[發(fā)明專利]一種連續(xù)還原生產(chǎn)釩氮合金的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010100293.2 | 申請(qǐng)日: | 2010-01-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101845566A | 公開(公告)日: | 2010-09-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 段東平;肖望強(qiáng);趙紀(jì)偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院過(guò)程工程研究所;中國(guó)科學(xué)院唐山高新技術(shù)研究與轉(zhuǎn)化中心 |
| 主分類號(hào): | C22C1/10 | 分類號(hào): | C22C1/10;C22C27/02 |
| 代理公司: | 北京法思騰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11318 | 代理人: | 高宇;楊小蓉 |
| 地址: | 100190 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 連續(xù) 還原 生產(chǎn) 合金 方法 | ||
1.一種連續(xù)還原生產(chǎn)釩氮合金的方法,其采用電加熱推板窯進(jìn)行釩氮合金的連續(xù)還原生產(chǎn),所述電加熱推板窯包括:
縱向進(jìn)料段(I);
位于縱向進(jìn)料段(I)之后的縱向還原氮化段;
位于縱向還原氮化段之后的自然冷卻段(III);
位于自然冷卻段(III)后的縱向冷卻水冷段(V);
其特征在于,還包括位于縱向自然冷卻段(III)和縱向冷卻水冷段(V)之間的縱向氮?dú)忸A(yù)熱段(IV);和
由前至后均勻安裝于所述縱向高溫還原氮化段(II)內(nèi)的硅鉬棒加熱元件(2),所述硅鉬棒加熱元件硅鉬棒(2)垂直插入石墨碳磚爐膛(5)與高鋁質(zhì)耐火磚層(10)之間形成的加熱元件腔內(nèi),并通過(guò)碳質(zhì)泥漿將石墨碳磚爐膛(5)粘結(jié)成密封的爐膛整體;
所述縱向還原氮化段為縱向高溫還原氮化段(II),其溫度為1550~1650℃。
所述連續(xù)還原生產(chǎn)釩氮合金的步驟如下:
通過(guò)硅鉬棒加熱元件2將所述縱向高溫還原氮化段(II)的溫度升至1550~1650℃,使用外置液壓裝置將裝有含碳V2O5球團(tuán)的坩堝(4)以每10~15分鐘推進(jìn)一個(gè)坩堝長(zhǎng)度的推進(jìn)速率依次推入電加熱推板窯的石墨碳磚爐膛(5)內(nèi);所述坩堝(4)與石墨碳磚爐膛(5)之間留有氮?dú)饬魅胪ǖ?1);裝有含碳V2O5球團(tuán)的坩堝(4)在外置液壓裝置的推動(dòng)下依次通過(guò)縱向進(jìn)料段(I)、縱向高溫還原氮化段(II)、縱向自然冷卻段(III)、縱向氮?dú)忸A(yù)熱段(IV)和縱向冷卻水冷卻段(V);其過(guò)程中,含碳V2O5球團(tuán)依次在高溫還原氮化段(II)完成還原和氮化反應(yīng),在縱向自然冷卻段(III)進(jìn)行自然冷卻,在氮?dú)忸A(yù)熱段(IV)將由氮?dú)饬魅胪ǖ?1)流入的氮?dú)膺M(jìn)行預(yù)熱,再在縱向冷卻水冷卻段(V)進(jìn)行冷卻水冷卻,最終生成釩氮合金產(chǎn)品。
2.按權(quán)利要求1所述的連續(xù)還原生產(chǎn)釩氮合金的方法,其特征在于,所述含碳V2O5球團(tuán)寬度為25~45mm,高度為15~30mm,含碳V2O5球團(tuán)料層厚度為60~90mm。
3.按權(quán)利要求1所述的連續(xù)還原生產(chǎn)釩氮合金的方法,其特征在于,所述電加熱推板窯的石墨碳磚爐膛(5)尺寸為24.5m×700mm×264mm。
4.按權(quán)利要求1所述的連續(xù)還原生產(chǎn)釩氮合金的方法,其特征在于,所述坩堝(4)為石墨碳?jí)K制作的坩堝。
5.按權(quán)利要求1所述的連續(xù)還原生產(chǎn)釩氮合金的方法,其特征在于,所述推板窯的縱向進(jìn)料段(I)長(zhǎng)度為1.1m,寬度為1.5m;所述縱向高溫還原氮化段(II)長(zhǎng)度為12.5m,寬度為1.5m;所述縱向自然冷卻段(III)長(zhǎng)度為1.2m,寬度為1.7m;所述縱向氮?dú)忸A(yù)熱段(IV)長(zhǎng)度為6.9m,寬度為1.5m;所述縱向冷卻水冷段(V)長(zhǎng)度為2.8m,寬度為1.2m。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院過(guò)程工程研究所;中國(guó)科學(xué)院唐山高新技術(shù)研究與轉(zhuǎn)化中心,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院過(guò)程工程研究所;中國(guó)科學(xué)院唐山高新技術(shù)研究與轉(zhuǎn)化中心許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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