[發明專利]用來輸送扁平的輸送物品的、具有至少一個傳送帶的傳送帶系統及方法無效
| 申請號: | 200980109116.6 | 申請日: | 2009-01-26 |
| 公開(公告)號: | CN101971320A | 公開(公告)日: | 2011-02-09 |
| 發明(設計)人: | J·格熱拉克 | 申請(專利權)人: | 約納斯雷德曼自動化技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 沈英瑩 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用來 輸送 扁平 物品 具有 至少 一個 傳送帶 系統 方法 | ||
1.一種用來在傳送帶系統的至少一個傳送帶上輸送扁平的輸送物品方法,所述輸送物品尤其是基片、如硅晶片和太陽能電池,其中所述基片至少循環地在輸送過程中被吸附地保持在傳送帶的傳送表面上,其特征在于,沿著傳送帶的皮帶的兩個在輸送方向上延伸的縱向邊緣中的至少一個,在多個相互間隔距離的位置上借助于由流體系統對壓縮流體、例如壓縮空氣進行受控制的引導分別生成基于伯努利效應的負壓,并且所述基片通過在皮帶的縱向邊緣上的各個位置上構成的、在大氣壓力和在各個位置上生成的負壓之間的壓力差均勻地貼緊地保持在具有支承面的傳送帶的傳送表面上。
2.按權利要求1所述的方法,其特征在于,在基片的輸送過程中,在皮帶的縱向邊緣上的、基于伯努利效應分別形成要負壓的多個位置中,只有一定數量的位置持續地通過壓縮空氣供給來控制,用來分別生成基于伯努利效應的負壓,所述一定數量的位置在基片的輸送過程中在輸送方向上依次地在任何時刻分別被一個基片遮蓋,其中在基片的輸送過程中,在遮蓋在輸送方向上緊接著的位置的情況下在皮帶的縱向邊緣上通過每個基片的在輸送方向上的前方邊緣,通過壓縮空氣的供給來自動地觸發緊隨其后的位置的控制,并且分別在相應緊接著由相應的基片的沿輸送方向位于后面的邊緣在其輸送的過程中被暴露出來的縱向邊緣的位置上切斷壓縮空氣的供給。
3.按權利要求1和2之任一項所述的方法,其中基片在具有環繞的連續皮帶的傳送帶上傳送,其特征在于,既沿著所述連續皮帶的上方支承面的縱向邊緣,也沿著傳送帶的連續皮帶的、反向運動的下方支承面的縱向邊緣,在縱向邊緣上的多個彼此間隔距離的位置上分別生成基于伯努利效應的負壓,所述伯努利效應由壓縮流體的流體引導而造成,并且所述基片沿相應的輸送方向在多個位置上分別借助于在大氣壓力和在相應的位置上生成的負壓之間的壓力差以所述基片的支承面均勻地貼緊地保持在連續皮帶的上方支承面以及下方支承面上。
4.按權利要求1至3之任一項所述的方法,其中通過具有兩個相互平行的運動方向相同的傳送帶的傳送帶系統輸送所述基片,其中兩個所述傳送帶的相對置的端部部段相互重疊并且相互間隔距離地設置,其特征在于,通過分別在下方傳送帶以及上方傳送帶的皮帶的縱向邊緣上的相應位置上交互地產生負壓,使在下方傳送帶的傳送表面上輸送的基片轉移到上方傳送帶的相對置的傳送表面上,緊貼并且吸附地保持在所述上方傳送帶的相對置的傳送表面上。
5.按權利要求1至4之任一項所述的方法,其特征在于,沿著傳送帶的皮帶的兩個在輸送方向上延伸的縱向邊緣,分別在相互相應的位置上生成基于伯努利效應的負壓。
6.按權利要求1至5之任一項所述的方法,其特征在于,在皮帶的每個縱向邊緣上生成基于伯努利效應的負壓的各位置之間的間隔選擇成相同大小的。
7.按權利要求1至6之任一項所述的方法,其特征在于,在皮帶的每個縱向邊緣上的相應位置上形成的、基于伯努利效應的負壓以相同的強度生成。
8.按權利要求1至7之任一項所述的方法,其特征在于,計算機控制地實現借助于所述流體系統來調整壓縮空氣的供給,用來在傳送帶的皮帶的縱向邊緣上的多個位置的每一個上生成基于伯努利效應的負壓。
9.一種傳送帶系統(1),包括:
至少一個傳送帶(2),用來輸送扁平的輸送物品,尤其是基片(3)、如硅晶片和太陽能電池
抽吸裝置(4),所述基片(3)至少循環地在輸送過程中被所述抽吸裝置(4)吸附地保持在所述至少一個的傳送帶(2)的傳送表面(5)上,
其特征在于,
沿著傳送帶(2)的皮帶(8)的兩個在輸送方向(6)上延伸的縱向邊緣(7)中的每一個,在相互相應的位置上分別設置生成伯努利效應的裝置(4)的至少一個腔室(10)的至少一個流出孔(9),
壓縮流體(11)、如壓縮空氣通過至少一個流入孔(12)輸送給腔室(10),所述流入孔的橫截面大于腔室(10)的流出口(9)的橫截面,并且
所述基片(3)借助于在大氣壓力和負壓之間的壓力差面接觸地、均勻地、貼緊地保持在傳送帶(2)的傳送表面(5)上,所述負壓通過沿著傳送帶(2)的皮帶(8)的縱向邊緣(7)由伯努利抽吸裝置(4)產生的伯努利效應來引起。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





