[發明專利]靶材、源、EUV光刻設備和使用該設備的器件制造方法

有效

• 申請號: 200980109474.7
• 申請日: 2009-03-20
• 公開（公告）號: CN101978791A
• 公開（公告）日: 2011-02-16
• 發明（設計）人: V·M·克里夫特遜;V·Y·班尼恩;A·J·布里克;V·V·伊萬諾夫;K·N·克什烈夫;J·H·J·莫爾斯;S·丘里洛夫;D·格盧什科夫
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: H05G2/00
• 分類號: H05G2/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王波波

相關申請的交叉引用

本申請要求于2008年3月21日申請的美國臨時申請61/064?720的權益，且在此處通過引用將其全部內容并入本文中。

技術領域

本發明涉及靶材、源以及包括釓或鋱的EUV光刻設備，以及使用該設備的器件制造方法。

背景技術

光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底上(通常應用到所述襯底的目標部分上)的機器。例如，可以將光刻設備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩?；蜓谀０娴膱D案形成裝置用于生成待形成在所述IC的單層上的電路圖案。可以將該圖案轉移到襯底(例如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。典型地，經由成像將所述圖案轉移到在所述襯底上設置的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。通常，單個襯底將包含連續形成圖案的相鄰目標部分的網絡。公知的光刻設備包括：所謂步進機，在所述步進機中，通過將整個圖案一次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標部分；以及所謂掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向同步掃描所述襯底來輻射每一個目標部分。還可以通過將所述圖案壓印到所述襯底上，而將所述圖案從所述圖案形成裝置轉移到所述襯底上。

具體地，已知光刻設備利用在13.5nm范圍內或甚至在6.8nm范圍內的輻射。對于后者，釓(Gd)靶或包括釓復合物的靶是已知的。例如，美國專利申請公開出版物No.2006/0133574A1描述了具有被構想用以產生6.8nm的束的Gd靶的光刻設備，其中6.8nm的輻射通過使用激光產生等離子體(LPP)來產生。為了使EUV光發射區域的激光吸收區域更緊密或使得它們交疊，已知的Gd靶被配置成具有釓或其復合物(例如氧化釓)的晶體密度的0.5％-80％的范圍內的密度。

發明內容

由于Gd的熔化溫度高(其大約是1313℃)，所以技術上要求已知的光刻設備產生釓的液滴，以產生激光產生等離子體。另外，密度減小的Gd靶不適合與不同的EUV輻射產生裝置或輻射發生器一起使用。

本發明的一個方面是提供一種靶材，所述靶材將被用在被構造且被布置以在光刻設備中使用的源中，其相對于輻射產生裝置或輻射發生器來說可能是通用的。

根據本發明的一個方面，提供了一種靶材，用于被構造且被布置以產生具有在極紫外范圍中的波長的輻射束的源中。所述靶材包括基于Gd的合成物，所述基于Gd的合成物被配置以改變Gd的熔化溫度。

靶材可以包括多個預先制造的固體滴(solid?droplet)。為了形成這些液滴，基于Gd的合成物可以內嵌在結合料中，用于形成固體滴。Gd合成物可以包括Gd共晶合金的膠體復合物。

所述合成物可以被配置以降低Gd的熔化溫度?？商娲?，所述合成物可以被配置成升高Gd的熔化溫度。被配置成增加Gd的熔化溫度的這樣的合成物可以包括具有非金屬(例如B，P，Se，As，S，Te，Sb，N，O，C或Si)的Gd合金。

根據本發明的一個方面，提供了一種用于光刻設備的源，所述源包括如上述靶材。

根據本發明的一個方面，提供了一種光刻設備，所述光刻設備包括參考前述進行描述的源。輻射束可以通過使用激光產生等離子體(LPP)源或放電產生等離子體(DPP)源來產生。

光刻設備還可以包括：照射系統，所述照射系統被配置以調節所述輻射束；支撐件，所述支撐件被配置以支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在所述輻射束的橫截面中將圖案賦予輻射束，以形成圖案化的輻射束；襯底臺，所述襯底臺被構造以保持襯底；和投影系統，所述投影系統被配置以將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上。

根據本發明的一個方面，提供了一種器件制造方法，所述方法包括：將圖案化的輻射束投影到襯底上。所述輻射通過使用靶材來產生，所述靶材包括被配置成改變Gd的熔化溫度的基于Gd的合成物。

根據本發明的一個方面，提供了一種器件制造方法，所述方法包括：將圖案化的輻射束投影到襯底上。所述輻射通過使用包括被配置成多個預先制造的固體滴的Gd的靶材來產生。所述多個預先制造的固體滴可以包括被構造成改變Gd的熔化溫度的Gd合成物。

根據本發明的一個方面，提供了一種器件制造方法，所述方法包括：將圖案化的輻射束投影到襯底上。所述輻射通過使用包括鋱的靶材來產生。

根據本發明的一個方面，提供了一種輻射源，所述輻射源包括：基于Gd的合成物，其被配置成改變Gd的熔化溫度；和激光源，所述激光源被配置成將激光束傳遞至靶材，以產生輻射束。