[發(fā)明專利]粉體表面清洗設(shè)備及清洗方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910199004.6
• 申請日: 2009-11-19
• 公開（公告）號: CN101704005A
• 公開（公告）日: 2010-05-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳樂生;甘可可;祁更新;陳曉
• 申請（專利權(quán)）人: 溫州宏豐電工合金有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種粉體表面清洗設(shè)備，其特征在于包括：循環(huán)水進(jìn)水口，金屬套筒，進(jìn)水閥門，電場正極，濾網(wǎng)，排水閥門，循環(huán)水出水口，循環(huán)水池，攪拌槳，水泵，循環(huán)水出水閥門，取料閥門，取料管道，密封環(huán)，電場負(fù)極以及循環(huán)水進(jìn)水閥門，電場分離容器；其中：濾網(wǎng)設(shè)置在金屬套筒內(nèi)部，循環(huán)水進(jìn)水口一端部分伸入濾網(wǎng)內(nèi)，密封環(huán)位于金屬套筒下方，金屬套筒放下后，濾網(wǎng)同軸置于金屬套筒內(nèi)，電場正極、電場負(fù)極分別位于電場分離容器內(nèi)壁左右兩側(cè)，電場正極、電場負(fù)極與金屬套筒不接觸，金屬套筒底部與密封環(huán)相接觸形成密封；循環(huán)水池中設(shè)有攪拌槳；待清洗粉體懸濁液由循環(huán)水池經(jīng)水泵、循環(huán)水進(jìn)水閥門、循環(huán)水進(jìn)水口進(jìn)入濾網(wǎng)內(nèi)，然后，經(jīng)循環(huán)水出水口、循環(huán)水出水閥門返回到循環(huán)水池內(nèi)，超純水經(jīng)進(jìn)水閥門、濾網(wǎng)、排水閥門后排出，待清洗粉體懸濁液達(dá)到指標(biāo)完成后經(jīng)循環(huán)水出水口、取料閥門、取料管道排出收集；所述超純水的導(dǎo)電率≤20μs/cm。

2.如權(quán)利要求1所述的粉體表面清洗設(shè)備，其特征在于：所述金屬套筒能上下移動，該金屬套筒與內(nèi)部的濾網(wǎng)同軸放置。

3.如權(quán)利要求1或2所述的粉體表面清洗設(shè)備，其特征在于：所述濾網(wǎng)為管型濾網(wǎng)，其目數(shù)在50-600目之間。

4.一種采用權(quán)利要求1所述設(shè)備的粉體表面清洗方法，其特征在于包括以下步驟：

1)首先將待清洗粉體置于循環(huán)水池中；

2)將超純水放入循環(huán)水池中，開啟循環(huán)水進(jìn)水閥門、循環(huán)水出水閥門和水泵，使待清洗粉體懸濁液流動；所述超純水的導(dǎo)電率≤20μs/cm；

3)同時(shí)打開進(jìn)水閥門和排水閥門，將超純水引入管型濾網(wǎng)外的容器空間，當(dāng)該空間中的液位達(dá)到規(guī)定的刻度線后關(guān)閉進(jìn)水閥門和排水閥門；

4)將電場正極、電場負(fù)極分別放置于電場分離容器內(nèi)壁左右兩側(cè)，在電場正極、電場負(fù)極附加電壓，從而在電場正極、電場負(fù)極之間形成電場；

5)水流經(jīng)過電場一定時(shí)間后放下金屬套筒置于濾網(wǎng)與電極之間，并與密封環(huán)相連接，然后取消電場，將金屬套筒外的水由排水閥門排出；

6)打開進(jìn)水閥門，再次將超純水引入管型濾網(wǎng)外的容器空間，當(dāng)該空間中的液位達(dá)到刻度線規(guī)定的高度后關(guān)閉進(jìn)水閥門和排水閥門，然后重新升起金屬套筒，啟動電場，待清洗粉體懸濁液在清洗設(shè)備中流動進(jìn)行新一輪清洗；

7)按照5)-6)步驟循環(huán)清洗，當(dāng)排水閥門排出的水流導(dǎo)電率符合要求后清洗完成，打開取料閥門，將清洗后的粉體懸濁液經(jīng)取料閥門由取料管道取出。

5.如權(quán)利要求4所述的粉體表面清洗方法，其特征在于：步驟1)中，所述粉體為一切非導(dǎo)電粉體，粉體粒度在10nm-100μm之間。

6.如權(quán)利要求4所述的粉體表面清洗方法，其特征在于：步驟4)中，所述電場正極、電場負(fù)極的電壓范圍在0-400V之間。

7.如權(quán)利要求4所述的粉體表面清洗方法，其特征在于：步驟4)中，所述電場正極、電場負(fù)極之間的電場的保持時(shí)間在10秒-10分鐘之間。

8.如權(quán)利要求4所述的粉體表面清洗方法，其特征在于：步驟7)中，所述循環(huán)清洗時(shí)間為15-30分鐘。

9.如權(quán)利要求4所述的粉體表面清洗方法，其特征在于：步驟7)中，若導(dǎo)電率＞20μs/cm，則將粉體按照以上5)-6)步驟進(jìn)行循環(huán)電離清洗，直到金屬套筒外經(jīng)排水閥門排出的水的導(dǎo)電率≤20μs/cm為止。