[發明專利]能夠運載處理對象進入并離開真空室的真空處理系統

無效

• 申請號: 200910134580.2
• 申請日: 2004-03-25
• 公開（公告）號: CN101533765A
• 公開（公告）日: 2009-09-16
• 發明（設計）人: 玉井忠素
• 申請（專利權）人: 玉井忠素
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/677
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 史雁鳴

1.一種真空處理系統包括：

一個真空室，用于限定一個能夠被抽成真空的內室；

一個第一加載鎖定機構，能夠將一個處理對象送入或運出保持真空狀態的所述真空室；

一個安置在真空室內的保持機構，所述保持機構能夠保持處理對象，并將所述處理對象從所述處理對象接受處理的一個處理位置移動到一個加載位置，并從所述加載位置移動到所述處理位置；以及

一個內臂，能夠交換加載位置處的一個處理對象和由所述第一加載鎖定機構保持的另一個處理對象，而所述保持機構將所述處理對象保持在所述加載位置處，

其特征在于，所述內臂包括一個第一臂和一個第二臂，兩者能夠獨立旋轉，所述第一和第二臂沿旋轉軸方向支承在不同的位置處，所述第一臂沿第一旋轉方向旋轉，以將一個處于所述加載位置處的處理對象移動到所述第一加載鎖定機構，并且與此同時，所述第二臂沿與第一旋轉方向相反的第二旋轉方向旋轉，以將另一個處理對象從所述第一加載鎖定機構移動到所述加載位置，并且

其中，所述第一加載鎖定機構包括：

在所述真空室的壁上的開口；

提升臺，所述提升臺能夠在其上保持處理對象，并通過所述開口上升或下降，以便將處理對象送入和送出所述真空室；

真空側分隔蓋，當所述提升臺在所述真空室之外時，所述真空側分隔蓋從所述真空室的內側關閉所述開口；

大氣側分隔蓋，當所述真空側分隔蓋沒有關閉所述開口時，所述大氣側分隔蓋能夠使所述真空室保持真空；

驅動機構，所述驅動機構驅動所述提升臺上升和下降，并且能夠使所述提升臺在真空室中的高度方向上停在至少兩個不同的位置上。

2.一種真空處理系統包括：

一個真空室，用于限定一個能夠被抽成真空的內室；

一個第一加載鎖定機構，能夠將一個處理對象送入或運出保持真空狀態的所述真空室；

一個安置在真空室內的保持機構，所述保持機構能夠保持處理對象，并將所述處理對象從所述處理對象接受處理的一個處理位置移動到一個加載位置，并從所述加載位置移動到所述處理位置；以及

一個內臂，能夠交換加載位置處的一個處理對象和由所述第一加載鎖定機構保持的另一個處理對象，而所述保持機構將所述處理對象保持在所述加載位置處，

其特征在于，所述內臂包括一個第一臂和一個第二臂，兩者能夠獨立旋轉，所述第一和第二臂沿旋轉軸方向支承在不同的位置處，所述第一臂沿第一旋轉方向旋轉，以將一個處于所述加載位置處的處理對象移動到所述第一加載鎖定機構，并且與此同時，所述第二臂沿與第一旋轉方向相反的第二旋轉方向旋轉，以將另一個處理對象從所述第一加載鎖定機構移動到所述加載位置，并且

其中，所述第一加載鎖定機構包括：

在所述真空室的壁上的開口；

提升臺，所述提升臺能夠在其上保持處理對象，并通過所述開口上升或下降，以便將處理對象送入和送出所述真空室；

真空側分隔蓋，當所述提升臺在所述真空室之外時，所述真空側分隔蓋從所述真空室的內側關閉所述開口；

大氣側分隔蓋，當所述真空側分隔蓋沒有關閉所述開口時，所述大氣側分隔蓋能夠使所述真空室保持真空；

驅動機構，所述驅動機構驅動所述提升臺相對于所述大氣側分隔蓋和所述真空側分隔蓋兩者上升和下降。