[發明專利]溶劑凈化裝置及溶劑過濾裝置

有效

• 申請號: 200910128254.0
• 申請日: 2009-03-24
• 公開（公告）號: CN101545192A
• 公開（公告）日: 2009-09-30
• 發明（設計）人: 野呂勝;山口陽
• 申請（專利權）人: 三洋電機株式會社
• 主分類號: D06F43/08
• 分類號: D06F43/08;B01D33/21;B01D33/44
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 岳雪蘭

技術領域

本發明涉及一種用于凈化例如在干洗機等清洗裝置中所使用的溶劑的溶劑凈化裝置及溶劑過濾裝置。

背景技術

在例如清洗設施等使用的干洗機中，為了反復使用因清洗洗滌物而變臟的溶劑，一并設置有過濾并凈化變臟的溶劑的溶劑凈化裝置(例如參照專利文獻1)。

在專利文獻1的溶劑凈化裝置中，使用旋轉盤式過濾器。

旋轉盤式過濾器構成為具有：在接收變臟的溶劑的容器內旋轉自如地設置的空心軸；外嵌于該空心軸的多個圓盤狀過濾部。在容器內接收的變臟的溶劑，在通過過濾部而被過濾之后，經由空心軸內而向容器的外部流出。由此，溶劑中的污物附著在過濾部，但通過使旋轉盤式過濾器整體繞空心軸旋轉，離心力作用于過濾部，進而，過濾部被容器內的溶劑的液面撞擊，因此，污物從過濾部被除去，由此，可以使旋轉盤式過濾器再生。

專利文獻1：(日本)特開平7-289788號公報

在旋轉盤式過濾器的再生中，為了使過濾部與容器內的溶劑的液面撞擊，需要在容器內確保規定的空間并使溶劑不全部充滿，以形成液面。

但是，此時，例如若再生時的旋轉盤式過濾器的轉速上升，則因離心力增強而使溶劑從旋轉盤式過濾器(過濾部)的旋轉中心離開且成為環狀，而導致上述空間從過濾部的旋轉中心偏離。由此，不能使過濾部的旋轉中心部分與溶劑的液面撞擊，該部分的污物的除去不充分。

發明內容

本發明是在上述背景下作出的，其目的在于提供一種在使旋轉盤式過濾器再生時可以良好地除去旋轉盤式過濾器的旋轉中心部分的污物的溶劑凈化裝置以及溶劑過濾裝置。

第一方面發明的溶劑凈化裝置，其與使用規定的溶劑進行清洗運轉的清洗裝置連接，用于進行所述溶劑的凈化，其特征在于，具有：循環路徑，其用于使從所述清洗裝置流出的溶劑流通并流回到所述清洗裝置；過濾裝置，其被設于所述循環路徑，用于過濾流通的溶劑，所述過濾裝置包含可再生的過濾裝置，該可再生的過濾裝置具有：具有溶劑的流入口及流出口的容器、設于所述容器內且能夠以旋轉軸為中心以規定速度旋轉的旋轉盤式過濾器，作為用于使所述可再生的過濾裝置再生的再生機構，所述溶劑凈化裝置包含：將所述容器內的溶劑量調整到規定量的調整機構、在溶劑以規定量貯留于所述容器內的狀態下使所述旋轉盤式過濾器間歇性旋轉的驅動機構。

第二方面發明的溶劑凈化裝置，在第一方面發明的基礎上，其特征在于，所述調整機構調整的溶劑的量為，在所述容器內所述旋轉盤式過濾器的大致一半浸漬于溶劑中的量。

第三方面發明的溶劑凈化裝置，在第一方面或第二方面發明的基礎上，其特征在于，所述驅動機構使所述旋轉盤式過濾器的停止狀態和所述旋轉盤式過濾器的旋轉狀態反復出現，所述旋轉盤式過濾器的停止狀態為所述容器內的未貯留溶劑的空間位于所述容器上部的狀態，所述旋轉盤式過濾器的旋轉狀態為由所述旋轉盤式過濾器的旋轉而溶劑沿所述容器的內周壁分布且在所述旋轉盤式過濾器的旋轉軸側形成有空間的狀態。

第四方面發明的溶劑凈化裝置，其與使用規定的溶劑進行清洗運轉的清洗裝置連接，用于進行所述溶劑的凈化，其特征在于，具有：循環路徑，其用于使從所述清洗裝置流出的溶劑流通并流回到所述清洗裝置；過濾裝置，其被設于所述循環路徑，用于過濾流通的溶劑，所述過濾裝置包含可再生的過濾裝置，該可再生的過濾裝置具有：具有溶劑的流入口及流出口的容器、設于所述容器內且能夠以旋轉軸為中心以規定速度旋轉的旋轉盤式過濾器，作為用于使所述可再生的過濾裝置再生的再生機構，所述溶劑凈化裝置包含：將所述容器內的溶劑量調整到規定量的調整機構、在溶劑以規定量貯留于所述容器內的狀態下使如下兩種狀態反復出現的驅動機構，一種狀態為所述容器內的未貯留溶劑的空間位于所述容器上部的狀態，另一種狀態為由所述旋轉盤式過濾器的旋轉而溶劑沿所述容器的內周壁分布且在所述旋轉盤式過濾器的旋轉軸側形成有空間的狀態。

第五方面發明的溶劑過濾裝置，其為可再生的溶劑過濾裝置，包含：具有溶劑的流入口及流出口的容器、設于所述容器內且能夠以旋轉軸為中心以規定速度旋轉的旋轉盤式過濾器，該溶劑過濾裝置的特征在于，作為用于使所述可再生的溶劑過濾裝置再生的再生機構，所述溶劑凈化裝置包含：將所述容器內的溶劑量調整到規定量的調整機構、在溶劑以規定量貯留于所述容器內的狀態下使所述旋轉盤式過濾器間歇性旋轉的驅動機構。