[發明專利]一種半導體設備用鋁合金及其制備方法有效
| 申請號: | 200910241945.1 | 申請日: | 2009-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN101792877A | 公開(公告)日: | 2010-08-04 |
| 發明(設計)人: | 許小靜;閆曉東;湯振雷 | 申請(專利權)人: | 北京有色金屬研究總院 |
| 主分類號: | C22C21/08 | 分類號: | C22C21/08;C22C1/03;B22D1/00;B22D11/049 |
| 代理公司: | 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100 | 代理人: | 耿小強 |
| 地址: | 100088 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 半導體 備用 鋁合金 及其 制備 方法 | ||
1.一種半導體設備用鋁合金的制備方法,其步驟如下:
(1)原料檢驗:對原料成分進行檢驗;
(2)熔煉:首先將0.3~0.67wt%Al-Ti中間合金、1.9~3.75wt%Al-Si中間合金 和93.23~96.525wt%金屬Al裝入熔煉爐內,在大氣條件下熔煉,待合金熔化后,在 650-700℃加入0.10~0.15wt%電解Cu,在700-800℃加入0.05~0.33wt%的Cr劑 和0.125~0.67wt%的Mn劑,最后加入1.00~1.20wt%金屬Mg,原料軟化坍塌后進 行攪拌,表面采用覆蓋劑進行覆蓋;所述的Cr劑為Cr粉、助熔劑和鋁粉,所述的 Mn劑為Mn粉、助熔劑和鋁粉;所述的Cr劑中,Cr為60~80wt%,Mn劑中Mn為 60~80wt%;所述的Al-Ti中間合金中Al含量為95~97wt%,Ti含量為3~5wt%;Al-Si 中間合金中Al含量為70~80wt%,Si含量為20~30wt%;金屬Al的純度為99.7~99.99 wt%,電解Cu的純度為99.8~99.99wt%;
(3)爐前分析:溫度達到700~800℃時并經充分攪拌后取樣進行爐前分析;
(4)成分調整:依爐前分析結果進入下道工序或進行調整添加合金成分,使 合金的組分和重量配比如下:Mg?1.00~1.20%、Si?0.58~0.75%、Mg/Si?1.6~1.73、 Cu?0.10~0.15%、Cr?0.04~0.20%、Mn?0.10~0.40%、Ti?0.015~0.02%、Fe≤0.3%, 余量為Al,然后再次進行成分分析直至合格后靜止10~20分鐘;
(5)導爐:組織成分合格后將合金溶液從熔煉爐導入保溫爐,保溫溫度730~750 ℃;
(6)精煉除氣、扒渣:將陶瓷過濾片放入鐘罩壓入溶液進行除氣除渣,除氣 10-20分鐘后進行扒渣;
(7)電磁鑄造:電磁鑄造速度為60~100mm/分鐘,鑄造頻率為15~20Hz;
(8)溫度調整:將溶液溫度調整至730~760℃后轉入電磁鑄造結晶器;
(9)產品檢驗:按照組織要求進行檢驗,合格后轉入鍛造加工成半導體設備 用鋁合金坯錠。
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