[發(fā)明專利]主動(dòng)元件矩陣基板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910140205.9 | 申請(qǐng)日: | 2009-07-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101598877A | 公開(公告)日: | 2009-12-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉竹育;施明宏;吳宙秦;陳怡君 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 友達(dá)光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1362 | 分類號(hào): | G02F1/1362;G02F1/133 |
| 代理公司: | 北京律誠同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 梁 揮;祁建國 |
| 地址: | 臺(tái)灣*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 主動(dòng) 元件 矩陣 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是有關(guān)于一種基板,且特別是有關(guān)于一種主動(dòng)元件矩陣基板。
背景技術(shù)
在諸多平面顯示器(Flat?Panel?Display,F(xiàn)PD)中,液晶顯示器(LiquidCrystal?Display,LCD)因具有高空間利用效率、低消耗功率、無輻射以及低電磁干擾等優(yōu)越特性,因此成為目前市場的主流。
圖1A繪示為現(xiàn)有技術(shù)一種液晶顯示器的立體示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D1A,液晶顯示器100具有一主動(dòng)元件矩陣基板110、一對(duì)向基板120、一夾設(shè)于主動(dòng)元件矩陣基板110與對(duì)向基板120之間的液晶層130以及用以提供光線的背光模塊140。主動(dòng)元件矩陣基板110上具有多個(gè)像素單元112以及多條位于像素單元112之間的信號(hào)線114,對(duì)向基板120具有一共通電極122。液晶層130中的液晶分子藉由像素單元112中的像素電極116與共通電極122之間的電壓差作不同程度的扭轉(zhuǎn),以控制背光模塊140所提供的光線L經(jīng)過液晶顯示面板150的穿透率,而使液晶顯示面板150呈現(xiàn)顯示效果。
圖1B進(jìn)一步繪示圖1A的現(xiàn)有技術(shù)的一種液晶顯示器的局部放大剖面示意圖,其中圖1B中繪示兩組像素單元112的剖面為例作說明。請(qǐng)參照?qǐng)D1B,對(duì)向基板120具有一位于信號(hào)線114上方的黑色矩陣124(Black?Matrix簡稱BM,圖1中僅繪示一個(gè)黑色矩陣為例)。如圖1B所示,由于信號(hào)線114上方的液晶層130的液晶分子會(huì)受到信號(hào)線114的影響而產(chǎn)生非預(yù)期的扭轉(zhuǎn),導(dǎo)致漏光現(xiàn)象,因此黑色矩陣124對(duì)應(yīng)地設(shè)置于信號(hào)線114上方的對(duì)向基板120上,用以遮蔽通過非顯示區(qū)域(如信號(hào)線)的光線以避免漏光。
如前述,為避免液晶顯示器100在顯示時(shí)產(chǎn)生上述漏光的現(xiàn)象,可藉由加寬黑色矩陣124的寬度W’來改善側(cè)向漏光的問題。然而,加寬黑色矩陣124寬度W’會(huì)使得液晶顯示面板150的像素開口率(Aperture?Ratio)下降,進(jìn)而影響液晶顯示器100的亮度表現(xiàn)。因此,如何在兼顧開口率的需求下防止漏光是目前液晶顯示器的一大課題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種主動(dòng)元件矩陣基板,其可以大幅增加開口率,并可大幅降低數(shù)據(jù)線與共通線之間的寄生電容。
本發(fā)明提出一種主動(dòng)元件矩陣基板,其包括一基板、一第一圖案化導(dǎo)體層、一介電層、一第二圖案化導(dǎo)體層、一保護(hù)層以及多個(gè)像素電極。第一圖案化導(dǎo)體層配置于基板上,第一圖案化導(dǎo)體層包括多條掃描線、多個(gè)與掃描線連接的柵極、多條共通線以及多個(gè)條狀浮置遮光圖案。介電層配置于基板上以覆蓋第一圖案化導(dǎo)體層,介電層具有多個(gè)第一接觸開口,且各第一接觸開口分別將共通線的一部分區(qū)域暴露。第二圖案化導(dǎo)體層配置于介電層上,第二圖案化導(dǎo)體層包括多條數(shù)據(jù)線、多個(gè)與數(shù)據(jù)線連接的源極、多個(gè)漏極、多個(gè)條狀電容電極,其中各條狀電容電極通過其中一個(gè)第一接觸開口與其中一條共通線電性連接,各數(shù)據(jù)線與其中一條狀電容電極之間具有一間隙,且各條狀浮置遮光圖案位于數(shù)據(jù)線、間隙以及條狀電容電極下方。保護(hù)層配置于介電層上以覆蓋第二圖案化導(dǎo)體層,保護(hù)層具有多個(gè)第二接觸開口,且各第二接觸開口分別將其中一個(gè)漏極暴露。多個(gè)像素電極配置于保護(hù)層上,其中各像素電極分別通過其中一個(gè)第二接觸開口與其中一個(gè)漏極電性連接。
在本發(fā)明之一實(shí)施例中,上述的各數(shù)據(jù)線例如與其中一條狀電容電極之間的間隙未被像素電極所覆蓋。
在本發(fā)明之一實(shí)施例中,上述的掃描線的延伸方向例如是實(shí)質(zhì)上平行于共通線的延伸方向,且各共通線分別位于二相鄰掃描線之間。
在本發(fā)明之一實(shí)施例中,上述的數(shù)據(jù)線的延伸方向例如實(shí)質(zhì)上平行于條狀浮置遮光圖案以及條狀電容電極的延伸方向。
在本發(fā)明之一實(shí)施例中,上述的位于同一條數(shù)據(jù)線兩側(cè)的二條狀電容電極的間隙例如為S,各條狀浮置遮光圖案的線寬例如為W1,而各數(shù)據(jù)線的線寬例如為W2,且W1>S>W(wǎng)2。
在本發(fā)明之一實(shí)施例中,上述的各條狀浮置遮光圖案的線寬例如為W1,各數(shù)據(jù)線的線寬例如為W2,而各間隙例如為G,且W1>W(wǎng)2+2G。
在本發(fā)明之一實(shí)施例中,上述的各條狀電容電極的至少部分區(qū)域例如與其中一個(gè)像素電極重疊。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于友達(dá)光電股份有限公司,未經(jīng)友達(dá)光電股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910140205.9/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 主動(dòng)元件及主動(dòng)元件陣列基板
- 主動(dòng)降噪系統(tǒng)、主動(dòng)降噪耳機(jī)及主動(dòng)降噪方法
- 主動(dòng)定位方法及主動(dòng)定位系統(tǒng)
- 主動(dòng)降噪系統(tǒng)及主動(dòng)降噪耳機(jī)
- 主動(dòng)清除系統(tǒng)和主動(dòng)清除方法
- 主動(dòng)筆控制方法及主動(dòng)筆
- 筆尖、主動(dòng)筆和主動(dòng)筆系統(tǒng)
- 主動(dòng)降噪耳機(jī)和主動(dòng)降噪方法
- 主動(dòng)導(dǎo)管及主動(dòng)導(dǎo)管系統(tǒng)
- 主動(dòng)降噪算法及主動(dòng)降噪耳機(jī)
- 在集成電路器件中求解線性矩陣
- 矩陣計(jì)算裝置、矩陣計(jì)算方法
- 一種數(shù)據(jù)聚類的方法、裝置及Spark大數(shù)據(jù)平臺(tái)
- 適用于黑白圖片的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)學(xué)習(xí)方法以及訓(xùn)練方法
- 適用于灰度圖片的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)學(xué)習(xí)方法以及訓(xùn)練方法
- 矩陣
- 矩陣/密鑰生成裝置、矩陣/密鑰生成系統(tǒng)、矩陣結(jié)合裝置、矩陣/密鑰生成方法、程序
- 矩陣運(yùn)算電路、矩陣運(yùn)算裝置及矩陣運(yùn)算方法
- 矩陣乘法計(jì)算方法和裝置
- 數(shù)據(jù)讀取方法、裝置、介質(zhì)和計(jì)算設(shè)備





