[發明專利]提供光刺激和結構成像的裝置、設備和方法

在審

• 申請號: 200980143446.7
• 申請日: 2009-09-25
• 公開（公告）號: CN102202561A
• 公開（公告）日: 2011-09-28
• 發明（設計）人: 沃洛季米爾·尼科連科;拉斐爾·尤斯特;布朗東·O·沃森;達爾西·彼得卡
• 申請（專利權）人: 紐約市哥倫比亞大學托管會
• 主分類號: A61B5/00
• 分類號: A61B5/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 蔡勝有;韓宏星

1.一種產生至少一個輻射的設備，包括：

至少一個特定裝置，其構造或設置為產生所述至少一個輻射以觸發至少一個樣品的至少一部分的光活化、光失活或光化學效應中的至少其一。

2.根據權利要求1所述的設備，其中所述至少一個輻射包括至少一個波束，并且其中所述至少一個特定裝置還構造或設置為將所述至少一個波束分裂成多個子束，使得至少一些所述子束撞擊所述至少一個樣品。

3.根據權利要求1或2中任一項所述的設備，其中所述至少一個樣品為生物樣品。

4.根據權利要求1-3中任一項所述的設備，其中所述至少一個樣品為化學組合物。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的設備，其中所述至少一個樣品為半導體裝置。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的設備，其中所述至少一個樣品為藥物遞送裝置。

7.根據權利要求1-6中任一項所述的設備，其中所述至少一個特定裝置包括至少一個光學衍射裝置。

8.根據權利要求7所述的設備，其中所述至少一個光學衍射裝置包括至少一個空間光調制(SLM)裝置。

9.根據權利要求1-8中任一項所述的設備，其中所述至少一個特定裝置包括至少一個空間光調制(SLM)裝置。

10.根據權利要求1-9中任一項所述的設備，其中所述至少一個特定裝置包括衍射光學元件(DOE)。

11.根據權利要求1-10中任一項所述的設備，其中所述至少一個特定裝置通過以非線性方式激發所述至少一個輻射來產生所述至少一個輻射。

12.根據權利要求1-11中任一項所述的設備，其中所述至少一個輻射的信噪比為來自單輻射系統的信號的信噪比的約1.94倍。

13.根據權利要求1-12中任一項所述的設備，還包括至少一個附加裝置，所述至少一個附加裝置設置為接收與所產生的所述至少一個輻射相關的數據并產生作為所述數據之函數的所述至少一個樣品的所述至少一部分的至少一個圖像，其中所述至少一個圖像在小于約100ms的成像周期期間產生。

14.根據權利要求1-13中任一項所述的設備，其中所述至少一個特定裝置設置或構造為向生物樣品提供所產生的所述至少一個輻射以為其提供光動力效應，其中所產生的所述至少一個輻射對所述至少一個樣品的平均凈功率大于100毫瓦。

15.根據權利要求1-14中任一項所述的設備，其中所述至少一個特定裝置的至少一部分提供在內窺鏡裝置內。

16.根據權利要求1-15中任一項所述的設備，其中所述至少一個特定裝置還設置或構造為利用所述至少一個輻射照射在所述至少一個樣品內的顯微結構。

17.根據權利要求1-16中任一項所述的設備，其中所述至少一個特定裝置還設置或構造為調節所述至少一個輻射的相位以撞擊所述至少一個樣品并得到其至少一個深度信息。

18.根據權利要求9所述的設備，其中所述SLM裝置設置或構造為利用所述至少一個輻射照射所述至少一個樣品內的顯微結構。

19.根據權利要求9所述的設備，其中所述SLM裝置設置或構造為調節所述至少一個輻射的相位以撞擊所述至少一個樣品并得到其至少一個深度信息。

20.根據權利要求1-19中任一項所述的設備，其中所述至少一個特定裝置包括在至少一個基于無掃描空間光調制(SLM)的顯微鏡裝置中。

21.根據權利要求20所述的設備，其中所述至少一個基于無掃描SLM的顯微鏡裝置產生所述至少一個輻射的相干光。

22.根據權利要求21所述的設備，其中所述相干光包括激光。

23.根據權利要求9所述的設備，還包括至少一個附加裝置，所述至少一個附加裝置設置為接收與所產生的所述至少一個輻射相關的數據并產生作為所述數據之函數的所述至少一個樣品的所述至少一部分的至少一個圖像，其中所述至少一個SLM裝置設置或構造為對所述至少一個圖像校正與所述至少一個樣品相關的至少一個偏差。