[發明專利]氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒及其制備和應用有效
| 申請號: | 201010106871.3 | 申請日: | 2010-02-08 |
| 公開(公告)號: | CN101818047A | 公開(公告)日: | 2010-09-01 |
| 發明(設計)人: | 張澤芳;劉衛麗;宋志棠 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海微系統與信息技術研究所 |
| 主分類號: | C09K3/14 | 分類號: | C09K3/14;C09G1/02;H01L21/3105;H01L21/762;B24B7/24 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人: | 許亦琳;余明偉 |
| 地址: | 200050 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氧化 鈰核殼 復合 磨料 顆粒 及其 制備 應用 | ||
1.一種氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒的制備方法,包括如下步驟:?
1)以水玻璃為原料,通過初純、晶種制備、增加粒徑和純化步驟制得高純硅溶膠;?
2)在步驟1)中制得的高純硅溶膠中加入穩定劑聚乙烯吡咯烷酮,加熱至70~100℃,再加入鈰鹽和堿液,在70~100℃的溫度條件下反應2~24h,反應完畢以后進行陳化,然后再經超濾、稀釋、再超濾處理后即制得氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料初產品;?
3)將步驟2)中制得的氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料初產品進行水熱晶化后再進行超濾、稀釋、再超濾處理后即制得所述氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒;?
所述氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒包含氧化硅和氧化鈰,且所述復合磨料顆粒的內核為球形氧化硅內核,外殼為氧化鈰包覆層。?
2.如權利要求1中所述的氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟1)中,高純硅溶膠中含有粒徑為20~140nm的二氧化硅磨料顆粒,且以所述高純硅溶膠的重量計,二氧化硅磨料顆粒的重量百分比為2~10%。?
3.如權利要求1中所述的氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟2)中以所述高純硅溶膠中的二氧化硅的重量計,加入的聚乙烯吡咯烷酮的重量為二氧化硅重量的0.05~10%。?
4.如權利要求1中所述的氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟2)中的鈰鹽選自三價鈰鹽或四價鈰鹽;其中,所述三價鈰鹽選自硝酸鈰、醋酸鈰、氯化鈰和硫酸鈰中的一種;所述四價鈰鹽選自硝酸鈰銨、三氟甲基磺酸鈰和硫酸高鈰中的一種。?
5.如權利要求4中所述的氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟2)中,當加入的鈰鹽為三價鈰鹽時,還需要在加入鈰鹽和堿液的同時加入氧化劑。?
6.如權利要求1中所述的氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟2)中的堿液選自:氫氧化鉀、尿素、六亞甲基四胺和氨水中的一種或多種的混合物。?
7.如權利要求1-6任一所述的氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒的制備方法,其特征在于,所述復合磨料顆粒的粒徑為23~160nm;且所述球形氧化硅內核的粒徑為20~140nm。?
8.如權利要求1-6任一所述的氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒的制備方法,其特征在于,所述氧化硅-氧化鈰核殼復合磨料顆粒中,氧化鈰的重量為氧化硅重量的2~30%?。
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