[發明專利]玻璃基板蝕刻裝置無效
| 申請號: | 200910169326.6 | 申請日: | 2009-08-25 |
| 公開(公告)號: | CN101630635A | 公開(公告)日: | 2010-01-20 |
| 發明(設計)人: | 孔正鎬;南重根 | 申請(專利權)人: | 滿納韓宏電子科技(南京)有限公司;煙臺韓宏電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/00 | 分類號: | H01L21/00;H01L21/311;C03C15/00 |
| 代理公司: | 北京雙收知識產權代理有限公司 | 代理人: | 郭鴻雁 |
| 地址: | 210046江蘇省南京*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃 蝕刻 裝置 | ||
1.一種玻璃基板蝕刻裝置,包括反應室、位于反應室內用于將玻璃基板垂直固定住的 固定裝置、與反應室相通的藥液存儲罐和與藥液存儲罐相通的藥液循環系統,藥液循環系統 包括若干個噴嘴,其特征在于:所述噴嘴在每塊玻璃基板的上方均布成一排,所述藥液循環 系統還包括進口與藥液存儲罐相通的總輸入管路、過濾系統和總輸出管路,過濾系統包括第 一輸入管路和第二輸入管路,總輸入管路的出口分別與第一輸入管路的進口、第二輸入管路 的進口相連,第一輸入管路上依次串聯有閥門VA、第一過濾裝置組、閥門VC,第二輸入管 路上依次串聯有閥門VB、第二過濾裝置組、閥門VD,第一輸入管路的出口、第二輸入管路 的出口與總輸出管路的進口相連,位于每塊玻璃基板相應位置處的上方設有一根與總輸出管 路相連的分支輸出管路,所述噴嘴安裝在分支輸出管路上。
2.根據權利要求1所述的玻璃基板蝕刻裝置,其特征在于:所述過濾系統還包括過濾 裝置再生回路,所述過濾裝置再生回路包括反洗輸入管路和反洗輸出管路,所述反洗輸入管 路通過串聯有閥門VE的管路與閥門VC和第一過濾裝置組之間的第一輸入管路相連,反洗輸 入管路通過串聯有閥門VF的管路與閥門VD和第二過濾裝置組之間的第二輸入管路相連,第 一過濾裝置組與閥門VA之間的第一輸入管路通過串聯有閥門VG的管路與反洗輸出管路相 連,第二過濾裝置組與閥門VB之間的第二輸入管路通過串聯有閥門VH的管路與反洗輸出管 路相連。
3.根據權利要求1或2所述的玻璃基板蝕刻裝置,其特征在于:所述第一過濾裝置組 和第二過濾裝置組中的過濾裝置并聯設置。
4.根據權利要求1或2所述的玻璃基板蝕刻裝置,其特征在于:所述第一過濾裝置組 和第二過濾裝置組中的過濾裝置的數量分別為1~5個。
5.根據權利要求4所述的玻璃基板蝕刻裝置,其特征在于:所述固定裝置包括支架, 支架由相對設置的橫梁、縱梁和豎桿組裝而成,豎桿的中下部還固定有中橫梁,底部的橫梁 之間均勻固定有若干個與縱梁相平行的支撐梁,每個支撐梁上均勻固定有若干個支撐座,支 撐座的頂部開有用于放置玻璃基板的凹槽;頂部的每根橫梁上在與每塊玻璃基板相對應的位 置處、每根中橫梁上在與每塊玻璃基板相對應的位置處分別固定有固定板,固定板上在每塊 玻璃基板的兩側分別固定有一根固定桿,固定桿與玻璃基板之間具有間隙。
6.根據權利要求5所述的玻璃基板蝕刻裝置,其特征在于:所述固定桿采用高分子樹 脂材料制成。
7.根據權利要求6所述的玻璃基板蝕刻裝置,其特征在于:所述固定桿與玻璃基板之 間的間隙為1~1.5mm。
8.根據權利要求7所述的玻璃基板蝕刻裝置,其特征在于:所述固定板的兩個角處分 別開設斜向玻璃基板的通孔,所述每根固定桿的一端插入通孔內且與固定板粘貼固定,所述 每根固定桿的另一端斜向延伸至玻璃基板的一側。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





