[發明專利]氣體注入裝置及成膜裝置

有效

• 申請號: 200910178340.2
• 申請日: 2009-11-09
• 公開（公告）號: CN101736319A
• 公開（公告）日: 2010-06-16
• 發明（設計）人: 加藤壽;竹內靖;本間學;菊地宏之
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;H01L21/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種氣體注入裝置，其中，

包括：

注入裝置主體，具有氣體導入口及氣體流路；

多個氣體流出孔，沿著注入裝置主體的長度方向排列在注 入裝置主體的壁部；

引導構件，被設置成在該引導構件與注入裝置主體的外表 面之間形成有沿著該注入裝置主體的長度方向延伸的狹縫狀的 氣體噴出口，將從氣體流出孔流出的氣體引導到氣體噴出口，

注入裝置主體的壁部具有平坦部分，在平坦部分具有多個 氣體流出孔，狹縫狀的氣體噴出口位于平坦部分的一緣側，

引導構件與平坦部分平行。

2.根據權利要求1所述的氣體注入裝置，其中，

注入裝置主體為方筒狀。

3.一種成膜裝置，該成膜裝置反復進行在真空容器內將互 相反應的至少2種反應氣體按順序供給到基板的表面上的供給 循環，在基板表面層疊多層反應生成物層而形成薄膜，其中，

包括：

真空容器內的旋轉臺；

基板載置區域，將基板載置于旋轉臺上；

第1反應氣體供給部及第2反應氣體供給部，在旋轉臺的旋 轉方向上互相分開地設置，第1反應氣體供給部用于向旋轉臺 的基板載置區域側的面供給第1反應氣體，第2反應氣體供給部 用于向旋轉臺的基板載置區域側的面供給第2反應氣體；

分離區域，用于分離被供給第1反應氣體的第1處理區域和 被供給第2反應氣體的第2處理區域的氣氛，在旋轉臺的旋轉方 向上位于第1處理區域與第2處理區域之間，具有供給分離氣體 的分離氣體供給部；

排氣口，對真空容器內進行真空排氣；

第1反應氣體供給部及第2反應氣體供給部中至少一方是 權利要求1所述的氣體注入裝置，氣體注入裝置在與旋轉臺的 旋轉方向交叉的方向上延伸，氣體注入裝置的氣體噴出口與旋 轉臺相對。

4.根據權利要求3所述的成膜裝置，其中，

在真空容器內的中心部具有中心部區域，該中心部區域用 于分離第1處理區域和第2處理區域的氣氛，并具有向旋轉臺的 基板載置面側噴出分離氣體的分離氣體噴出孔；

排氣口用于排出擴散到分離區域的兩側的分離氣體以及從 中心部區域噴出的分離氣體和反應氣體。

5.根據權利要求4所述的成膜裝置，其中，

中心部區域是由旋轉臺的旋轉中心部和真空容器的上表面 側劃分而成的，被分離氣體吹掃。

6.根據權利要求4所述的成膜裝置，其中，

中心部區域包括：在真空容器的中心部設置在上表面與底 面之間的支柱；以及圍著支柱且繞鉛直軸線旋轉自如的旋轉套 筒；

旋轉套筒是旋轉臺的旋轉軸。

7.根據權利要求3所述的成膜裝置，其中，

分離區域具有頂面，該頂面位于分離氣體供給部的旋轉方 向的兩側，在該頂面與旋轉臺之間形成供分離氣體從分離區域 向第1及第2處理區域的方向流動的狹窄的空間。

8.根據權利要求3所述的成膜裝置，其中，

排氣口經由旋轉臺的周緣與真空容器的內周壁之間的間隙 而排氣。

9.根據權利要求3所述的成膜裝置，其中，

分離氣體供給部具有從旋轉臺的旋轉中心部及周緣部中的 一方朝向另一方排列的噴出孔。

10.根據權利要求3所述的成膜裝置，其中，

排氣口設置在分離區域的旋轉方向兩側，專用于排出各反 應氣體。

11.根據權利要求3所述的成膜裝置，其中，

分離區域的頂面的真空容器的外緣側部位是與旋轉臺的外 端面相對地彎曲的真空容器的內周壁的一部分，頂面的彎曲的 部位與旋轉臺的外端面之間的間隙具有防止反應氣體進入的尺 寸。

12.根據權利要求3所述的成膜裝置，其中，

在分離區域的頂面中，相對于分離氣體供給部而處于旋轉 臺的旋轉方向上游側的部位越靠近外緣，旋轉方向的寬度越大。