[實用新型]金屬射頻反應室

有效

• 申請號: 200920109665.0
• 申請日: 2009-06-30
• 公開（公告）號: CN201438453U
• 公開（公告）日: 2010-04-14
• 發明（設計）人: 劉薇;王廣明
• 申請（專利權）人: 北京七星華創電子股份有限公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型屬于一種硅片加工設備，具體的說是一種可用于刻邊機、清洗機的射頻工藝腔室，特別是用金屬如不銹鋼做腔體的耐腐蝕的射頻工藝腔室。

背景技術

傳統反應室內石英腔體易產生刻蝕使用壽命短，更換后需要重新進行真空檢測，過程復雜，成本高；電極在石英腔外，起輝后在大氣中電離空氣中的氧氣，產生臭氧，施加射頻后易產生泄露。因此，需要對傳統的石英腔體進行改進。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了解決上述問題，提出一種金屬射頻反應室，該射頻反應爐具有耐腐蝕、易維護能避免射頻泄露的特點。

本實用新型的目的是通過以下技術方案來實現的：金屬射頻反應室，設有腔體、電極板，其特征在于：所述腔體為不銹鋼材質的方形腔體，其前面設有不銹鋼門，腔體內壁的左右側面分別設有射頻電極板，所述腔體底部設有可轉動的工件托盤，工件托盤通過連接軸與腔體外的電機傳動連接，所述腔體內頂部設有多孔氣體導流板，腔體頂板上設有進氣孔，腔體底板上設有與真空泵連接的排氣管。所述腔體上設有工藝觀查窗和真空檢測口。

本實用新型主要由方形不銹鋼腔體，不銹鋼門、工藝觀查窗、勻流板、內置電極、射頻引入、旋轉機構和安全互鎖裝置組成。方形前開門結構，使用方便易操作，不銹鋼腔體不用更換，降低了后期維護成本。同時采用內置電極使射頻起輝在腔體內進行，反應與外殼隔離，工藝過程中反應產生的生成物通過泵抽入排氣系統，完全避免反應室射頻泄露。電機旋轉機構使片夾在反應室起輝時在其中按一定的速度旋轉，并在進氣勻流板的作用下均勻的與反應離子體發生化學反應達到均勻的刻蝕。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是本實用新型的正面剖視圖；

圖3是本實用新型的側面剖視圖。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的說明：實施例：參見附圖，金屬射頻反應室，設有腔體、電極板，所述腔體1為不銹鋼材質的方形腔體，其前面設有不銹鋼門2，腔體內壁的左右側面分別設有射頻電極板3.1、3.2，所述腔體底部設有可轉動的工件托盤4，工件托盤通過連接軸與腔體外的電機5傳動連接，所述腔體內頂部設有多孔氣體導流板6，腔體頂板上設有進氣孔7，腔體底板上設有與真空泵連接的排氣管8。所述腔體上設有工藝觀查窗10和真空檢測口9。

本實施例經試用效果非常好。