[實用新型]半反射半穿透可撓性基材非導電性多層膜結構有效
| 申請號: | 200920217522.1 | 申請日: | 2009-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN201604330U | 公開(公告)日: | 2010-10-13 |
| 發明(設計)人: | 孟秀英 | 申請(專利權)人: | 科專國際有限公司 |
| 主分類號: | B32B7/02 | 分類號: | B32B7/02;B32B27/06;B32B9/04;B32B15/04 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人: | 李柏 |
| 地址: | 中國臺灣臺北*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反射 穿透 可撓性 基材 導電性 多層 膜結構 | ||
技術領域
本實用新型是關于一種半反射半穿透可撓性基材非導電性多層膜結構,尤指一種可用于手機、PDA、筆記本計算機、隔熱紙及消費性電子產品的屏幕等的半反射半穿透可撓性基材非導電性多層膜結構。
背景技術
臺灣發明專利130672揭示了一種透明導電平板,尤其是指一種具有低電阻及高穿透率的透明導電平板,包括一位于一透明平的玻璃或塑料基板上的透明電絕緣膜,該電絕緣膜為單一或復數透明的電絕緣層所構成,其中至少有一層電絕緣層其可見光平均光學折射率低于1.4或大于1.8;及一位于該電絕緣膜上的導電膜,該導電膜為復數導電層所構成,其中所述導電層可以是金屬性或非金屬性物質,但其中至少一層導電層為金屬性物質,并且其余非金屬性物質為透明的;其中該電絕緣膜及導電膜所包含的電絕緣層及導電層的厚度、順序及可見光平均光學折射率被安排成在光學干涉原理下,使得該電絕緣膜及導電膜所形成的復合膜具有80%-95%的可見光平均穿透率。
臺灣發明專利226858揭示了一種薄板型導電膜結構,包括:一非導電透明玻璃或塑料基板;一位于該基板的一表面上的導電膜,該導電膜為復數導電層所構成,其中所述導電層可以是金屬性或非金屬性物質,但其中位于該基板的該表面的第一層導電層為該金屬性物質;其中該導電膜所包含的各導電層的厚度、順序及可見光平均光學折射率被安排成在光學干涉原理下,使得該電導電膜具有60%-95%的可見光平均穿透率。
以上兩件專利所揭示的結構均包含了導電膜,而其目的是提供一種用于平板顯示器,如液晶顯示器(LCD),電致發光顯示器(LED,TFEL,OLED等),電漿顯示器(PDP)等的透明導電基板,來取代一般使用的ITO玻璃基板。
臺灣發明專利238768揭示了一種塑料基材不導電金屬化的制造方法及其結構,主要是在塑料基材表面進行多層的金屬蒸鍍處理所達成,其中該金屬蒸鍍是利用金屬材料的物性,使金屬蒸鍍于塑料基材后能維持不導電的狀況;由此,透過該發明技術所制造的塑料基材表面可具有顯著的金屬光澤,但對于電磁波卻可保有不具遮蔽性的可通過特性;因此,在通訊器材的應用上,例如:在攜帶電話的外殼組件應用時,可達到不會對電磁波傳輸與接收造成吸收或反射等干擾,進而能夠維持高通訊品質的特性。此發明所使用的方法簡稱為“非導電真空金屬化”(NON-Conductive?Vacuum?Metallization,英文縮寫為NCVM)。
臺灣新型專利345705揭示了一種非導電性基材上高表面電阻高光澤金屬結構,包含一非導電性基材;位于其一表面上的一接口層;及配置于該接口層上的至少一光澤層。該光澤層上可進一步配置一功能層,該功能層包含一顏色層,及一配置于該顏色層上的保護層。此前案的主要目的在于提供一種非導電性基材上高電阻高光澤金屬結構,其是利用真空濺鍍(Sputtering)控制不同金屬膜厚與結構,除使得至少一光澤層產生具有高表面電阻及光澤提升外,亦可與其它金屬配置組合。
至目前為止,仍沒有先前技藝揭示一種半反射半穿透可撓性基材非導電性多層膜結構,其具有40%-59%的可見光平均穿透率及40%-59%的可見光平均反射率。
發明內容
本實用新型的一主要目的在于提供一種半反射半穿透可撓性基材非導電性多層膜結構,其具有30%-70%,較佳的40%-59%的可見光平均穿透率及30%-70%,較佳的40%-59%的可見光平均反射率。
本實用新型使用NCVM方式形成高表面電阻的金屬鍍膜及/或使用以溶膠凝膠法獲得高低折射率材料堆棧的膜,利用光學干涉原理達成一半反射與半穿透的效果,也可再利用最后一層的有機高分子層進行整體穿透率與反射率的調變達到穿透率(30-70%)與反射率(30-70%)同時并存的效果。
本實用新型所提供的一種半反射半穿透可撓性基材非導電性多層膜結構包含:
一非導電透明塑料基材;
一位于該基材的一表面上的非導電膜,該非導電膜為多數非導電層所構成,其中每一層非導電層具有大于1010Ω/□的表面電阻的金屬性物質或非金屬性物質;及
一位于該非導電膜上的有機高分子層;
其中該非導電膜所包含的各非導電層的厚度、順序及可見光平均光學折射率被安排成在光學干涉原理下,使得該半反射半穿透可撓性基材非導電性多層膜結構具有30%-70%,較佳的40%-59%,更佳的45%-50%的可見光平均穿透率及30%-70%,較佳的40%-59%,更佳的45%-50%的可見光平均反射率。
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