[發明專利]以氧化鋅為主要成分的透明導電膜的紋理加工液及具有凹凸的透明導電膜的制造方法無效
| 申請號: | 200980143613.8 | 申請日: | 2009-10-05 |
| 公開(公告)號: | CN102203952A | 公開(公告)日: | 2011-09-28 |
| 發明(設計)人: | 松原將英;岡部哲 | 申請(專利權)人: | 三菱瓦斯化學株式會社 |
| 主分類號: | H01L31/04 | 分類號: | H01L31/04;H01B13/00 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氧化鋅 主要成分 透明 導電 紋理 加工 具有 凹凸 制造 方法 | ||
1.一種紋理加工液,其特征在于,其是在包含以氧化鋅為主要成分的透明導電膜的太陽能電池的制造工序中用于在該透明導電膜的表面形成具有凹凸的紋理的、含有聚丙烯酸或其鹽和酸性成分的酸性水溶液。
2.根據權利要求1所述的紋理加工液,其特征在于,所述酸性水溶液的pH值為6.5以下。
3.根據權利要求1所述的紋理加工液,其特征在于,聚丙烯酸的重均分子量為2000~10000。
4.根據權利要求1所述的紋理加工液,其特征在于,聚丙烯酸的鹽為聚丙烯酸銨。
5.根據權利要求1所述的紋理加工液,其特征在于,聚丙烯酸或其鹽的濃度為0.1質量%~3.0質量%。
6.根據權利要求1所述的紋理加工液,其特征在于,酸性成分為選自醋酸、檸檬酸、乳酸、蘋果酸、乙醇酸、酒石酸、鹽酸、硫酸及硝酸中的1種以上。
7.根據權利要求1所述的紋理加工液,其特征在于,酸性成分的濃度為0.01質量%~30質量%。
8.一種透明導電膜的制造方法,其特征在于,在基板上制作以氧化鋅為主要成分的透明導電膜,并使該透明導電膜與權利要求1~7中任一項所述的紋理加工液接觸,從而在該透明導電膜的表面形成具有凹凸的紋理,然后用pH值為12以上的堿性水溶液對該紋理的表面進行接觸處理。
9.根據權利要求8所述的透明導電膜的制造方法,其特征在于,堿性水溶液含有選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、四甲基氫氧化銨、氨、單乙醇胺及甲基乙醇胺中的1種以上。
10.根據權利要求8或9所述的透明導電膜的制造方法,其中,透明導電膜用于太陽能電池。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





