[實用新型]真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置

無效

• 申請號: 200920208833.1
• 申請日: 2009-09-17
• 公開（公告）號: CN201545906U
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發明（設計）人: 張清廉
• 申請（專利權）人: 寶山鋼鐵股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/02
• 代理公司: 上海集信知識產權代理有限公司 31254
• 代理人: 周成

1.一種真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，包括作為輔助電極的靶和與靶相連的升降調節機構，所述升降調節機構包括與靶相連的固定桿、升降臺、與升降臺相連的升降驅動部件，其特征在于：

在所述靶的下方設置一個用于遮擋反濺清洗物并也能夠起到輔助電極作用的遮擋部件。

2.如權利要求1所述的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，其特征在于：

所述遮擋部件上端設置一個旋轉調節機構，旋轉調節機構與遮擋部件相連接。

3.如權利要求2所述的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，其特征在于：

所述旋轉調節機構包括旋轉桿、軸承套、固定支架和旋轉驅動部件；所述旋轉桿下端與遮擋部件相連接，上端依次穿過軸承套、固定支架，并與旋轉驅動部件相連。

4.如權利要求3所述的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，其特征在于：

所述旋轉調節機構還包括一個旋轉限位部件，旋轉限位部件包括設于旋轉桿上部的定位銷、以及設于固定支架內側并與定位銷相對應的數個限位開關。

5.如權利要求3所述的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，其特征在于：

所述固定支架底部固定在所述升降臺上，所述軸承套穿過升降臺并相互連接固定。

6.如權利要求1所述的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，其特征在于：

所述遮擋部件為一遮擋板。