[發(fā)明專利]基底對準設備和基底處理設備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910159687.2
• 申請日: 2009-07-31
• 公開（公告）號: CN101640181A
• 公開（公告）日: 2010-02-03
• 發(fā)明（設計）人: 長谷川雅己;金子一秋
• 申請（專利權）人: 佳能安內(nèi)華股份有限公司
• 主分類號: H01L21/68
• 分類號: H01L21/68;H01L21/00
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 張 濤

技術領域

[0001]本發(fā)明涉及一種校正基底位置的基底對準設備以及基底處理設備。

背景技術

[0002]例如，專利文獻1(日本專利特開No.9-181151)說明了一種通過抵靠基底對鄰接銷機械加壓而校正基底位置的傳統(tǒng)方法，所述鄰接銷抵靠基底的外周邊表面。

[0003]專利文獻2(日本專利特開No.8-008328)說明了一種已知的晶片定位設備，當基底安裝在沿正交方向運動的X-Y臺架上時，所述設備校正基底的位置。

[0004]專利文獻3(日本專利特開No.2008-66367)說明了一種基底轉(zhuǎn)移設備，該設備在傳輸基底的傳輸臂與安裝基底的安裝臺之間轉(zhuǎn)移基底。專利文獻3中說明的設備繞安裝臺的支撐軸線布置，且在該設備與安裝臺之間有間距。該設備包括多個支撐銷和附裝支撐銷的基部，所述多個支撐銷在其下表面上支撐基底。該設備還包括豎直驅(qū)動裝置和水平驅(qū)動裝置，所述豎直驅(qū)動裝置用于豎直地驅(qū)動支撐銷通過基部以提升或降低基底，所述水平驅(qū)動裝置用于水平地驅(qū)動支撐銷通過基部以調(diào)節(jié)基底沿水平方向的位置。

[0005]根據(jù)專利文獻1的基底位置校正方法可能會產(chǎn)生顆粒，這是因為該方法例如通過抵靠基底的側(cè)表面(外周邊表面)來對鄰接銷加壓而機械地推動基底，以校正基底的位置。這種方法也造成以下問題：由于在壓靠鄰接銷的同時使基底運動，在該過程中基底的下表面在安裝基底的支撐銷上摩擦，經(jīng)常會產(chǎn)生顆粒。

[0006]雖然根據(jù)專利文獻2的晶片定位設備可以解決上述由于基底的摩擦而產(chǎn)生顆粒的問題，但是它需要X-Y臺架和沿X和Y方向的兩個驅(qū)動系統(tǒng)，以便于驅(qū)動X-Y臺架。此外，因為必須確保繞X-Y臺架的給定空間，以便甚至當X-Y臺架沿水平方向(X和Y方向)平移時也不會發(fā)生干涉，所以該設備不適于容納在緊湊的空間中。

[0007]根據(jù)專利文獻3的基底轉(zhuǎn)移設備需要在安裝臺中形成間隙，以允許運動的支撐銷離開。如果在安裝臺內(nèi)部形成額外的間隙，所述安裝臺例如容納在使用等離子體執(zhí)行基底處理的基底處理設備中，則該設備會遇到與溫度分布和RF不均勻性相關聯(lián)的問題。同樣，如果與基底轉(zhuǎn)移和基底處理相關的包括上述部件的機構(gòu)安裝在真空室內(nèi)部，則這可能造成與安裝空間、滑潤劑和顆粒的散射、以及除氣有關的問題。

[0008]為了使支撐銷在真空中沿豎直方向和水平方向(即，X和Y方向)運動，則必須在大氣側(cè)上設置驅(qū)動系統(tǒng)并通過真空壁執(zhí)行這些運動。波紋管通常用于豎直運動。此時，當波紋管豎直地伸展/收縮而同時沿水平方向移位時，負荷施加到波紋管的焊接區(qū)上，導致基底轉(zhuǎn)移設備的壽命顯著縮短。

發(fā)明內(nèi)容

[0009]本發(fā)明的目的是提供一種可以抑制顆粒的產(chǎn)生、緊湊的、和/或具有較長壽命的基底對準設備和基底處理設備。

[0010]本發(fā)明的第一方面提供一種用于將基底與參考點對準的基底對準設備，該基底對準設備包括：多個柱，其構(gòu)造成繞與相應的軸向方向平行的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)；驅(qū)動機構(gòu)，其構(gòu)造成將多個柱沿相同方向同步地旋轉(zhuǎn)通過相同的角度；檢測器，其構(gòu)造成檢測基底從參考點偏離的位置偏差的量；以及支撐銷，其位于多個柱的上表面上且同時與多個柱的相應的旋轉(zhuǎn)軸線間隔開，并且構(gòu)造成支撐基底，其中基于由檢測器檢測到的位置偏差的量，通過由驅(qū)動機構(gòu)使多個柱沿相同方向同步地旋轉(zhuǎn)通過相同的角度，而使基底對準。

[0011]本發(fā)明的第二方面提供一種基底處理設備，其包括以上定義的基底對準設備。

[0012]根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種基底對準裝置，該基底對準設備可以抑制顆粒的產(chǎn)生、是緊湊的、和/或具有較長的壽命，這是因為該設備在基底安裝在支撐銷上時通過旋轉(zhuǎn)支撐銷來校正基底的位置。

[0013]本發(fā)明的其它特征從以下參照附圖的典型實施例說明而變得清楚。

附圖說明

[0014]圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的基底對準設備的透視圖；

[0015]圖2A至2H是用于解釋圖1中所示的基底對準設備的位置校正過程的視圖；

[0016]圖3是用于解釋基底位置偏差檢測方法的視圖；

[0017]圖4是用于解釋基底位置校正的視圖；

[0018]圖5是示出支撐銷驅(qū)動機構(gòu)的示例的視圖；

[0019]圖6是示出用于同步地旋轉(zhuǎn)三個柱的同步旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的示例的示意性透視圖；

[0020]圖7A至7D是示出支撐銷的示例的視圖；

[0021]圖8是示出根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的基底對準設備的布置的透視圖；