[發明專利]用于襯底處理系統的損壞襯底處置設備及方法無效
| 申請號: | 200980160366.2 | 申請日: | 2009-10-07 |
| 公開(公告)號: | CN102473671A | 公開(公告)日: | 2012-05-23 |
| 發明(設計)人: | 安德里亞·巴奇尼;馬科·加里亞左 | 申請(專利權)人: | 應用材料公司 |
| 主分類號: | H01L21/687 | 分類號: | H01L21/687;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人: | 柳春雷 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 襯底 處理 系統 損壞 處置 設備 方法 | ||
技術領域
本發明的實施例大體上涉及一種在襯底處理系統(諸如絲網印刷系統)中處置損壞襯底的系統及方法。
背景技術
太陽能電池是將太陽光直接轉換成電功率的光伏(PV)組件。太陽能電池一般具有一個或多個p-n結。每一個p-n結包括兩個在半導體材料內的不同區域,其中一側稱作p型區,另一側稱作n型區。當太陽能電池的p-n結暴露至(由來自光子的能量所構成的)太陽光時,太陽光通過PV效應直接轉換成電力。太陽能電池產生特定量的電功率并且拼貼成尺寸適合于傳遞期望量的系統功率的模塊。太陽能模塊接合成具有特定框架與連結器的平板。太陽能電池一般形成于硅襯底上,該硅襯底可為單晶或多晶硅襯底。典型太陽能電池包括一般少于0.3mm厚的硅晶片、襯底或者薄片,并且在形成于襯底上的p型區的頂部上具有n型硅的薄層。
PV市場在最近十年已歷經年成長率超過30%的成長。某些文獻暗示世界各地太陽能電池功率的生產在不遠的未來可超過10GWp。估計超過95%的太陽能模塊為硅晶片系。高市場成長率以及對于實質減少太陽能電力成本的需求結合,已對低廉地形成高質量太陽能電池造成許多嚴峻挑戰。因此,制成商業上可行的太陽能電池的一項主要組成部分是,通過改良器件產量及增加襯底處理量來減少形成太陽能電池所需求的制造成本。
絲網印刷長久以來用于在物體(例如衣物或陶瓷)上印刷設計圖樣,并且在電子工業中用于在襯底表面上印刷電氣部件設計圖樣(例如電接觸或互連)。現有技術水平的太陽能電池制造處理還使用自動化絲網印刷工藝。由于往往非常薄(諸如約3微米(μm)厚)的太陽能襯底的易碎特性,甚至在正常的太陽能電池處理期間也通常會發生襯底破裂或斷裂。因此,一旦發現破裂或斷裂的襯底,期望能將所需要的移動和/或傳遞的量減至最少。如果不采取適當地照料,則碎裂或斷裂的襯底還會損壞處理硬件并且生成影響太陽能電池生產線的器件產量的顆粒。此外,在絲網印刷工藝和其它襯底處理中拋棄斷裂或以其它方式損壞的硅晶片(襯底)會是耗時的且需要手動干預,這會減少襯底處理量。
因此,需要一種用于太陽能電池、電子電路或其它實用器件的襯底處理系統,所述系統具有在系統內處置損壞襯底的改良方法、具有增加的襯底處理量以及較其它已知系統更低的擁有成本(cost?of?ownership)。
發明內容
本發明可以一般地提供襯底處理系統。襯底處理系統具有:旋轉致動器組件,其具有設置在旋轉致動器組件上的至少一個襯底支撐件,旋轉致動器組件構造成使至少一個襯底支撐件在多個位置之間移動;襯底處理室,其定位成在至少一個襯底支撐件處于多個位置中的第一位置時在襯底上執行處理;和損壞襯底處置設備。損壞襯底處置設備包括容器,容器設置在旋轉致動器組件上,并且容器構造成從至少一個襯底支撐件接收潛在損壞的襯底。
本發明的實施例還可以提供用于襯底處理系統的損壞襯底處置設備。該系統包括:旋轉致動器組件,其具有設置在旋轉致動器組件上的至少一個襯底支撐件,旋轉致動器組件構造成使至少一個襯底支撐件在多個位置之間移動;和襯底處理室,其定位成在至少一個襯底支撐件處于多個位置中的第一位置時在襯底上執行處理。損壞襯底處置設備包括容器,容器設置在旋轉致動器組件上,并且容器構造成從至少一個襯底支撐件接收潛在損壞的襯底。
本發明的實施例還可以提供用于襯底處理系統的損壞襯底處置方法。該系統包括:旋轉致動器組件,其具有設置在旋轉致動器組件上的至少一個襯底支撐件,旋轉致動器組件構造成使至少一個襯底支撐件在多個位置之間移動;和襯底處理室,其定位成在至少一個襯底支撐件處于多個位置中的第一位置時在襯底上執行處理。該方法包括:提供損壞襯底處理設備,該設備包括設置在旋轉致動器組件上的容器;識別在至少一個襯底支撐件中的一個上的潛在損壞襯底;將至少一個襯底支撐件中的一個對準容器;和將潛在損壞襯底從至少一個襯底支撐件中的一個傳送到容器。
附圖說明
通過參考實施例,一些實施例在附圖中示出,可以對前文簡要總結的本發明進行更具體描述,如此可詳細了解之前陳述的本發明的特征。但是應注意,附圖只繪示本發明的典型實施例,因為本發明允許有其它等效的實施例,所以附圖不視為限制本發明的范圍。
圖1A是系統的示意性等軸測視圖,該系統可用于結合本發明的實施例以在旋轉致動器組件上處置損壞襯底。
圖1B是圖1A中的系統的示意性頂部俯視圖。
圖2是圖1的旋轉致動器組件的一個實施例的部分示意性等軸測視圖,顯示處于接收損壞襯底位置的損壞襯底處置設備。
圖3是圖2的損壞襯底處置設備的一個實施例的俯視圖。
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





