[發(fā)明專利]研磨方法、研磨墊與研磨系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910165621.4
• 申請日: 2009-08-06
• 公開（公告）號(hào): CN101987431A
• 公開（公告）日: 2011-03-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王裕標(biāo)
• 申請（專利權(quán)）人: 智勝科技股份有限公司
• 主分類號(hào): B24B37/04
• 分類號(hào): B24B37/04;H01L21/304
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 劉芳

1.一種研磨墊，至少包括：

一研磨層，該研磨層具有一研磨面、一旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及一周圍區(qū)域；以及

一表面圖案，配置于該研磨層中，該表面圖案至少包括數(shù)個(gè)自靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延伸至靠近該周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個(gè)溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個(gè)溝槽截面，所述數(shù)個(gè)溝槽截面各具有一左側(cè)壁與一右側(cè)壁，其中所述數(shù)個(gè)溝槽截面的左側(cè)壁構(gòu)成的左側(cè)壁群組與所述數(shù)個(gè)溝槽截面的右側(cè)壁構(gòu)成的右側(cè)壁群組其中之一群組，與該研磨面有一第一夾角，該第一夾角為一鈍角。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中至少一個(gè)該溝槽的一端點(diǎn)位于靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域，且另一端點(diǎn)位于靠近該周圍區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中至少一個(gè)該溝槽橫跨靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域，且該溝槽的兩端點(diǎn)皆位于靠近該周圍區(qū)域。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中所述數(shù)個(gè)溝槽的形狀為直線形、弧形、片段形、孔洞形及其組合。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中該表面圖案呈放射狀分布或螺旋狀分布。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中所述溝槽截面的該左側(cè)壁與該右側(cè)壁相互平行。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中所述左側(cè)壁群組與所述右側(cè)壁群組其中之另一群組，與該研磨面有一第二夾角，且該第二夾角為一銳角。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的研磨墊，其中該第一夾角介于100度至150度，該第二夾角介于30度至80度。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中該研磨墊具有一旋轉(zhuǎn)方向，且具有該第一夾角的該側(cè)壁群組相對于該旋轉(zhuǎn)方向?yàn)橐缓蠖藗?cè)壁。

10.一種研磨墊，適用于具有一旋轉(zhuǎn)方向的研磨系統(tǒng)，該研磨墊至少包括：

一研磨層，該研磨層具有一研磨面、一旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及一周圍區(qū)域；以及

一表面圖案，配置于該研磨層中，該表面圖案至少包括數(shù)個(gè)自靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延伸至靠近該周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個(gè)溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個(gè)溝槽截面，所述數(shù)個(gè)溝槽截面各具有一左側(cè)壁與一右側(cè)壁，其中所述數(shù)個(gè)左側(cè)壁、所述數(shù)個(gè)右側(cè)壁由其底部至頂部具有一傾斜方向，該傾斜方向?yàn)樵撔D(zhuǎn)方向的反方向。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的研磨墊，其中所述數(shù)個(gè)溝槽的形狀為直線形、弧形、片段形、孔洞形及其組合。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的研磨墊，其中該表面圖案呈放射狀分布或螺旋狀分布。

13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的研磨墊，其中所述溝槽截面的該左側(cè)壁與該右側(cè)壁相互平行。

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的研磨墊，其中所述左側(cè)壁、右側(cè)壁與該研磨面的垂直方向的夾角為介于30度至80度。

15.一種研磨系統(tǒng)，至少包括：

一載具，用以固持一研磨物件；以及

一研磨墊，固定于一研磨平臺(tái)上，該研磨墊具有：

一研磨層，該研磨層具有一研磨面、一旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及一周圍區(qū)域；以及

一表面圖案，配置于該研磨層中，該表面圖案至少包括數(shù)個(gè)自靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延伸至靠近該周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個(gè)溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個(gè)溝槽截面，所述數(shù)個(gè)溝槽截面各具有一左側(cè)壁與一右側(cè)壁，所述數(shù)個(gè)溝槽截面的左側(cè)壁構(gòu)成的左側(cè)壁群組與所述數(shù)個(gè)溝槽截面的右側(cè)壁構(gòu)成的右側(cè)壁群組其中之一群組，與該研磨面有一第一夾角，該第一夾角為一鈍角。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中至少一個(gè)該溝槽的一端點(diǎn)位于靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域，且另一端點(diǎn)位于靠近該周圍區(qū)域。

17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中至少一個(gè)該溝槽橫跨靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域，且該溝槽的兩端點(diǎn)皆位于靠近該周圍區(qū)域。

18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)溝槽的形狀為直線形、弧形、片段形、孔洞形及其組合。

19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中該表面圖案呈放射狀分布或螺旋狀分布。

20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中所述溝槽截面的該左側(cè)壁與該右側(cè)壁相互平行。