[發(fā)明專(zhuān)利]用于提供激光照射文件的設(shè)備和方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980143569.0
• 申請(qǐng)日: 2009-10-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102202617A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: G·尤西非;E·黑格爾斯
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 泰克諾拉斯完美視覺(jué)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): A61F9/01
• 分類(lèi)號(hào): A61F9/01
• 代理公司: 永新專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 陳松濤;韓宏

1.一種用于提供在激光器、優(yōu)選為準(zhǔn)分子激光器中使用的激光照射文件的方法，該激光照射文件優(yōu)選用于實(shí)施眼睛的屈光激光治療或用于產(chǎn)生定制的隱形眼鏡或人工晶體，所述方法包括步驟：

a)提供關(guān)于期望的消融輪廓的信息，

b)基于所述期望的消融輪廓，計(jì)算第一系列激光照射位置，

c)利用所述第一系列激光照射位置并且利用與單個(gè)激光照射的脈沖特性有關(guān)的信息，產(chǎn)生模擬的消融輪廓，

d)將所述模擬的消融輪廓與所述期望的消融輪廓進(jìn)行比較，并確定殘余結(jié)構(gòu)，以及

e)基于所述期望的消融輪廓和所確定的殘余結(jié)構(gòu)，計(jì)算第二系列激光照射位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括步驟：

f)利用所述第二系列激光照射位置并且利用與單個(gè)激光照射的脈沖特性有關(guān)的信息，產(chǎn)生第二模擬的消融輪廓，

g)將所述第二模擬的消融輪廓與所述期望的消融輪廓進(jìn)行比較，并確定進(jìn)一步的殘余結(jié)構(gòu)，以及

h)基于所述期望的消融輪廓和所確定的進(jìn)一步的殘余結(jié)構(gòu)，計(jì)算另一系列激光照射位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，重復(fù)步驟f)至g)至少一次，其中，所述另一系列激光照射位置被用作所述第二系列激光照射位置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的方法，其中，基于針對(duì)待治療的眼睛所獲得的波前信息，計(jì)算所述期望的消融輪廓，其中，所述波前信息優(yōu)選以Zernike系數(shù)給出。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述波前信息作為第n階波前給出，并且其中，基于所述第n階波前計(jì)算所述第一系列激光照射位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，通過(guò)計(jì)算模擬波前和期望波前的差值來(lái)確定所述模擬的消融輪廓和所述期望的消融輪廓之間的差值，以獲得殘余波前，其中，以Zernike系數(shù)描述所述殘余波前。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，對(duì)于后續(xù)的迭代，所述殘余波前被增加到先前計(jì)算的波前上。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的方法，其中，通過(guò)計(jì)算直到階數(shù)N’的Zernike系數(shù)，過(guò)濾所述模擬波前和所述期望波前的所述差值以獲得低和/或高空間頻率，并且其中，在每個(gè)迭代步驟中，使用各自第N’階的Zernike系數(shù)，且其中，

N’＝n-2*iteration_counter，

n為所述波前信息的階數(shù)，以及iteration_counter＝迭代次數(shù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，在每個(gè)迭代步驟中，所校正的波前被用于計(jì)算各個(gè)系列激光照射位置，并且其中，迭代步驟N’小于3。

10.一種用于提供激光照射文件的算法，執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的方法步驟。

11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，還包括響應(yīng)于所提供的激光照射文件，控制激光設(shè)備的步驟。

12.一種用于提供在激光器、優(yōu)選為準(zhǔn)分子激光器中使用的激光照射文件的設(shè)備，該激光照射文件優(yōu)選用于實(shí)施眼睛的屈光激光治療或用于產(chǎn)生定制的隱形眼鏡或人工晶體，所述設(shè)備包括：

a)用于提供關(guān)于期望的消融輪廓的信息的裝置，

b)用于基于所述期望的消融輪廓，計(jì)算第一系列激光照射位置的裝置，

c)用于利用所述第一系列激光照射位置并且利用與單個(gè)激光照射的脈沖特性有關(guān)的信息，產(chǎn)生模擬的消融輪廓的裝置，

d)用于將所述模擬的消融輪廓與所述期望的消融輪廓進(jìn)行比較并確定殘余結(jié)構(gòu)的裝置，以及

e)用于基于所述期望的消融輪廓和所確定的殘余結(jié)構(gòu)，計(jì)算第二系列激光照射位置的裝置。

13.一種激光治療系統(tǒng)，包括準(zhǔn)分子激光器和/或飛秒激光器，以及根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備。