[發(fā)明專(zhuān)利]具有可調(diào)電阻的硅基納米級(jí)電阻器件無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980139738.3 | 申請(qǐng)日: | 2009-10-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102177584A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-09-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 盧偉;趙成現(xiàn);金局奐 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 密執(zhí)安大學(xué)評(píng)議會(huì) |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/115 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/115;H01L21/8247 |
| 代理公司: | 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李娜;盧江 |
| 地址: | 美國(guó)密*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 可調(diào) 電阻 納米 器件 | ||
1.一種非易失性固態(tài)電阻器件,包括:
第一電極;
p型硅第二電極;以及
非結(jié)晶硅納米結(jié)構(gòu),所述非結(jié)晶硅納米結(jié)構(gòu)電連接在所述電極之間使得所述納米結(jié)構(gòu)具有響應(yīng)于通過(guò)所述電極施加到所述納米結(jié)構(gòu)的電壓可調(diào)的電阻。
2.如權(quán)利要求1中所述的電阻器件,其中所述非結(jié)晶硅納米結(jié)構(gòu)包括非晶硅納米結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1中所述的電阻器件,其中所述硅第二電極包括p型摻雜的多晶硅電極。
4.如權(quán)利要求1中所述的電阻器件,其中所述硅納米結(jié)構(gòu)包括具有相對(duì)端面的柱,并且每個(gè)電極與所述端面中的不同端面接觸。
5.如權(quán)利要求1中所述的電阻器件,其中所述硅納米結(jié)構(gòu)在所有三個(gè)空間尺寸上都是納米級(jí)。
6.如權(quán)利要求1中所述的電阻器件,其中所述尺寸中的每一個(gè)小于100?nm。
7.如權(quán)利要求1中所述的電阻器件,進(jìn)一步包括一個(gè)或多個(gè)與所述硅納米結(jié)構(gòu)電串聯(lián)連接的電阻部件。
8.如權(quán)利要求7中所述的電阻器件,其中所述電阻部件包括控制電阻器。
9.如權(quán)利要求1中所述的電阻器件,進(jìn)一步包括控制電路,所述控制電路包括所述一個(gè)或多個(gè)電阻部件,以及用于選擇性地改變連接到所述硅納米結(jié)構(gòu)的串聯(lián)電阻的數(shù)量的電路。
10.如權(quán)利要求1中所述的電阻器件,進(jìn)一步包括用于在兩個(gè)以上的電阻值之間調(diào)整所述硅納米結(jié)構(gòu)的電阻的控制電路。
11.如權(quán)利要求10中所述的電阻器件,其中所述控制電路提供與所述硅納米結(jié)構(gòu)串聯(lián)連接的控制電阻,所述控制電路用于通過(guò)將控制電阻設(shè)置到相關(guān)電阻值來(lái)將硅納米結(jié)構(gòu)的電阻調(diào)整到所述電阻值中的任何一個(gè)。
12.如權(quán)利要求1中所述的電阻器件,進(jìn)一步包括與所述p型第二電極接觸的n型摻雜硅層,使得所述電阻器件包括與所述硅納米結(jié)構(gòu)串聯(lián)的二極管。
13.如權(quán)利要求1中所述的電阻器件,其中所述第一電極是金屬電極,在所述電極兩端存在施加的電壓的情況下,所述金屬電極提供在所述硅納米結(jié)構(gòu)內(nèi)形成細(xì)絲的金屬離子。
14.如權(quán)利要求13中所述的電阻器件,其中所述第一電極包括銀。
15.如權(quán)利要求13中所述的電阻器件,進(jìn)一步包括在所述硅納米結(jié)構(gòu)附近位置與所述p型硅電極接觸的第二金屬電極。
16.如權(quán)利要求15中所述的電阻器件,其中所述第二金屬電極與所述硅納米結(jié)構(gòu)間隔不超過(guò)100?nm。
17.一種具有至少一個(gè)包括權(quán)利要求1中所述的電阻器件的存儲(chǔ)單元的數(shù)字非易失性存儲(chǔ)器件。
18.如權(quán)利要求17中所述的存儲(chǔ)器件,其中所述電阻器件的硅納米結(jié)構(gòu)是具有可調(diào)電阻的所述存儲(chǔ)單元中的唯一硅納米結(jié)構(gòu),并且其中可調(diào)電阻能夠被設(shè)置為三個(gè)或更多個(gè)電阻中的任何一個(gè),所述三個(gè)或更多個(gè)電阻中的每一個(gè)對(duì)應(yīng)于不同的存儲(chǔ)數(shù)字,由此所述存儲(chǔ)單元能夠進(jìn)行多級(jí)數(shù)字存儲(chǔ)。
19.如權(quán)利要求18中所述的存儲(chǔ)器件,進(jìn)一步包括用來(lái)根據(jù)將在存儲(chǔ)單元中存儲(chǔ)的數(shù)字設(shè)置可調(diào)電阻值的控制電路。
20.如權(quán)利要求19中所述的存儲(chǔ)器件,其中控制電路包括與所述硅納米結(jié)構(gòu)串聯(lián)的控制電阻。
21.一種具有包括權(quán)利要求1中所述的電阻器件的電互連的電子電路。
22.一種非易失性固態(tài)電阻器件,包括:
第一金屬電極;
p型多晶硅電極;
至少部分地位于所述電極之間的絕緣層;
嵌入所述絕緣層中并且具有均連接到所述電極中的不同電極的相對(duì)端面的非晶硅結(jié)構(gòu),其中所述第一電極包括金屬,所述金屬在所述電極兩端存在施加的電壓的情況下提供在所述硅結(jié)構(gòu)內(nèi)形成細(xì)絲的金屬離子,由此,所述硅結(jié)構(gòu)展現(xiàn)出能夠根據(jù)施加的電壓被調(diào)整的電阻;以及
在離所述硅結(jié)構(gòu)不超過(guò)100?nm的位置處與所述多晶硅電極接觸的第二金屬電極。
23.如權(quán)利要求22中所述的電阻器件,其中所述絕緣層包括旋涂玻璃層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





