[實用新型]一種晶體倍頻器無效
| 申請號: | 200920139054.0 | 申請日: | 2009-06-23 |
| 公開(公告)號: | CN201417355Y | 公開(公告)日: | 2010-03-03 |
| 發明(設計)人: | 吳礪;凌吉武;盧秀愛;陳燕平 | 申請(專利權)人: | 福州高意通訊有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/35 | 分類號: | G02F1/35 |
| 代理公司: | 廈門市誠得知識產權代理事務所 | 代理人: | 方惠春;黃國強 |
| 地址: | 350014福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 晶體 倍頻器 | ||
技術領域
本實用新型涉及激光領域,尤其涉及晶體倍頻器領域。
背景技術
在激光領域,通過非線性晶體獲得短波長激光輸出已成常用方法,對連續光多采用腔內倍頻方式,其結構較復雜。對連續光腔外倍頻多采用環形腔結構,腔的控制十分困難,且基頻光單次通過非線性晶體,倍頻轉換效率低。在小信號近似情況下,倍頻效率與非線性晶體長度平方成正比,但非線性晶體通常價格昂貴同時尺寸很難做得很大。
中國專利公開號為CN1983745的技術方案提出一種結構使基頻光多次通過倍頻晶體,等效延長基頻光與倍頻光的作用距離,從而提高基頻光的倍頻轉換效率。由于該技術方案忽略了基波光與倍頻光垂直通過晶體時引起的基頻光與倍頻光相對相位問題,基頻光多次通過晶體時,諧波的輸出功率有的區域相消,有的區域相漲,不可能通過機械加工方法保證一致性,因此失去了實際應用意義。
實用新型內容
針對上述問題,才有本實用新型提出的必要性。本實用新型提出一種結構簡單合理,且易于加工的晶體倍頻器結構。
本實用新型采用如下技術方案:
本實用新型的晶體倍頻器,包括一非線性晶體,所述的非線性晶體的兩側設置有一組反射構件,反射構件的反射面均朝向所述的非線性晶體。進一步的,所述的反射構件上分布有多個反射面,相同光路的兩個反射面彼此垂直,將光路反射為上下平行且空間錯位的往返光路。
進一步的,所述的反射構件可以有兩種方式:所述的反射構件上鋸齒狀分布有多個反射面,相鄰反射面彼此垂直。或者,所述的反射構件上分布有2個反射面,所述的2個反射面彼此垂直,且反射構件的中部為鏤空以使出射光通過。
進一步的,所述的非線性晶體可以有兩種方式:所述的非線性晶體是2個膠合為一整體的等厚的且光軸對稱放置的非線性晶體。或者,所述的非線性晶體是1個一整體的非臨界相位匹配晶體。它可以是倍頻晶體,亦可是其他高次諧波晶體,如三倍頻,四倍頻,五倍頻或和頻晶體等。
進一步的,所述的反射面的光路中插入校正透鏡,以減少光束發散帶來光斑變大,但透鏡引入的基波與高次諧波位相差應滿足光強相增條件。或者,所述的反射面的光路中插入光楔位相補償片,用于消除基頻光和倍頻光由于反射自由空間光路過長時色散所引起的位相差,或是由于采用實心棱鏡作為折疊反射鏡時,基頻光與倍頻光間產生的位相差,以使激光通過激光器時倍頻光總是處在增長狀態。
本實用新型采用如上技術方案,具有結構簡單合理,易于加工的優勢,且由于是使光路多次通過非線性晶體,因此非線性晶體不需要做得很大,降低晶體倍頻器的成本。
附圖說明
圖1是本實用新型的實施例一的結構示意圖;
圖2是本實用新型的實施例二的結構示意圖;
圖3是本實用新型的實施例三的結構示意圖;
圖4是本實用新型的實施例四的結構示意圖。
具體實施方式
現結合附圖和具體實施方式對本實用新型進一步說明。
本實用新型的晶體倍頻器,包括一非線性晶體,所述的非線性晶體的兩側設置有一組反射構件,反射構件的反射面均朝向所述的非線性晶體。所述的反射構件上分布有多個反射面,相同光路的兩個反射面彼此垂直,將光路反射為上下平行且空間錯位的往返光路,這樣反復通過所述的非線性晶體。所述的反射構件和所述的非線性晶體可以有兩種方式。
參閱圖1所示的是本實用新型的實施例一結構示意圖。其中,1011、1012為等厚且光軸對稱放置的非線性晶體,它可以是倍頻晶體,亦可是其他高次諧波晶體,如三倍頻,四倍頻,五倍頻或和頻晶體等,并膠合成一個整體結構,1021、1022為一對第一種實施方式的反射構件,所述的反射構件上鋸齒狀分布有多個反射面,相鄰反射面彼此垂直。入射光1001通過非線性晶體1011、1012后,被反射構件1022的第一反射面反射到與之垂直的第二反射面,第二反射面再反射出光束1002,再次通過非線性晶體1012、1011,非線性晶體1012、1011的出射光束1002再被反射構件1021的第一反射面反射到與之垂直的第二反射面,第二反射面再反射出光束通過非線性晶體1011、1012,光路原理如此類推,直至出射光束100n。
等厚且光軸對稱放置的非線性晶體1012、1011可消去基波光通過非線性晶體1012、1011時由Work-off效應帶來基波與高次諧波之間的空間分離。
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