[發明專利]用于電子電路制造的設備和方法

無效

• 申請號: 200980109547.2
• 申請日: 2009-03-17
• 公開（公告）號: CN101978802A
• 公開（公告）日: 2011-02-16
• 發明（設計）人: 凱維恩·巴里·喬納斯;若弗雷·麥克法蘭
• 申請（專利權）人: 瑞尼斯豪公司
• 主分類號: H05K13/00
• 分類號: H05K13/00;H05K13/04;B23K37/04
• 代理公司: 北京金思港知識產權代理有限公司 11349
• 代理人: 邵毓琴

1.一種用在制造非平面電路模塊中的設備，包括：

用于保持非平面電路模塊的保持件；

用于致動由所述保持件所保持的非平面電路模塊的一個或多個局部區域的致動源；

用于提供所述致動源與由所述保持件所保持的非平面電路模塊之間的相對運動的定位裝置；

其中所述致動源與由所述保持件所保持的非平面電路模塊之間的所述相對運動包括沿著至少一個軸線的平移運動以及圍繞至少一個軸線的旋轉運動。

2.如權利要求1所述的設備，其特征在于，所述定位裝置包括用于移動所述致動源的定位器件，其中所述定位器件包括平行定位機器。

3.如前面任何權利要求所述的設備，其特征在于，所述致動源包括用于加熱由所述保持件所保持的非平面電路模塊的一個或多個局部區域的加熱源。

4.如前面任何權利要求所述的設備，其特征在于，所述致動源包括定向輻射源，用于將輻射引導至由所述保持件保持的非平面電路模塊的一個或多個局部區域。

5.如權利要求4所述的設備，其特征在于，所述定向輻射源包括頻率捷變敞開端微波腔。

6.如前面任何權利要求所述的設備，其特征在于，由所述保持件保持的非平面電路模塊包括非平面基片，所述非平面基片由所述保持件保持。

7.如權利要求6所述的設備，其特征在于，由所述保持件所保持的非平面基片包括兩個或多個部件安裝表面，其中所述兩個或多個部件安裝表面的每一個位于不同的平面中。

8.如權利要求6或7所述的設備，其特征在于，所述非平面基片包括至少一個曲形部件安裝表面。

9.如權利要求6-8中任何一個所述的設備，其特征在于，由所述保持件所保持的非平面電路模塊進一步包括沉積在所述非平面基片上的流體，其中所述致動源可以致動所述被沉積的流體。

10.如權利要求9所述的設備，其特征在于，所述流體包括焊膏并且所述致動源被布置成熔化所述焊膏。

11.如前面任何權利要求所述的設備，其特征在于，所述定位裝置包括沿著多個軸線平移所述致動源的定位器件。

12.如前面任何權利要求所述的設備，其特征在于，所述保持件形成所述定位裝置的一部分，其中所述保持件包括一傾斜機構，所述傾斜機構使得由所述保持件保持的非平面電路模塊圍繞至少一個軸線傾斜。

13.如前面任何權利要求所述的設備，進一步包括用于將流體分配到由所述保持件保持的非平面電路模塊上的流體分配器。

14.如前面任何權利要求所述的設備，進一步包括部件拾取器件，用于拾取所述部件并且將所述部件放置在由所述保持件保持的非平面電路模塊上。

15.如前面任何權利要求所述的設備，其特征在于，所述致動源被可釋放地附接至所述定位裝置。

16.一種用在制造電路模塊中的設備，包括：

用于保持電路模塊的保持件；

用于加熱所述電路模塊上的材料的一個或多個局部區域的加熱源；

用于提供所述加熱源與由所述保持件所保持的電路模塊之間的相對運動的定位裝置；

其中所述加熱源與由所述保持件所保持的電路模塊之間的相對運動包括沿著至少一個軸線的平移運動以及圍繞至少一個軸線的旋轉運動。

17.一種制造非平面電路模塊的方法，所述方法包括以下步驟：

(i)獲取一非平面電路模塊；以及

(ii)使一致動源進入相對于所述非平面電路模塊的操作位置，并且應用所述致動源致動所述非平面電路模塊的一個或多個局部區域，

其中步驟(ii)包括應用定位裝置相對于所述非平面電路模塊移動致動源的步驟，其中所述致動源與由所述保持件保持的非平面電路模塊之間的相對運動包括沿著至少一個軸線的平移運動以及圍繞至少一個軸線的旋轉運動。

18.如權利要求17所述的方法，其特征在于，步驟(ii)包括移動所述致動源的步驟以及傾斜所述非平面電路模塊的步驟。

19.如權利要求17或18所述的方法，其特征在于，步驟(i)包括獲取包括非平面基片的非平面電路模塊的步驟，所述非平面電路基片具有沉積在其上的流體。