[發(fā)明專利]有機(jī)薄膜蒸鍍裝置、有機(jī)EL元件制造裝置、及有機(jī)薄膜蒸鍍方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980140206.1 | 申請日: | 2009-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN102177270A | 公開(公告)日: | 2011-09-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 深尾萬里;菊地博;砂賀芳雄 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社愛發(fā)科 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;G09F9/00;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 毛利群;王忠忠 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有機(jī) 薄膜 裝置 el 元件 制造 方法 | ||
1.?一種有機(jī)薄膜蒸鍍裝置,其中,構(gòu)成為具有:
真空槽;
第一、第二基板配置裝置,配置在所述真空槽內(nèi),配置第一、第二基板;
第一、第二掩模,分別位于所述第一、第二基板配置裝置上,形成有開口;
第一旋轉(zhuǎn)軸,進(jìn)行工作,使得所述第一基板配置裝置與所述第一掩模一起成為在上下方向重合的位置變成水平的水平姿勢,此外,使得所述第一基板配置裝置與所述第一掩模一起成為豎立設(shè)置的豎立姿勢;
第二旋轉(zhuǎn)軸,進(jìn)行工作,使得所述第二基板配置裝置與所述第二掩模一起成為在上下方向重合的位置變成水平的所述水平姿勢,此外,使得所述第二基板配置裝置與所述第二掩模一起成為豎立設(shè)置的所述豎立姿勢;以及
第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置,設(shè)置在所述真空槽,從設(shè)置在第一、第二有機(jī)蒸氣放出面的放出口使有機(jī)材料蒸氣放出,
通過所述第一、第二旋轉(zhuǎn)軸的工作,所述第一、第二基板分別被所述第一、第二基板配置裝置、和所述第一、第二掩模夾持并在所述水平姿勢與所述豎立姿勢之間變更姿勢,
所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面分別與成為所述豎立姿勢的所述第一、第二掩模面對,從所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面的所述放出口放出的所述有機(jī)材料蒸氣,通過所述第一、第二掩模的開口而到達(dá)所述成膜面。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置,其中,所述豎立姿勢是所述第一、第二成膜對象物從所述水平姿勢起旋轉(zhuǎn)移動不足90°的角度,配置有所述第一、第二掩模的面朝上傾斜。
3.?根據(jù)權(quán)利要求1或2的任一項(xiàng)所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置,其中,在所述第一、第二基板配置裝置分別形成有冷卻介質(zhì)液流過的通路。
4.?根據(jù)權(quán)利要求1至3的任一項(xiàng)所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置,其中,
構(gòu)成為在所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置分別連接有蒸氣產(chǎn)生源,
在所述蒸氣產(chǎn)生源生成的所述有機(jī)材料蒸氣能夠從所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面的所述放出口放出。
5.?根據(jù)權(quán)利要求1至4的任一項(xiàng)所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置,其中,具有:第一、第二吸付磁鐵,設(shè)置在所述第一、第二基板配置裝置,將所述第一、第二掩模向所述第一、第二基板配置裝置磁吸附。
6.?根據(jù)權(quán)利要求1至5的任一項(xiàng)所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置,其中,具有:掩模移動裝置,在所述水平姿勢的所述第一、第二基板配置裝置上,使所述第一、第二掩模在上下方向分別移動。
7.?一種有機(jī)EL元件制造裝置,其中,
具有:搬送室,配置有基板搬送機(jī)器人,
在所述搬送室連接有權(quán)利要求1至6的任一項(xiàng)所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置。
8.?一種有機(jī)薄膜蒸鍍方法,其中,
分別豎立設(shè)置好有機(jī)薄膜蒸鍍裝置的第一、第二有機(jī)蒸氣放出面,所述有機(jī)薄膜蒸鍍裝置具有:第一、第二基板配置裝置,配置在同一真空槽內(nèi),能夠配置基板;以及第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置,設(shè)置在所述真空槽,在所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面形成有放出口,
進(jìn)行以下工序:
第一配置工序,將第一基板搬入所述真空槽內(nèi),將所述第一基板配置在處于水平的水平姿勢的所述第一基板配置裝置;
第一豎立工序,使所述第一基板保持在所述第一基板配置裝置并成為豎立的豎立姿勢,使其面對所述第一有機(jī)蒸氣放出面;
第一成膜開始工序,從所述第一有機(jī)蒸氣放出裝置的所述放出孔使有機(jī)材料蒸氣的放出開始;
第二配置工序,在所述第一基板配置裝置處于所述豎立姿勢的期間,將第二基板搬入所述真空槽內(nèi),配置在成為所述水平姿勢的所述第二基板配置裝置;
第二豎立工序,使所述第二基板保持在所述第二基板配置裝置并成為所述豎立姿勢,使其面對所述第二有機(jī)蒸氣放出面;
第二成膜開始工序,從所述第二有機(jī)蒸氣放出裝置的所述放出孔使有機(jī)材料蒸氣的放出開始;以及
第一搬出工序,在所述第二基板配置裝置為豎立的期間,使所述第一基板配置裝置為所述水平姿勢,將所述第一基板搬出至所述真空槽外,
通過以上工序,在所述第二基板成膜中,將成膜了的所述第一基板搬出。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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