[發(fā)明專利]帶有抖動修正功能的光學單元

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910208046.1
• 申請日: 2009-10-13
• 公開（公告）號: CN101726851A
• 公開（公告）日: 2010-06-09
• 發(fā)明（設計）人: 長田章弘;南澤伸司;武居勇一;石原久寬;唐沢敏行;武田正;柳澤克重;宮崎清史
• 申請（專利權）人: 日本電產(chǎn)三協(xié)株式會社
• 主分類號: G02B26/10
• 分類號: G02B26/10;G03B5/00;H02K33/18
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 馬淑香

1.一種帶有抖動修正功能的光學單元，其特征在于，包括：

透鏡驅(qū)動模塊，該透鏡驅(qū)動模塊裝設有透鏡、攝像元件和驅(qū)動所述透 鏡的透鏡驅(qū)動機構(gòu)；

傳感器，該傳感器用于對所述透鏡驅(qū)動模塊的傾斜的變化進行檢測； 以及

抖動修正機構(gòu)，該抖動修正機構(gòu)根據(jù)所述傳感器的檢測結(jié)果使所述透 鏡驅(qū)動模塊擺動，從而修正抖動，

所述抖動修正機構(gòu)包括：使所述透鏡驅(qū)動模塊擺動的擺動驅(qū)動機構(gòu)、 作為所述透鏡驅(qū)動模塊的擺動中心的支點部，

所述擺動驅(qū)動機構(gòu)包括彼此相對配置的抖動修正用線圈和抖動修正用 磁體，

所述抖動修正用線圈配置在第一區(qū)域和第二區(qū)域中的至少一個區(qū)域 內(nèi)，所述第一區(qū)域中，所述抖動修正用磁體產(chǎn)生的磁力線的方向為略微遠 離所述支點部的方向，所述第二區(qū)域中，所述磁力線的方向為略微朝向所 述支點部的方向，

所述抖動修正用線圈卷繞成大致矩形而形成，所述抖動修正用線圈包 括彼此平行的第一邊部和第二邊部，

在所述抖動修正用磁體的與所述抖動修正用線圈相對的相對面上，形 成有在與所述第一邊部的長度方向和所述第二邊部的長度方向大致正交的 方向上重疊的兩極磁極，

在將遠離所述支點部的一側(cè)作為第一邊部時，所述第一邊部配置在所 述第一區(qū)域內(nèi)，所述第二邊部配置在所述第二區(qū)域內(nèi)。

2.如權利要求1所述的帶有抖動修正功能的光學單元，其特征在于， 包括外殼，該外殼為支撐所述透鏡驅(qū)動模塊而形成為大致四角筒狀，所述 透鏡驅(qū)動模塊配置在形成為大致四角筒狀的蓋部件內(nèi)，

在所述蓋部件的外側(cè)面上固定著所述抖動修正用磁體，在所述外殼的 內(nèi)側(cè)面上固定著所述抖動修正用線圈。

3.如權利要求2所述的帶有抖動修正功能的光學單元，其特征在于， 包括底座體，該底座體在所述光學單元的下端側(cè)與所述外殼固定成一體， 從而構(gòu)成支撐所述透鏡驅(qū)動模塊的支撐體，

所述傳感器配置于所述透鏡驅(qū)動模塊的下端部，所述支點部形成在所 述透鏡驅(qū)動模塊的下端部與所述底座體之間，

所述抖動修正用線圈配置成：所述抖動修正用線圈的在光軸方向上的 中心相對于所述抖動修正用磁體的在所述光軸方向上的磁力中心在所述光 軸方向上配置在上側(cè)。

4.如權利要求1所述的帶有抖動修正功能的光學單元，其特征在于，

所述抖動修正用線圈形成為大致長方形，具有：彼此平行的兩個長邊 部、比所述長邊部形成得短且彼此平行的兩個短邊部，

所述第一邊部和所述第二邊部是所述長邊部。

5.如權利要求1所述的帶有抖動修正功能的光學單元，其特征在于， 還包括：

支撐體，該支撐體支撐所述透鏡驅(qū)動模塊；以及

抖動修正機構(gòu)，該抖動修正機構(gòu)根據(jù)所述傳感器的檢測結(jié)果使所述透 鏡驅(qū)動模塊相對于所述支撐體進行擺動，從而修正抖動，

所述抖動修正用磁體固定于與所述透鏡驅(qū)動模塊一起擺動的磁體保持 部件，所述抖動修正用線圈固定于所述支撐體，

所述抖動修正用線圈的在光軸方向上的中心配置于在所述光軸方向上 比所述抖動修正用磁體的在所述光軸方向上的磁力中心遠離所述擺動中心 的位置。

6.如權利要求5所述的帶有抖動修正功能的光學單元，其特征在于，

在所述抖動修正用磁體的與所述抖動修正用線圈相對的相對面上形成 有在所述光軸方向上重疊的兩極磁極，

所述第一邊部的在所述光軸方向上的中心配置于在所述光軸方向上比 兩極所述磁極中一個磁極的磁力中心遠離所述擺動中心的位置。

7.如權利要求6所述的帶有抖動修正功能的光學單元，其特征在于， 所述第二邊部的在所述光軸方向上的中心配置于在所述光軸方向上比作為 所述抖動修正用磁體的在所述光軸方向上的磁力中心的兩極所述磁極的邊 界接近所述擺動中心的位置，并配置于在所述光軸方向上比兩極所述磁極 中另一個磁極的磁力中心遠離所述擺動中心的位置。