[發明專利]一種導光膜及其制備方法無效
| 申請號： | 200910189825.1 | 申請日： | 2009-08-28 |
| 公開（公告）號： | CN102004269A | 公開（公告）日： | 2011-04-06 |
| 發明（設計）人： | 吳偉才;吳波 | 申請（專利權）人： | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B1/04 | 分類號： | G02B1/04;F21V8/00;C08J5/18;C08L83/04;C08K3/34;C08K3/22;C08K3/26 |
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| 地址： | 518118 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 導光膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種導光膜，包括基體和分散于基體中的無機散射顆粒，其中，所述基體為硅膠，所述無機散射顆粒的平均粒徑為5-1000nm。
2.根據權利要求1所述的導光膜，其中，所述硅膠的透光率為90％-99.9％。
3.根據權利要求1或2所述的導光膜，其中，所述無機散射顆粒的折射率為1.45-2.9。
4.根據權利要求1或2所述的導光膜，其中，以所述硅膠的重量為基準，所述無機散射顆粒的含量為0.01-10wt％。
5.根據權利要求1或2所述的導光膜，其中，所述無機散射顆粒選自氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、碳酸鈣中的一種或多種。
6.根據權利要求1所述的導光膜，其中，所述導光膜的厚度為150-400um。
7.一種導光膜的制備方法，包括：
a、將硅膠料、硅膠稀釋劑、無機散射顆粒混合，得到硅膠預聚液；其中，無機散射顆粒的平均粒徑為5-1000nm；
b、將硅膠預聚液進行成型固化處理，得到導光膜。
8.根據權利要求7所述的制備方法，其中，所述硅膠稀釋劑選自石油醚、溶劑油、甲苯中的一種或多種。
9.根據權利要求7所述的制備方法，其中，以所述硅膠料含量為基準，所述硅膠稀釋劑含量為100-500wt％，所述無機散射顆粒的含量為0.01-10wt％。
10.根據權利要求7或9所述的制備方法，其中，所述成型固化處理包括：將硅膠預聚液置于模具中，在120-180℃下熱處理2-10min，即可得到所述導光膜。
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