[發(fā)明專利]高真空熔煉、吸鑄可控性試樣制備用的吸鑄嘴無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910135808.X | 申請日： | 2009-04-29 |
| 公開（公告）號： | CN101537482A | 公開（公告）日： | 2009-09-23 |
| 發(fā)明（設計）人： | 謝克非;姚可夫;劉偉剛;黃天佑 | 申請（專利權(quán)）人： | 清華大學 |
| 主分類號： | B22D18/06 | 分類號： | B22D18/06 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100084北京市100*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 真空 熔煉 可控性 試樣 制備 吸鑄嘴 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.高真空熔煉、吸鑄可控性試樣制備用的吸鑄嘴，其特征在于，所述吸鑄嘴開有一個貫通該吸鑄嘴的中心孔，正對坩堝底部被熔化熔液吸鑄口處的上段所述中心孔的直徑小于下段所述中心孔的直徑，該上段所述中心孔的軸向長度小于下段所述中心孔的軸向長度，從而構(gòu)成一個放大式的鑄嘴通道，所述鑄嘴通道上、下二段中心孔的直徑和長度足以使所述吸鑄嘴在負壓作用下能使所述被熔的熔液流經(jīng)該鑄嘴通道后能吸鑄成試棒，其中：所述吸鑄嘴上段直徑等于1.22mm，所述吸鑄下段直徑等于2.5mm，所述吸鑄嘴上段所述中心孔的軸向長度等于2mm，所述吸鑄嘴的長度等于25mm，所述吸鑄嘴下段所述中心孔的軸向長度等于23mm。
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