[發(fā)明專利]液晶顯示裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910166251.6 | 申請日: | 2009-08-20 |
| 公開(公告)號: | CN101655631A | 公開(公告)日: | 2010-02-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 元松俊彥 | 申請(專利權)人: | NEC液晶技術株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 陳 平 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶 顯示裝置 | ||
本申請基于在2008年8月22日提交的日本專利申請2008-213851并且要求其優(yōu)先權,該日本專利申請的全部內容通過引用結合在此。
技術領域
本發(fā)明涉及一種液晶顯示裝置,具體地,涉及一種被安置在一對基板之間的柱隔體的構造。
背景技術
圖16是顯示相關技術液晶顯示(LCD)面板的結構的橫截面圖。該LCD面板12包括濾色片(CF)基板3和薄膜晶體管(TFT)基板2。CF基板3配置有CF膜和黑底(black?matrix)(BM)膜等。TFT基板2配置有矩陣形狀的開關元件如TFT。CF基板3配置有形成于CF膜上的柱隔體10。每一個柱隔體10具有諸如矩形柱、圓柱形柱和橢圓這樣的構造。
CF基板3配置有框架形黑底(BM)膜7,所述黑底膜7由有機膜或無機膜制成,形成于CF基板3的框架狀周邊區(qū)域上。TFT基板2在其框架狀周邊區(qū)域上也配置有有機膜或無機膜。這些基板各自在像素區(qū)(或顯示區(qū))上至少配置有利用配向處理來處理的配向膜8。
彼此相對的基板的一個配置有密封材料11,使得兩個基板在通過柱隔體10保持預定的間隙的情況下粘合在一起,以將液晶材料4置于它們之間。
圖17A顯示了相關技術LCD面板12的平面圖,而圖17B顯示了圖17A的右上部的局部放大平面圖,其顯示了柱隔體10的形成區(qū)域。在該相關技術中,在LCD面板12的CF基板3的像素區(qū)16中的CF膜6上形成各自具有諸如矩形柱、圓柱形柱或橢圓的形狀的柱隔體10。如圖17中所示,例如,將圓柱狀柱隔體10均勻地形成于像素的整個區(qū)域上,以僅僅保持預定間隙(參考日本專利申請公開2002-169165(專利文件1))。
然而,近來,提出了各種具有其它目的的柱隔體,例如用于保持除像素區(qū)16以外的區(qū)域的手段(means),以及不對摩擦布造成損害的手段。例如,在日本專利申請公開2007-206713(專利文件2)中公開了流線型柱隔體,并且在日本專利申請公開2007-240599(專利文件3).中公開了圓頂形柱隔體。然而,這些專利文件2和3沒有具體地指出柱隔體的排列方向。
圖18A是顯示在相關技術中剛在將液晶材料分配到LCD面板的基板上之后的分配區(qū)域41的狀態(tài)的平面圖。圖18B是顯示圖18A中所示的液晶材料鋪展后的狀態(tài)的平面圖。在該相關技術中,因為在像素的整個區(qū)域上均勻地形成其每一個均具有諸如矩形柱、圓柱形柱或橢圓的形狀的柱隔體,因此在密封材料11的閉合曲線狀涂布區(qū)域內的面板側部和面板角部之間,液晶材料4到達密封材料11的涂布部分附近的時間不同。換言之,如圖18B中所示,液晶材料4沒有均勻地鋪展在整個面板上,因此液晶材料4的一部分以未固化的狀態(tài)到達密封材料11的涂布部分,從而導致接觸的部分114。結果,保持了液晶材料4與密封材料11之間的接觸狀態(tài),從而在接觸的部分114產生顯示缺陷。
這是因為污染液晶材料的物質由于液晶材料和未固化的密封材料之間的接觸而從密封材料流出(elute)。對于從未固化的密封材料流出而污染液晶材料的物質,可以列舉諸如低聚物成分和鄰苯二甲酸酯的有機材料,以及Na、K和Cl的離子性雜質。污染液晶材料的流出物質的量與未固化的密封材料和液晶材料之間的接觸持續(xù)時間成正比,并且已知當接觸時間變長時,流出量趨向于迅速增加。因此,在未固化的密封材料和液晶材料之間的接觸必須被盡可能多地抑制。
為了應付這個問題,常規(guī)上試圖控制液晶材料的分配位置的圖案。代替通過使分配位置和密封涂布部分之間的距離保持恒定而形成矩陣狀圖案的是,日本專利申請公開2004-4448(專利文件4)說明了通過改變分配位置和密封涂布部分之間的距離形成所謂的啞鈴狀圖案。即,控制液晶材料的分配位置使得在到達密封涂布部分附近的時間長的面板拐角區(qū)域,將其分配位置定位以使其接近密封涂布部分,而在到達密封涂布部分附近的時間短的面板側向區(qū)域,將其分配位置定位以使其遠離密封涂布部分。
此外,存在另一種通過設計柱隔體的排列和形狀解決類似的技術問題的技術。即,日本專利申請公開2003-107492(專利文件5)公開了一種在非顯示區(qū)上形成圓柱狀柱隔體代替形成矩形柱狀柱隔體的方法,該矩形柱狀柱隔體不是造成像素區(qū)中的顯示的原因。
此外,日本專利申請公開2007-047280(專利文件6)公開了在密封材料的角部附近的區(qū)域上形成橢圓狀或矩形柱狀(長方形)的柱隔體代替形成方柱形柱隔體的方法。
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