[發(fā)明專利]離子注入裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910261623.3 | 申請(qǐng)日: | 2009-12-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101921990A | 公開(公告)日: | 2010-12-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 立道潤一;小野田正敏;織平浩一 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日新離子機(jī)器株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C23C14/48 | 分類號(hào): | C23C14/48 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290 | 代理人: | 李雪春;武玉琴 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 離子 注入 裝置 | ||
1.一種離子注入裝置,其特征在于,包括:
注入室,排氣成真空,被導(dǎo)入離子束;
托架,設(shè)置在所述注入室內(nèi),把照射所述離子束進(jìn)行離子注入的基板沿X方向保持在第一列和第二列兩列上;
托架驅(qū)動(dòng)裝置,能夠使所述托架處于水平狀態(tài),并位于基板交換位置;還能夠使所述托架處于立起狀態(tài),并在所述離子束的照射區(qū)域沿所述X方向往復(fù)直線驅(qū)動(dòng)所述托架;
第一加載互鎖機(jī)構(gòu)和第二加載互鎖機(jī)構(gòu),用于使所述基板在大氣一側(cè)與所述注入室內(nèi)之間進(jìn)出;
第一基板輸送裝置,具有第一臂和第二臂,兩個(gè)臂相互位于上下位置、并能夠以相同的中心線為中心相互獨(dú)立往復(fù)旋轉(zhuǎn),其中,第一臂把基板從所述第一加載互鎖機(jī)構(gòu)輸送到位于所述基板交換位置的所述托架的第一列上;第二臂把基板從位于所述基板交換位置的所述托架的第一列輸送到所述第一加載互鎖機(jī)構(gòu);以及
第二基板輸送裝置,具有第三臂和第四臂,兩個(gè)臂相互位于上下位置、并能夠以相同的中心線為中心相互獨(dú)立往復(fù)旋轉(zhuǎn),其中,第三臂把基板從所述第二加載互鎖機(jī)構(gòu)輸送到位于所述基板交換位置的所述托架的第二列上;第四臂把基板從位于所述基板交換位置的所述托架的第二列輸送到所述第二加載互鎖機(jī)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子注入裝置,其特征在于,
所述托架在所述第一列和所述第二列內(nèi)能夠分別把多個(gè)基板保持在多行上,
照射所述基板時(shí)的所述離子束經(jīng)過掃描或不經(jīng)過掃描的尺寸都能夠覆蓋保持在所述托架的多行上的基板,
所述第一基板輸送裝置的所述第一臂和所述第二臂能夠分別在與所述托架的第一列的多行對(duì)應(yīng)的位置上保持多個(gè)基板進(jìn)行輸送,
所述第二基板輸送裝置的所述第三臂和所述第四臂能夠分別在與所述托架的第二列的多行對(duì)應(yīng)的位置上保持多個(gè)基板進(jìn)行輸送,
所述第一加載互鎖機(jī)構(gòu)能夠在與保持在所述第一基板輸送裝置的所述第一臂或第二臂上的多個(gè)基板對(duì)應(yīng)的位置保持多個(gè)基板,
所述第二加載互鎖機(jī)構(gòu)能夠在與保持在所述第二基板輸送裝置的所述第三臂或第四臂上的多個(gè)基板對(duì)應(yīng)的位置保持多個(gè)基板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的離子注入裝置,其特征在于,所述離子注入裝置還包括中介裝置,所述中介裝置設(shè)置在所述基板交換位置,并具有:支承構(gòu)件,支承各所述基板,所述支承構(gòu)件相對(duì)于每一個(gè)基板具有多個(gè);以及升降裝置,統(tǒng)一使所述支承構(gòu)件升降,所述中介裝置對(duì)在位于所述基板交換位置的所述托架與所述第一臂至所述第四臂之間交接基板起到中介作用。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的離子注入裝置,其特征在于,所述基板是方形的基板。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的離子注入裝置,其特征在于,所述基板是圓形的基板。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的離子注入裝置,其特征在于,所述基板是方形的基板。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的離子注入裝置,其特征在于,所述基板是圓形的基板。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的離子注入裝置,其特征在于,
所述基板是方形的基板,
所述離子注入裝置還包括中介裝置,所述中介裝置設(shè)置在所述基板交換位置,并具有:(a)升降銷,支承各所述基板,所述升降銷相對(duì)于每一個(gè)基板具有多個(gè);(b)升降銷升降裝置,統(tǒng)一使所述升降銷升降;(c)扭轉(zhuǎn)導(dǎo)向件,支承各所述基板的角部,所述扭轉(zhuǎn)導(dǎo)向件相對(duì)于每一個(gè)基板具有多個(gè);(d)扭轉(zhuǎn)導(dǎo)向件轉(zhuǎn)動(dòng)裝置,統(tǒng)一使各基板用的所述扭轉(zhuǎn)導(dǎo)向件繞各基板中心僅轉(zhuǎn)動(dòng)規(guī)定的角度;以及(e)扭轉(zhuǎn)導(dǎo)向件升降裝置,統(tǒng)一使所述扭轉(zhuǎn)導(dǎo)向件升降,所述中介裝置對(duì)在位于所述基板交換位置的所述托架與所述第一臂至所述第四臂之間交接所述基板起到中介作用,并統(tǒng)一使保持在所述托架上的各基板的扭轉(zhuǎn)角成為規(guī)定角度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的離子注入裝置,其特征在于,所述托架包括多個(gè)靜電卡盤,所述多個(gè)靜電卡盤利用靜電分別吸附并保持各所述基板,所述靜電卡盤的平面形狀為方形,朝向與各所述基板的扭轉(zhuǎn)角對(duì)應(yīng)的方向被固定。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





