[實用新型]超快恢復二極管有效
| 申請號: | 200920132924.1 | 申請日: | 2009-06-16 |
| 公開(公告)號: | CN201438466U | 公開(公告)日: | 2010-04-14 |
| 發明(設計)人: | 譚楠;高燕輝 | 申請(專利權)人: | 深圳市晶導電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/861 | 分類號: | H01L29/861;H01L25/07;H01L23/12;H01L23/49;H01L23/48;H01L23/495;H01L23/02 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 何平 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 恢復 二極管 | ||
【技術領域】
本實用新型涉及一種超快恢復二極管。
【背景技術】
目前市場上應用的整流器件中,肖特基二極管反向恢復時間最短,可達到幾十ns,但是其反向擊穿電壓過小,基本上都在100V以內。在對反向擊穿電壓要求越來越高的電路中,傳統的肖特基二極管已經明顯不能滿足要求。
快恢復二極管(Fast?Recovery?Diode,FRD)是近年來問世的新型半導體器件,具有開關特性好、反向恢復時間短、正向電流大、體積小、安裝簡便等優點。快恢復二極管的反向恢復時間一般為幾百納秒,正向壓降約為0.6V,正向電流是幾安培至幾千安培,反向峰值電壓可達幾百至幾千伏。
雖然快恢復二極管的反向擊穿電壓比肖特基二極管大,但是反向恢復時間過長,因此仍然不能滿足實際工作的需要。
【實用新型內容】
有鑒于此,有必要針對上述問題,提供一種反向擊穿電壓高且反向恢復時間短的超快恢復二極管。
一種超快恢復二極管,包括框架及焊接在框架上的至少一個芯片,所述超快恢復二極管的反向恢復時間為20-40ns,反向擊穿電壓為180V-300V。
優選的,所述超快恢復二極管是單管。
優選的,所述超快恢復二極管還包括鍵合絲、第一引腳、第二引腳,所述第一引腳與框架是絕緣的,所述第二引腳與框架是導通的,所述芯片的陰極與框架連接,所述芯片的陽極通過鍵合絲與第一引腳連接。
優選的,所述超快恢復二極管還包括鍵合絲、第一引腳、第二引腳,所述第一引腳與框架是絕緣的,所述第二引腳與框架是導通的,所述芯片的陽極與框架連接,所述芯片的陰極通過鍵合絲與第一引腳連接。
優選的,所述超快恢復二極管是共陰對管。
優選的,所述超快恢復二極管還包括鍵合絲、第一引腳、第二引腳、第三引腳,所述至少一個芯片是第一芯片和第二芯片,所述第一引腳和第二引腳與框架是絕緣的,所述第三引腳與框架是導通的,所述第一芯片和第二芯片的陰極分別與框架連接,所述第一芯片的陽極通過鍵合絲與第一引腳連接,所述第二芯片的陽極通過鍵合絲與第二引腳連接。
優選的,所述超快恢復二極管是共陽對管。
優選的,所述超快恢復二極管還包括鍵合絲、第一引腳、第二引腳、第三引腳,所述至少一個芯片是第一芯片和第二芯片,所述第一引腳和第二引腳與框架是絕緣的,所述第三引腳與框架是導通的,所述第一芯片和第二芯片的陽極分別與框架連接,所述第一芯片的陰極通過鍵合絲與第一引腳連接,所述第二芯片的陰極通過鍵合絲與第二引腳連接,所述塑封外殼密封第一芯片、第二芯片及鍵合絲。
優選的,所述超快恢復二極管采用TO-220封裝。
上述超快恢復二極管的反向恢復時間為20-40ns,反向擊穿電壓為180V-300V,由此可見,上述超快恢復二極管的反向擊穿電壓比傳統的二極管要高,反向恢復時間比傳統的二極管要短,可以很好的滿足實際工作的需要。
【附圖說明】
圖1是超快恢復二極管的內部結構原理圖。
圖2是超快恢復二極管的示意圖。
圖3是超快恢復二極管的封裝成品圖。
【具體實施方式】
圖1是超快恢復二極管的內部結構原理圖。從內部結構看,超快恢復二極管可分成單管和對管。對管內部包含兩只快恢復二極管,根據兩只二極管接法的不同,又分為共陰對管和共陽對管。圖1(a)是單管的示意圖,圖1(b)是共陰對管的示意圖,圖3(c)是共陽對管的示意圖。
圖2是超快恢復二極管的示意圖。超快恢復二極管20包括框架21、芯片22、鍵合絲23、第一引腳24、第二引腳25、第三引腳26、塑封外殼(圖未示)。第一引腳24和第二引腳25與框架21是絕緣的,第三引腳26與框架21是導通的。
現以超快恢復二極管20為共陰對管的情況進行說明。兩個芯片22的陰極直接焊接在框架21上,兩個芯片22的陽極分別通過鍵合絲23與第一引腳24和第二引腳25連接。即第一引腳24和第二引腳25是超快恢復二極管20的陽極,第三引腳26是超快恢復二極管20的陰極。單管和共陽對管的情況可依此類推。
下面對超快恢復二極管20的生產工藝進行說明。
芯片22的生產工藝包括如下步驟:
(1)、一次擴散(封閉擴散):清洗干凈的原始硅片,1200~1250℃擴散爐恒溫擴散,采用99.9999%純家源擴散,表面濃度為1017~1018/cm3。
(2)、單面去P型:用磨片機磨掉擴散片的一面P型面。
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