[發(fā)明專(zhuān)利]一種硅氧烷改性氟硅氧烷及含有該硅氧烷改性氟硅氧烷的氟硅氧烷涂料及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910179328.3
• 申請(qǐng)日: 2009-09-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101817928A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-09-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳平;胡文;冷世偉
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 比亞迪股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C08G77/24
• 分類(lèi)號(hào): C08G77/24;C09D183/08
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域：

本發(fā)明屬于涂料技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種硅氧烷改性氟硅氧烷及含有 該硅氧烷改性氟硅氧烷的氟硅氧烷涂料及其制備方法。

背景技術(shù)：

當(dāng)前，采用高拋光金屬基材的手機(jī)、個(gè)人計(jì)算機(jī)、筆記本電腦、 個(gè)人數(shù)字助理等各種3C電子產(chǎn)品越來(lái)越多。然而由于電子產(chǎn)品在使 用過(guò)程中經(jīng)常要受到人的汗?jié)n、油污等接觸，高亮的表面很容易被污 染，影響產(chǎn)品的美觀度。因此迫切需要在在電子產(chǎn)品的表面涂覆一層 具有較好防污能力的涂層，這就要求涂料本身具有低表面能，且由于 電子產(chǎn)品本身的使用特點(diǎn)，長(zhǎng)時(shí)間處于與各種物體摩擦的狀態(tài)，因此 該涂層除了要求具有低表面能的特點(diǎn)外，還需要高硬度、高耐磨性能 的特點(diǎn)。

目前，防污涂層的處理技術(shù)是使用丙烯酸樹(shù)脂復(fù)合有機(jī)氟助劑， 這種涂料體系的缺點(diǎn)是使用有機(jī)樹(shù)脂體系，涂層的耐磨性能不好，表 面能較高；另外一項(xiàng)現(xiàn)有技術(shù)中公開(kāi)了將含氟丙烯酸單體與其他丙烯 酸樹(shù)脂先進(jìn)行自由基聚合，然后，再利用溶膠-凝膠技術(shù)來(lái)改善涂層 的耐磨性，此種方法工藝復(fù)雜，過(guò)程不易控制，而且由于全氟的丙烯 酸單體均為長(zhǎng)鏈的柔性單體，耐磨性也難達(dá)到使用要求，嚴(yán)重影響低 表面能防污效果的發(fā)揮。

發(fā)明內(nèi)容：

本發(fā)明的目的在于提供一種涂層耐磨性好，表面能低的氟硅氧烷 涂料。

為此本發(fā)明提供一種硅氧烷改性氟硅氧烷，該硅氧烷改性氟硅氧 烷為含有如下重復(fù)結(jié)構(gòu)單元的聚合物：

其中，a為5-100的整數(shù)、b為10-60的整數(shù)，R_f為氟烷基，R、 R1、R2、R3、R4為相同或不同的烷基或烷酯基。

本發(fā)明還提供一種氟硅氧烷涂料，該涂料包括硅氧烷改性氟硅氧 烷、溶劑和水，其中所述的硅氧烷改性氟硅氧烷為含有如下重復(fù)結(jié)構(gòu) 的聚合物：

其中，a為5-100的整數(shù)、b為10-60的整數(shù)，R_f為氟烷基，R、 R₁、R₂、R₃、R₄為相同或不同的烷基或烷酯基。

本發(fā)明還提供了上述氟硅氧烷涂料的制備方法，該方法包括：

A、將四官能度硅氧烷和三官能度硅氧烷加入到溶劑中，混合得 到混合溶液S1；

B、將氟硅氧烷、水、溶劑，按照比例配混合，添加pH調(diào)節(jié)劑， 調(diào)節(jié)pH值為2-6，制得混合溶液S2；

C、將混合溶液S2加入S1，在溫度40-90℃下攪拌0.5-6小時(shí)， 發(fā)生水解反應(yīng)，得到氟硅氧烷涂料。

本發(fā)明所提供的氟硅氧烷涂料固化后成膜，該涂層在有較低表面 能效果的同時(shí)，兼有較好的耐磨性能。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供一種硅氧烷改性氟硅氧烷，該硅氧烷改性氟硅氧烷為 含有如下重復(fù)結(jié)構(gòu)單元的聚合物：

其中，a為5-100的整數(shù)、b為10-60的整數(shù)，R_f為氟烷基，R、 R1、R2、R3、R4為相同或不同的烷基或烷酯基。

其中，所述的氟烷基優(yōu)選全氟烷，更加優(yōu)選具有下述結(jié)構(gòu)式的基 團(tuán)CF3-CF2-，CF3-CF2-CF2-CF2-，CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2， CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2-，CF3-中的一種或多種。

上面提到的R、R₁、R₂、R₃、R₄為CH₃-，CH₃-CH₂-，CH₃-CH₂-COO-， -CH₂-，-CH₂-COO-中的一種或多種基團(tuán)，優(yōu)選CH₃-， CH₃-CH₂-，CH₃-CH₂-COO-中的一種或多種，R更優(yōu)選為CH₃-。