[實用新型]一種用于測量非線性材料倍頻系數的裝置

無效

• 申請號: 200920120460.2
• 申請日: 2009-05-20
• 公開（公告）號: CN201408163Y
• 公開（公告）日: 2010-02-17
• 發明（設計）人: 潘雪豐;陶衛東;任偉鴿;譚炳輝
• 申請（專利權）人: 寧波大學
• 主分類號: G01N21/17
• 分類號: G01N21/17;G02F1/35
• 代理公司: 寧波奧圣專利代理事務所（普通合伙）
• 代理人: 程曉明

1、一種用于測量非線性材料倍頻系數的裝置，其特征在于包括泵浦激光源、分束器、分光計轉臺、基頻光探頭、倍頻光探頭、第一光纖光譜儀、第二光纖光譜儀和終端設備，所述的分光計轉臺上設置有用于置放被測樣品的樣品槽，所述的基頻光探頭與所述的第一光纖光譜儀通過第一光纖連接，所述的倍頻光探頭與所述的第二光纖光譜儀通過第二光纖連接，所述的第一光纖光譜儀和所述的第二光纖光譜儀分別與所述的終端設備連接，所述的泵浦激光源輸出的基頻光入射到所述的分束器上被分成反射基頻光和透射基頻光，所述的基頻光探頭探測到所述的反射基頻光，并將所述的反射基頻光傳輸給所述的第一光纖光譜儀，所述的第一光纖光譜儀探測所述的反射基頻光的光強信息并傳輸所述的反射基頻光的光強信息給所述的終端設備，所述的透射基頻光入射到所述的被測樣品上，所述的透射基頻光經所述的被測樣品倍頻后輸出倍頻光，所述的倍頻光探頭探測到所述的倍頻光，并將所述的倍頻光傳輸給所述的第二光纖光譜儀，所述的第二光纖光譜儀探測所述的倍頻光的光強信息并傳輸所述的倍頻光的光強信息給所述的終端設備。

2、根據權利要求1所述的一種用于測量非線性材料倍頻系數的裝置，其特征在于所述的分束器與所述的分光計轉臺之間設置有用于增強所述的透射基頻光的光強的聚焦透鏡，所述的透射基頻光通過所述的聚焦透鏡入射到所述的被測樣品上。

3、根據權利要求2所述的一種用于測量非線性材料倍頻系數的裝置，其特征在于所述的泵浦激光源采用輸出波長為1064nm的YAG激光器。

4、根據權利要求2所述的一種用于測量非線性材料倍頻系數的裝置，其特征在于所述的分束器為半透射半反射的反射片，所述的反射片與所述的基頻光的入射光路呈45度角。

5、根據權利要求2所述的一種用于測量非線性材料倍頻系數的裝置，其特征在于所述的第一光纖光譜儀的型號為HR4000，所述的第二光纖光譜儀的型號為USB4000。

6、根據權利要求2所述的一種用于測量非線性材料倍頻效應的裝置，其特征在于所述的終端設備為裝有現有的光纖光譜儀測試軟件的計算機。

7、根據權利要求1至6中任一項所述的一種用于測量非線性材料倍頻系數的裝置，其特征在于所述的被測樣品為被測非線性晶體粉末或參考晶體粉末，所述的參考晶體粉末為倍頻效應較大的碘酸鉀粉末或倍頻效應較小的尿素。