[發明專利]外觀修改設備、制造這種設備的方法和操作這種設備的方法

無效

• 申請號: 200980122851.0
• 申請日: 2009-06-09
• 公開（公告）號: CN102067028A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發明（設計）人: A.R.M.弗舒倫;G.奧弗斯呂詹;T.C.克拉恩;S.J.魯森達爾
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: G02F1/167
• 分類號: G02F1/167;G09G3/34
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李亞非;劉鵬

1.?一種制造用于修改由其覆蓋的表面的視覺外觀的外觀修改設備（2，6，9；10；30）的方法，包括步驟：

-?提供第一襯底（11），該第一襯底在其第一側上具有由電介質層（21）覆蓋的第一電極層（17）；

-?提供第二襯底（12），該第二襯底與第一襯底（11）的第一側相對；

-?在第一襯底（11）和第二襯底（12）之間設置隔離結構（13）以形成多個單元（15，16；31），使得由每個單元占用的區域包括第一電極層（17）的部分；

-?提供至少通過電介質層（21）與第一電極層（17）隔開的第二電極（18），

-?在每個單元（15，16；31）中在電介質層（21）內形成凹口；以及

-?在每個單元（15，16；31）中提供具有散布于其中的多個顆粒（20）的光學透明流體（19）。

2.?依照權利要求1的方法，其中隔離結構（13）在第一襯底（11）的第一側上提供，并且形成凹口的步驟包括局部地移除電介質層21的部分。

3.?依照權利要求2的方法，其中在電介質層（21）內形成凹口的步驟包括步驟：

-?將第一材料移除束（91a）定向到這樣的方向，使得隔離結構（13）阻止第一材料移除束（91a）撞擊單元（15，16；31）的第一段（92a）之外的電介質層（21）；

-?將第二材料移除束（91b）定向到這樣的方向，使得隔離結構（13）阻止第二材料移除束（91b）撞擊單元（15，16；31）的第二段（92b）之外的電介質層（21），該第二段與第一段（92a）不同并且在與電介質層（21）的所述部分相應的單元區域中與第一段（92a）重疊。

4.?依照前面的權利要求中任何一項的方法，其中第二電極（17）預先在第二襯底（12）上形成，并且提供第二光學透明襯底（12）的步驟包括步驟：

-?調整第二電極（18）以便相對于電介質層（21）中的凹口側向偏移；以及

-?將第二襯底（12）附接到第一襯底（11）。

5.?一種外觀修改設備（10；30），用于修改由其覆蓋的表面的外觀，包括：

-?第一襯底（11），其具有設置在其第一側上的第一電極層（17），該第一電極層（17）被電介質層（21）覆蓋；

-?第二襯底（12），其與第一襯底（11）的第一側相對地設置；

-?隔離結構（13），其將第一襯底（11）和第二襯底（12）隔開，使得第一襯底（11）和第二襯底（12）之間的空間被劃分成多個單元（15，16；31）；

-?在每個單元（15，16；31）中，具有其中散布的多個顆粒（20）的光學透明流體（19），這些顆粒（20）可通過施加電場而在流體（19）中運動；以及

-?至少通過電介質層（21）與第一電極（17）層隔開的第二電極（18），

-?其中在每個單元（15，16；31）中，電介質層（21）具有在其中形成的凹口；并且

-?其中每個單元（15，16；31）內的顆粒（20）的分布可通過在所述電極（17，18）之間施加電壓而被控制從第一散布狀態到其中鄰近電介質層（21）中的凹口和第二電極（18）中的至少一個地集中顆粒（20）的第二狀態。

6.?依照權利要求5的外觀修改設備，其中第二電極（18）設置在第一襯底（11）第一側上的電介質層（21）上。

7.?依照權利要求5或6的外觀修改設備，其中隔離結構（13）的至少一部分是導電的并且形成第二電極（18）。

8.?依照權利要求5的外觀修改設備，其中第二電極（18）預先在第二襯底（12）上形成。

9.?依照權利要求5-8中任何一項的外觀修改設備（10；30），其中在每個單元（15，16；31）中，電介質層（21）具有在其中形成的至少兩個凹口。