[發(fā)明專利]具有熱膨脹平衡層或加強層的微機電裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980105948.0
• 申請日: 2009-02-11
• 公開（公告）號: CN101952194A
• 公開（公告）日: 2011-01-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 紹里·古德拉瓦萊蒂;克拉倫斯·徐
• 申請（專利權(quán)）人: 高通MEMS科技公司
• 主分類號: B81B3/00
• 分類號: B81B3/00;G02B26/00
• 代理公司: 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287
• 代理人: 宋獻濤

背景技術(shù)

微機電系統(tǒng)(MEMS)包括微機械元件、激活器及電子設(shè)備。可使用沉積、蝕刻及/或其它蝕刻掉襯底及/或沉積材料層的部分或添加層以形成電及機電裝置的微機械加工工藝來產(chǎn)生微機械元件。一種類型的MEMS裝置被稱為干涉式調(diào)制器。在本文中使用時，術(shù)語干涉式調(diào)制器或干涉光調(diào)制器意指使用光學(xué)干涉原理選擇性地吸收及/或反射光的裝置。在某些實施例中，干涉式調(diào)制器可包含一對導(dǎo)電板，其中的一者或二者可整體或部分地是透明及/或反射的，且能夠在施加適當(dāng)電信號后發(fā)生相對運動。在特定實施例中，一個板可包含沉積在襯底上的固定層，且另一板可包含通過氣隙與固定層分離的金屬薄膜。如本文更詳細描述，一個板相對于另一板的位置可改變?nèi)肷湓诟缮媸秸{(diào)制器上的光的光學(xué)干涉。所述裝置具有廣泛應(yīng)用，且利用及/或修改這些類型裝置的特性使得其特征可用以改進現(xiàn)有產(chǎn)品和產(chǎn)生尚未開發(fā)的新產(chǎn)品在此項技術(shù)中將是有利的。

發(fā)明內(nèi)容

在特定實施例中，一種裝置包含電極、固定至少部分反射體、可移動柔性層及耦合到所述可移動柔性層的可移動至少部分反射體。干涉調(diào)制腔由所述可移動反射體及所述固定反射體界定。所述可移動反射體可在至少第一位置與第二位置之間移動的。所述裝置還包含在所述可移動柔性層的與所述可移動反射體相對的一側(cè)上的熱膨脹平衡層。在所述可移動反射體的熱膨脹系數(shù)大于所述可移動柔性層的熱膨脹系數(shù)的情況下，所述熱膨脹平衡層具有大于或等于所述可移動柔性層的熱膨脹系數(shù)的熱膨脹系數(shù)，或在所述可移動反射體的所述熱膨脹系數(shù)小于所述可移動柔性層的熱膨脹系數(shù)的情況下，所述熱膨脹平衡層具有小于或等于所述可移動柔性層的熱膨脹系數(shù)的熱膨脹系數(shù)。

在特定實施例中，一種裝置包含電極、固定至少部分反射體、可移動柔性元件、可移動至少部分反射體及加強層。所述加強層耦合到所述可移動柔性元件。在所述可移動反射體與所述加強層彼此接觸的至少一個表面上存在至少一個中空空隙。干涉調(diào)制腔由所述可移動反射體及所述固定反射體界定。

在特定實施例中，一種裝置包含用于反射光的第一裝置、用于反射光的第二裝置及用于移動的柔性裝置。所述第二反射裝置耦合到所述用于移動的裝置。干涉調(diào)制腔由所述第二反射裝置及所述第一反射裝置界定。所述第二反射裝置可在至少第一位置與第二位置之間移動。所述裝置還包含提供在所述用于移動的裝置的與所述第二反射裝置相對的一側(cè)上的用于平衡熱膨脹的裝置。在所述第二反射裝置的熱膨脹系數(shù)大于所述用于移動的裝置的熱膨脹系數(shù)的情況下，所述用于平衡熱膨脹的裝置具有大于或等于所述用于移動的裝置的熱膨脹系數(shù)的熱膨脹系數(shù)，或在所述第二反射裝置的所述熱膨脹系數(shù)小于所述用于移動的裝置的熱膨脹系數(shù)的情況下，所述用于平衡熱膨脹的裝置具有小于或等于所述用于移動的裝置的熱膨脹系數(shù)的熱膨脹系數(shù)。

在特定實施例中，一種裝置包含用于反射光的第一裝置、用于反射光的第二裝置、用于操作性地移動所述第二反射裝置的裝置及用于加強所述第二反射裝置的裝置。所述加強裝置耦合到所述用于移動的裝置。在所述第二反射裝置與所述加強裝置彼此接觸的至少一個表面上存在至少一個中空空隙。干涉調(diào)制腔由所述第二反射裝置及所述第一反射裝置界定。

在特定實施例中，一種制造用于調(diào)制光的裝置的方法包含：形成第一至少部分反射體，形成可移動柔性層，形成耦合到所述可移動柔性層的可移動至少部分反射體。干涉調(diào)制腔由所述可移動反射體及所述第一反射體界定。所述可移動反射體可在至少第一位置與第二位置之間移動。所述方法還包含在所述可移動柔性層的與所述可移動反射體相對的一側(cè)上形成熱膨脹平衡層。在所述可移動反射體的熱膨脹系數(shù)大于所述可移動柔性層的熱膨脹系數(shù)的情況下，所述熱膨脹平衡層具有大于或等于所述可移動柔性層的熱膨脹系數(shù)的熱膨脹系數(shù)，或在所述可移動反射體的所述熱膨脹系數(shù)小于所述可移動柔性層的熱膨脹系數(shù)的情況下，所述熱膨脹平衡層具有小于或等于所述可移動柔性層的熱膨脹系數(shù)的熱膨脹系數(shù)。

在特定實施例中，一種制造用于調(diào)制光的裝置的方法包含形成第一至少部分反射體，形成可移動至少部分反射體，形成加強層，及形成可移動柔性元件。所述加強層耦合到所述可移動柔性元件。在所述可移動反射體與所述加強層彼此接觸的至少一個表面上存在至少一個中空空隙。干涉調(diào)制腔由所述可移動反射體及所述第一反射體界定。

附圖說明

本專利或申請案文件中包含至少一個以彩色執(zhí)行的圖式：如果提出請求并支付必要費用，專利局將提供本專利或?qū)＠暾埞_案的帶有彩色圖式的復(fù)本。