[發明專利]用于物理氣相沉積的設備和方法無效
| 申請號: | 200980132064.4 | 申請日: | 2009-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN102124135A | 公開(公告)日: | 2011-07-13 |
| 發明(設計)人: | A·因斯佩克特;J·J·普里齊 | 申請(專利權)人: | 鈷碳化鎢硬質合金公司 |
| 主分類號: | C23C14/00 | 分類號: | C23C14/00;C23C14/24 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 鄧斐 |
| 地址: | 美國賓*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 物理 沉積 設備 方法 | ||
1.一種用于涂覆基體的物理氣相沉積裝置,該裝置包括:
被適配為接收該基體的一個基體保持件;
一個涂覆材料源,該涂覆材料源發射出一個涂覆材料發散性流束,該發散性流束包括一個涂覆材料的發散部分以及一個涂覆材料的定向部分;
一個遮擋裝置,該遮擋裝置被定位為與該涂覆材料源進行運作性接合,用于接收并且撞擊該涂覆材料發散性流束,這樣使得該涂覆材料的定向部分離開該遮擋裝置從而總體上朝向該基體保持件行進;并且
該涂覆材料的定向部分與該涂覆材料發散性流束相比展現出更小的發散性。
2.根據權利要求1所述的物理氣相沉積裝置,其中該遮擋裝置包括一種遮擋組件,該遮擋組件定義了一個窗口,該涂覆材料的定向部分連續地穿過該窗口。
3.根據權利要求2所述的物理氣相沉積裝置,其中該遮擋組件呈現了一個總體上平坦的表面,其中該涂覆材料的發散部分的至少一部分碰撞了該總體上平坦的表面。
4.根據權利要求3所述的物理氣相沉積裝置,其中該涂覆材料發散性流束具有一個中央縱向軸線,并且該總體上平坦的表面與該涂覆材料發散性流束的中央縱向軸線是基本上平行的。
5.根據權利要求3所述的物理氣相沉積裝置,其中該涂覆材料發散性流束具有一個中央縱向軸線,并且該總體上平坦的表面與該涂覆材料發散性流束的中央縱向軸線是基本上不平行的。
6.根據權利要求2所述的物理氣相沉積裝置,其中該遮擋組件相比該基體保持件更靠近于該涂覆材料源。
7.根據權利要求2所述的物理氣相沉積裝置,其中該遮擋組件相比該涂覆材料源更靠近于該基體保持件。
8.根據權利要求2所述的物理氣相沉積裝置,其中該遮擋組件呈現了一個基本上弧形的表面,其中該涂覆材料的發散部分的至少一部分碰撞了該基本上弧形的表面。
9.根據權利要求1所述的物理氣相沉積裝置,其中該遮擋裝置包括帶有一個遠端的一個遮擋組件,該遮擋組件包含與其遠端鄰近的一個遠端窗口,并且該涂覆材料的定向部分連續地穿過該遠端窗口。
10.根據權利要求9所述的物理氣相沉積裝置,其中該遠端窗口被定位為距離該涂覆材料源一個遠端距離,并且該遠端窗口呈現了一個遠端面積;并且該涂覆材料的定向部分在以下之一或兩者的情況下會呈現發散性的降低:該遠端距離增大以及該遠端面積減小。
11.根據權利要求1所述的物理氣相沉積裝置,其中該遮擋裝置包括一個遮擋組件,該遮擋組件延伸離開該涂覆材料源并且終止在一個遠端,該遠端位于距該涂覆材料源一個遠端距離處,并且該基體處于一種最靠近的情況下,其中該基體是距離該涂覆材料源的一個最近的接近距離,并且該遠端距離等于該最近的接近距離的至少約百分之五十。
12.根據權利要求11所述的物理氣相沉積裝置,其中該遠端距離等于該最近的接近距離的至少約百分之七十五。
13.根據權利要求1所述的物理氣相沉積裝置,進一步包括一個涂覆室,并且該涂覆室包含該基體保持件和該涂覆材料源以及該遮擋裝置。
14.根據權利要求1所述的物理氣相沉積裝置,其中該遮擋裝置包括一個遮擋組件,該遮擋組件具有一個縱向軸線,并且該遮擋組件定義了沿著該遮擋組件的縱向軸線間隔開的至少一個近端窗口以及一個遠端窗口,該近端窗口比該遠端窗口更靠近于該涂覆材料源;并且該涂覆材料的發散部分的一部分以及該涂覆材料的定向部分連續地穿過該近端窗口,并且該涂覆材料的定向部分連續地穿過該遠端窗口。
15.根據權利要求1所述的物理氣相沉積裝置,其中該遮擋裝置碰撞了該涂覆材料發散性流束從而連續地阻擋該涂覆材料的發散部分穿出該遮擋裝置的通行、同時連續地允許該涂覆材料的定向部分離開該遮擋裝置并且總體上地朝向該基體保持件行進。
16.根據權利要求1所述的物理氣相沉積裝置,其中該基體保持件包含被適配為接收該基體的至少一個基體接收區,并且該基體保持件相對于該涂覆材料源是可移動的,由此使該基體接收區所接收的基體被該涂覆材料的定向部分選擇性地進行撞擊。
17.根據權利要求16所述的物理氣相沉積裝置,其中,當該基體被該涂覆材料的定向部分撞擊時,該基體與該涂覆材料源通過該遮擋裝置而運作性對準。
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