[發明專利]液晶顯示裝置的制造方法及其制造裝置

有效

• 申請號: 200980112848.0
• 申請日: 2009-04-02
• 公開（公告）號: CN101990651A
• 公開（公告）日: 2011-03-23
• 發明（設計）人: 梶山康一;水村通伸;橋本和重
• 申請（專利權）人: 株式會社V技術
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所 31210
• 代理人: 徐申民

技術領域

本發明涉及一種在對封入有液晶的液晶顯示用基板上施加電場的狀態下照射紫外線使得液晶分子被定向于規定方向的液晶顯示裝置的制造方法，具體來說，涉及一種目的是為了防止液晶吸收紫外線后發熱至高溫以達到液晶分子的定向穩定化，同時提高液晶顯示裝置的制造效率的液晶顯示裝置的制造方法及其制造裝置。

背景技術

以往的這樣的液晶顯示裝置的制造方法為，在一對基板間封入液晶中混合了單體的液晶材料，在對該基板間施加電壓使得液晶分子傾斜的狀態下照射紫外線，聚合所述單體使其聚合體化，以規定液晶分子的定向方向(例如，參照專利文獻1)。

這樣的液晶顯示裝置的制造方法與通過摩擦處理定向膜使得液晶分子被定向于規定方向的方法相比，由于能夠以非接觸方式使得液晶分子定向，因此能夠抑制缺陷的發生。

現有的專利文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2003-228050號公報

發明內容

發明所要解決的技術問題

但是，這種以往的液晶顯示裝置的制造方法中，有時液晶會吸收紫外線發熱至80℃以上，恐怕會造成液晶的透過光和遮斷光的切換功能消失而無法正確顯示圖像這樣的不良情況。

對于液晶的發熱問題，雖然能夠對紫外線的照射時間進行分割即每隔一定的時間進行應對，但是這樣會導致液晶顯示裝置的制造效率下降的問題。

因此，本發明為了解決這樣的問題，其目的在于提供一種能夠抑制液晶吸收紫外線發熱至高溫以獲得液晶分子定向的穩定化，同時提高液晶顯示裝置的制造效率的液晶顯示裝置的制造方法及其制造裝置。

解決問題的手段

為達到上述目的，第一發明涉及一種液晶顯示裝置的制造方法，其在對在TFT基板和相對電極基板之間以矩陣狀形成多個像素并密封有液晶的液晶顯示用基板的所述各像素施加了電場的狀態下，對所述液晶顯示用基板照射規定波長的光，使得所述液晶的分子定向于規定方向，其包括：將所述液晶顯示用基板和燈體以相互相對的狀態浸入到具有規定值以上的電阻率并對所述光具有充分的高透過率的透明液體中的步驟；和在對所述各像素施加了規定量的電場的狀態下點亮所述燈體并對所述液晶顯示用基板照射規定光量的所述光的步驟。

通過這樣的結構，將在TFT基板和相對電極基板之間以矩陣狀形成多個像素并密封有液晶的液晶顯示用基板和發射規定波長的燈體以相對的狀態下浸入到具有規定值以上的電阻率并對所述光具有充分的高透過率的透明液體中，在對所述各像素施加了規定量的電場的狀態下，點亮所述燈體并對所述液晶顯示用基板照射規定光量的所述光，使得液晶的分子定向于規定方向。

又，液體是純水，這樣能夠容易地獲得具有規定值以上的電阻率并對所述光具有充分的高透過率的透明液體。

第二發明涉及一種液晶顯示裝置的制造方法，其在對在TFT基板和相對電極基板之間以矩陣狀形成多個像素并密封有液晶的液晶顯示用基板的所述各像素施加了電場的狀態，對所述液晶顯示用基板照射規定波長的光，使得所述液晶的分子定向于規定方向，其包括：使得所述液晶顯示用基板的一面與冷卻介質接觸的步驟；在對所述各像素施加了規定量的電場的狀態下對所述液晶顯示用基板照射規定光量的所述光的步驟。

通過這樣的結構，使得在TFT基板和相對電極基板之間以矩陣狀形成多個像素并密封有液晶的液晶顯示用基板的一面與冷卻介質接觸，在對所述各像素施加了規定量的電場的狀態下對所述液晶顯示用基板照射規定光量的規定波長的光，使得液晶的分子在規定方向定向。

在照射所述光的步驟中，從所述相對電極基板側向所述液晶顯示用基板照射光。這樣，能夠從相對電極基板側對液晶顯示用基板照射規定波長的光。

進一步的，在使所述液晶顯示用基板的一面與冷卻介質接觸的步驟中，使得所述TFT基板的與所述相對電極基板側相反側的面與所述冷卻介質接觸。這樣，使得液晶顯示用基板的TFT基板的與相對電極基板側相反側的面與冷卻介質接觸以使得液晶顯示用基板冷卻。

在進行了對所述液晶顯示用基板照射規定光量的光的步驟之后，進一步進行在除去了對所述各像素的電場施加的狀態下對所述液晶顯示用基板照射規定光量的所述光的步驟。這樣，在對各像素施加了規定量的電場的狀態下點亮燈體并對液晶顯示用基板照射規定光量的光之后，在除去了對所述各像素的電場施加的狀態下點亮燈體對液晶顯示用基板照射規定光量的光。