[實用新型]一種磁控濺射設備的陰極冷卻裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920094604.1 | 申請日: | 2009-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN201530858U | 公開(公告)日: | 2010-07-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊繼澤;劉萬學;張兵;王巍;程明輝;左騰;徐柏章;曲爽 | 申請(專利權)人: | 吉林慶達新能源電力股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;H01J37/02;H01J37/34;H01L31/18 |
| 代理公司: | 吉林省長春市新時代專利商標代理有限公司 22204 | 代理人: | 石岱 |
| 地址: | 136001 *** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 磁控濺射 設備 陰極 冷卻 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種冷卻裝置,具體的說是一種磁控濺射設備中對陰極靶材進行冷卻的裝置。
背景技術
在現(xiàn)有的太陽能電池生產(chǎn)過程中,通過磁控濺射設備對太陽能電池濺鍍Al層,磁控濺射原理簡要表述如下:在被濺射的陰極與陽極之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為氬氣),永久磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下,氬氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負高壓,從陰極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大,在陰極附近形成高密度的等離子體,氬離子在洛倫茲力的作用下加速飛向靶面,以很高的速度轟擊靶面,使靶材上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
如上所述,陰極靶材在工作過程中溫度很高,對其生產(chǎn)的影響很大,所以必須尋找一種方法,能有效的對靶材進行降溫,使靶材的溫度不至于太高,影響設備的正常運行。
發(fā)明內容
本實用新型的目的是要提供一種結構簡單合理,能夠有效的在磁控濺射設備中對陰極靶材進行冷卻的裝置。
本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的:該冷卻裝置包括倉體上壁、靶材、降溫板,所述的降溫板設置在倉體上壁和靶材之間,其中在降溫板的內部設置由冷卻水管道。
所述的降溫板內部設置的冷卻水管道包括兩條管道,其中兩條管道分別帶有進水口和出水口,冷卻水管道在降溫板的內部為“M”型排列。
本實用新型由于采用上述結構,從而能有效的對靶材進行降溫,使控濺射設備內太陽能電池的濺鍍效果得到很大程度的提高。
附圖說明
圖1為本實用新型整體結構示意圖
圖2為本實用新型俯視圖。
圖3為本實用新型圖2中A部分的剖面圖。
具體實施方式
由附圖所示:該冷卻裝置包括倉體上壁1、靶材2、降溫板3,所述的降溫板3設置在倉體上壁1和靶材2之間,其中在降溫板3的內部設置由冷卻水管道4。
所述的降溫板3內部設置的冷卻水管道4包括兩條管道,其中兩條管道分別帶有進水口5和6、出水口7和8,冷卻水管道4在降溫板3的內部為“M”型排列,冷卻水從進水口5和6進入后,沿M型冷卻水管道流動,最后從出水口7和8流出,在流動的時候帶走靶材2工作時產(chǎn)生的熱量,實現(xiàn)對靶材2的降溫作用。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





