[發(fā)明專利]內(nèi)埋線路基板及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910152272.2 | 申請(qǐng)日: | 2009-07-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101958306A | 公開(公告)日: | 2011-01-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王建皓;李明錦 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/498 | 分類號(hào): | H01L23/498;H01L23/13;H01L21/48 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 邱軍 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 線路 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種線路基板及其制造方法,且特別是涉及一種內(nèi)埋線路基板及其制造方法。
背景技術(shù)
目前在半導(dǎo)體封裝技術(shù)中,線路基板(circuit?substrate)是經(jīng)常使用的構(gòu)裝元件之一。線路基板主要由多層圖案化線路層(patterned?conductivelayer)及多層介電層(dielectric?layer)交替疊合而成,而兩線路層之間可通過導(dǎo)電孔(conductive?via)而彼此電性連接。隨著線路基板的線路密度及平坦度的提高,傳統(tǒng)線路基板的結(jié)構(gòu)及工藝已不敷使用。因此,具有內(nèi)埋線路的線路基板逐漸被發(fā)展出來。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種內(nèi)埋線路基板,具有較平坦的表面。
本發(fā)明提供一種內(nèi)埋線路基板的制造方法,可制造出具有較平坦的表面的內(nèi)埋線路基板。
本發(fā)明提出一種內(nèi)埋線路基板,包括核心結(jié)構(gòu)、第一圖案化導(dǎo)電層、第二圖案化導(dǎo)電層及多個(gè)導(dǎo)電塊。核心結(jié)構(gòu)具有相對(duì)的第一表面及第二表面。第一圖案化導(dǎo)電層配置于第一表面且埋入于核心結(jié)構(gòu)。第二圖案化導(dǎo)電層配置于第二表面且埋入于核心結(jié)構(gòu)。導(dǎo)電塊配置于核心結(jié)構(gòu)內(nèi),用以導(dǎo)通第一圖案化導(dǎo)電層及第二圖案化導(dǎo)電層。
本發(fā)明提出一種內(nèi)埋線路基板的制造方法。首先,提供第一導(dǎo)電疊合結(jié)構(gòu),其中第一導(dǎo)電疊合結(jié)構(gòu)包括第一金屬層及第一圖案化導(dǎo)電層。第一圖案化導(dǎo)電層配置于第一金屬層上。第一導(dǎo)電塊配置于第一圖案化導(dǎo)電層上。接著,提供第二導(dǎo)電疊合結(jié)構(gòu),其中第二導(dǎo)電疊合結(jié)構(gòu)包括第二金屬層及第二圖案化導(dǎo)電層。第二圖案化導(dǎo)電層配置于第二金屬層上。將第一導(dǎo)電疊合結(jié)構(gòu)及第二導(dǎo)電疊合結(jié)構(gòu)壓合于核心結(jié)構(gòu),以將第一圖案化導(dǎo)電層及第一導(dǎo)電塊從第一表面埋入于核心結(jié)構(gòu),且將第二圖案化導(dǎo)電層從第二表面埋入于核心結(jié)構(gòu)。在核心結(jié)構(gòu)內(nèi)形成多個(gè)第一導(dǎo)電塊,其中第一圖案化導(dǎo)電層及第二圖案化導(dǎo)電層通過第一導(dǎo)電塊而導(dǎo)通。移除第一金屬層及第二金屬層。
本發(fā)明以壓合的方式將圖案化導(dǎo)電層及導(dǎo)電塊同時(shí)埋入于介電層,而使內(nèi)埋線路基板具有較平坦的表面。
為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,下文特舉實(shí)施例,并配合附圖,作詳細(xì)說明如下。
附圖說明
圖1A至圖1L為本發(fā)明實(shí)施例的內(nèi)埋線路基板的制造流程剖視示意圖。
圖2A及圖2B為本發(fā)明另一實(shí)施例的內(nèi)埋線路基板的制造流程剖視示意圖。
圖3為本發(fā)明另一實(shí)施例的內(nèi)埋線路基板的剖視示意圖。
附圖標(biāo)記說明
100、100’:內(nèi)埋線路基板
100a:第一導(dǎo)電疊合層???????100b:第二導(dǎo)電疊合層
110:犧牲層????????????????120:第三金屬層
130:第一金屬層????????????130’:第二金屬層
140:第一蝕刻阻隔層????????140’:第二蝕刻阻隔層
150:第一掩模層????????????160:第一圖案化導(dǎo)電層
160’:第二圖案化導(dǎo)電層????170:第二掩模層
180:第一導(dǎo)電塊????????????180’:第二導(dǎo)電塊
190:第一介電層????????????190’:核心結(jié)構(gòu)
192:核心介電層????????????194:第三圖案化導(dǎo)電層
194’:第四圖案化導(dǎo)電層????196:第二介電層
196’:第三介電層??????????198:導(dǎo)電孔
H1:第一通孔???????????????H2:第二通孔
H3:第三通孔
L1:第一焊罩層?????????????L2:第二焊罩層
L3:第一抗氧化層???????????L4:第二抗氧化層
S1:第一表面????S2:第二表面
S3:第三表面????S4:第四表面
具體實(shí)施方式
圖1A至圖1L為本發(fā)明實(shí)施例的內(nèi)埋線路基板的制造流程剖視示意圖。首先,請(qǐng)參考圖1A,提供犧牲層110、分別配置于犧牲層的兩表面的兩第三金屬層120及分別配置于兩第三金屬層120上的兩第一金屬層130,其中各第三金屬層120位于犧牲層110及第一金屬層130之間。在本實(shí)施例中,還可在各第一金屬層130上形成第一蝕刻阻隔層140。
接著,請(qǐng)參考圖1B,在各第一蝕刻阻隔層140上形成第一掩模層150,以使各第一金屬層130位于第三金屬層120及第一掩模層150之間,其中各第一掩模層150暴露出部分第一金屬層130。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司,未經(jīng)日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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