[實用新型]半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920217522.1 | 申請日： | 2009-09-25 |
| 公開（公告）號： | CN201604330U | 公開（公告）日： | 2010-10-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 孟秀英 | 申請（專利權(quán)）人： | 科專國際有限公司 |
| 主分類號： | B32B7/02 | 分類號： | B32B7/02;B32B27/06;B32B9/04;B32B15/04 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人： | 李柏 |
| 地址： | 中國臺灣臺北*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 反射 穿透 可撓性 基材 導(dǎo)電性 多層 膜結(jié)構(gòu) | ||
1.一種半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)，其特征是，包含：
一非導(dǎo)電透明塑料基材；
一位于該基材的一表面上的非導(dǎo)電膜，該非導(dǎo)電膜為多數(shù)非導(dǎo)電層所構(gòu)成，其中每一層非導(dǎo)電層具有大于1010Ω/□的表面電阻的金屬性物質(zhì)或非金屬性物質(zhì)；及
一位于該非導(dǎo)電膜上的有機高分子層；
該非導(dǎo)電膜所包含的各非導(dǎo)電層的厚度、順序及可見光平均光學(xué)折射率被安排成在光學(xué)干涉原理下，使得該半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)具有30％-70％的可見光平均穿透率及30％-70％的可見光平均反射率。
2.如權(quán)利要求1所述的半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)，其具有40％-59％的可見光平均穿透率及40％-59％的可見光平均反射率。
3.如權(quán)利要求1所述的半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)，其具有45％-50％的可見光平均穿透率及45％-50％的可見光平均反射率。
4.如權(quán)利要求1所述的半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)，其中位于該基材的該表面的第一層為金屬性物質(zhì)，該金屬性物質(zhì)為錫、鈦、鉻、銦、銀、Ni或銅。
5.如權(quán)利要求4所述的半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)，其中該金屬性物質(zhì)為銀。
6.如權(quán)利要求1所述的半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)，其中位于該基材的該表面的第一層為非金屬性物質(zhì)，該非金屬性物質(zhì)為二氧化鈦、五氧化二鉭、二氧化鎢、三氧化鎢，或硫化鋅。
7.如權(quán)利要求6所述的半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)，其中該非金屬性物質(zhì)為二氧化鈦。
8.如權(quán)利要求4或6所述的半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)，其中該非導(dǎo)電膜位于該基材的該表面的第一層的厚度為1-100nm，該非導(dǎo)電膜所包含的其它各非導(dǎo)電層的厚度為1-350nm，及該有機高分子層的厚度為1-100μm。
9.如權(quán)利要求8所述的半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)，其中該非導(dǎo)電膜包含該第一層金屬性物質(zhì)層，位于該第一層金屬性物質(zhì)層上的第一層低折射率層及位于該第一層低折射率層上的第一層高折射率層，其中該第一層低折射率層是選自二氧化硅、三氧化二鋁，及氟化鎂所組成的組中的一種，及該第一層高折射率層是選自二氧化鈦、五氧化二鉭、二氧化鎢、三氧化鎢，及硫化鋅所組成的組中的一種。
10.如權(quán)利要求8所述的半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)，其中該非導(dǎo)電膜包含該第一層金屬性物質(zhì)層，位于該第一層金屬性物質(zhì)層上的第一層高折射率層及位于該第一層高折射率層上的第一層低折射率層，其中該第一層低折射率層是選自二氧化硅、三氧化二鋁，及氟化鎂所組成的組中的一種，及該第一層高折射率層是選自二氧化鈦、五氧化二鉭、二氧化鎢、三氧化鎢，及硫化鋅所組成的組中的一種。
11.如權(quán)利要求8所述的半反射半穿透可撓性基材非導(dǎo)電性多層膜結(jié)構(gòu)，其中該非導(dǎo)電膜包含該第一層金屬性物質(zhì)層，位于該第一層金屬性物質(zhì)層上的第一層低折射率層，位于該第一層低折射率層上的第二層金屬性物質(zhì)層，位于該第二層金屬性物質(zhì)層上的第二層低折射率層，重復(fù)金屬性物質(zhì)層及低折射率層直到第n層低折射率層，位于該第n層低折射率層上的第n+1層金屬性物質(zhì)層，位于該n+1層金屬性物質(zhì)層上的第一層高折射率層，及位于該第一層高折射率層上的第n+1層低折射率層，其中n為3至10的整數(shù)，其中該第一層低折射率層至第n+1層是低折射率層獨立的選自二氧化硅、三氧化二鋁，及氟化鎂所組成的組中的一種，及該第一層高折射率層是選自二氧化鈦、五氧化二鉭、二氧化鎢、三氧化鎢，及硫化鋅所組成的組中的一種。
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