[發明專利]壓印模具

無效

• 申請號: 200910301199.0
• 申請日: 2009-03-30
• 公開（公告）號: CN101852986A
• 公開（公告）日: 2010-10-06
• 發明（設計）人: 余泰成
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種壓印模具，特別是涉及一種用于壓印微小光學元件例如微鏡片的壓印模具。

背景技術

WLP(wafer?level?package)制程是目前新發展的相機鏡頭模組制作方式，其是采用與半導體制程相整合之鏡片堆棧方式或者雙面壓印方式，主要是利用壓印模具的壓印技術，利用非球面鏡片壓印模具在復制材料上壓印出非球面鏡片，然后再利用熱固化或者UV光固化，使非球面鏡片定型，然后再以堆棧方式或雙面壓印方式形成鏡頭，并且與后段影像處理器封裝制程整合，其制程之優點在于可大量生產光學鏡頭模組。

在壓印過程中，如果涂敷在基板上的復制材料多于壓印鏡片所需的復制材料，而無法將多余的復制材料排出，將會使得壓印模具不能完全與基板接觸，造成壓印成型的鏡片與原先的設計存在誤差，而無法達到鏡頭模組預定之性能。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種將多余復制材料排出的壓印模具。

一種壓印模具，其包括第一表面和設置在第一表面上的圖案部，所述圖案部邊緣具有向外開設的至少一個溝槽。

與現有技術相比，本發明實施例的壓印模具的圖案部邊緣具有溝槽，其一，在壓印過程中，溝槽可以釋放困在圖案部內的空氣，從而可防止氣泡的產生；其二，在壓印過程中，如果復制材料過多，其可作為流道使多余的復制材料排出或者儲存多余的復制材料使得壓印模具與基板完全接觸，進而減小壓印成型元件的厚度，使得鏡頭模組的性能達到預定之性能。

附圖說明

圖1是本發明第一實施例壓印模具的示意圖。

圖2是本發明第二實施例壓印模具的示意圖。

圖3是本發明第三實施例壓印模具的示意圖。

圖4是本發明第四實施例壓印模具的示意圖。

圖5至圖6是采用本發明第一實施例的壓印模具在基板上壓印成型鏡片的示意圖。

具體實施方式

下面將結合附圖對本發明作進一步詳細說明。

如圖1所示，第一實施例將以用于壓印微鏡片的壓印模具10為例進行說明。壓印模具10可以由硅、超硬金屬(如碳化鎢、碳化硅、氮化硅、碳化鈦或碳化鎢-鈷合金等)制成，其大小約為微鏡片尺寸的2至4倍。

壓印模具10具有一個表面11和設置在表面11上的圖案部12及四個溝槽13。圖案部12可用來成型球面鏡片或非球面鏡片，相應地，該圖案部12的形狀可根據需成型的鏡片形狀來決定。

表面11整體呈方形，圖案部12位于表面11的中心，溝槽13以圖案部12為中心對稱分布并一直延伸至表面11的邊緣。四個溝槽13相互垂直且交點為表面11的幾何中心O。

當然，溝槽13的數量并不限于四個，其可以大于四個，例如，五個、六個、七個等。

溝槽13功能主要包括：其一，在壓印過程，釋放困在圖案部12內的空氣，從而可防止氣泡的產生；其二，在壓印過程中，如果涂布在晶圓表面的復制材料過多，其可作為流道使部分多余材料排出或使多余的復制材料暫存在流道內以減小壓印成型元件的厚度。

如圖2所示，第二實施例的壓印模具20的結構與第一實施例壓印模具10的結構大致類似，其主要區別在于：壓印模具20除了包括圖案部22和四個溝槽23外，還具有十字形對準標記24。

圖案部22及對準標記24分別位于表面21的左下角及右上角處。當然，圖案部22與對準標記24的位置并不限于此，例如，對準標記24可以位于圖案部22之外的任何位置。

壓印時，對準標記24被相應轉印到基板上，在第二次、第三次等后續壓印時，通過對準標記24與被轉印的對準標記相互印證，從而在雙面壓印或者堆棧壓印時實現較高精度的對準，減小或消除偏心現象。

如圖3所示，第三實施例壓印模具30的結構與第二實施例壓印模具20的結構大致類似，其主要區別在于：壓印模具30的圖案部32邊緣設有三個形狀相同的溝槽33，且溝槽33延伸至靠近表面31邊緣的位置即停止。

如圖4所示，第四實施例壓印模具40具有一個表面41和設置在表面41上的圖案部42、兩個波浪形溝槽43和E字形對準標記44。溝槽43之間通過支溝槽45互連通。當復制材料剩余較多而溝槽43不能完全儲存時，支溝槽45可將多余的復制材料暫存其中。

當然，對準標記44也可以為I字形、F字形或者T字形等其他形狀。