-03
• 公開（公告）號: CN101799631A
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發明（設計）人: 樋渡忠夫
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 黃綸偉

1.一種工作臺清掃器，該工作臺清掃器具有板狀部件和送風單元， 并去除工作臺表面上的異物，所述板狀部件具有至少一個貫通孔，所述 送風單元將氣體經由所述貫通孔從所述板狀部件的一面側送入到另一面 側，

在使所述工作臺表面與所述另一面對置、且利用所述送風單元進行 了送風的狀態下，將所述板狀部件配置成使所述另一面與所述工作臺表 面隔開預定間隔，使所述板狀部件在與所述工作臺表面平行的面內移動， 通過所述板狀部件的端部擠出所述工作臺表面上的異物，從而將其去除。

2.根據權利要求1所述的工作臺清掃器，所述工作臺清掃器還具有 送風調節單元，該送風調節單元對從所述送風單元送入的氣體的送風量 進行調整，利用所述送風調節單元調節所述送風量，由此來調節所述預 定間隔的大小。

3.根據權利要求1或2所述的工作臺清掃器，其中，所述貫通孔形 成在所述板狀部件的中心。

4.根據權利要求1或2所述的工作臺清掃器，其中，在距所述板狀 部件的中心等距離的位置形成有多個所述貫通孔。

5.一種工作臺清掃器，該工作臺清掃器具有板狀部件、送風單元以 及吸氣單元，所述板狀部件具有至少一個第1貫通孔和至少一個第2貫 通孔，所述送風單元將氣體經由所述第1貫通孔從所述板狀部件的一面 側送入到另一面側，所述吸氣單元將氣體經由所述第2貫通孔從所述板 狀部件的所述另一面側吸出到所述一面側，

在使所述工作臺表面與所述另一面對置、利用所述送風單元進行了 送風且利用所述吸氣單元進行了吸氣的狀態下，將所述板狀部件配置成 使所述另一面與所述工作臺表面隔開預定間隔，使所述板狀部件在與所 述工作臺表面平行的面內移動，通過所述板狀部件的端部擠出所述工作 臺表面上的異物，從而將其去除。

6.根據權利要求5所述的工作臺清掃器，所述工作臺清掃器還具有 調節單元，該調節單元對從所述送風單元送入的氣體的送風量、或者由 所述吸氣單元吸出的氣體的吸氣量的至少一方進行調整，利用所述調節 單元調節所述送風量或所述吸氣量的至少一方，由此來調節所述預定間 隔的大小。

7.根據權利要求5或6所述的工作臺清掃器，其中，所述第1貫通 孔或所述第2貫通孔的任一方形成在所述板狀部件的中心。

8.根據權利要求5或6所述的工作臺清掃器，其中，在距所述板狀 部件的中心等距離的位置形成有多個所述第1貫通孔或所述第2貫通孔。

9.根據權利要求5至6中的任一項所述的工作臺清掃器，其中，所 述板狀部件還具有用于吸出異物的第3貫通孔。

10.根據權利要求1或5所述的工作臺清掃器，其中，所述板狀部 件的端部的至少一方具有凹成彎曲狀的部分。

11.一種描繪裝置，該描繪裝置具有權利要求1或5所述的工作臺 清掃器，所述工作臺清掃器能在所述描繪裝置的工作臺表面的垂直方向 上移動。

12.一種基板處理裝置，該基板處理裝置將基板放置在工作臺上， 并在該狀態下對基板實施處理，

所述基板處理裝置具有去除所述工作臺上的異物的工作臺清掃器，

所述工作臺清掃器具有：

清掃板，其具有與工作臺的基板放置面對置的平滑的平面；

浮起機構，其使所述清掃板在所述工作臺上浮起到預定高度；以及

驅動機構，其使所述清掃板在與所述工作臺的基板放置面平行的面 內移動。

13.根據權利要求12所述的基板處理裝置，其中，所述浮起機構控 制成使所述清掃板在所述工作臺上以1～500μm的高度浮起。

14.根據權利要求12或13所述的基板處理裝置，其中，所述清掃 板是平板狀，其下表面側的端部以90°以下的角度形成為直角或銳角。