[發明專利]透明導電膜玻璃的制作方法

有效

• 申請號: 200910105074.0
• 申請日: 2009-01-16
• 公開（公告）號: CN101781092A
• 公開（公告）日: 2010-07-21
• 發明（設計）人: 金弼;劉志斌;張莉
• 申請（專利權）人: 中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: C03C17/00
• 分類號: C03C17/00;C03C15/00
• 代理公司: 深圳市順天達專利商標代理有限公司 44217
• 代理人: 郭偉剛

技術領域

本發明涉及導電玻璃的制作方法，更具體地說，涉及一種薄透明導電膜玻 璃的制作方法。

背景技術

透明導電膜玻璃被大量應用于平板顯示器件及新型觸摸屏器件中。目前， 平板顯示行業對顯示器件的整體要求不斷提高。在繼續注重顯示性能的同時不 斷向輕便時尚的方向發展。更輕、更薄成為顯示行業技術發展的新熱點。在此 前提下，作為平板顯示器件中一個重要組件的氧化銦錫透明導電膜玻璃，其整 體制作的輕薄化即顯得尤為重要。同時，作為一種便捷輸入方式，電阻式觸摸 屏的應用越來越廣泛。電阻式觸摸屏是由一對相距幾十微米的透明導電膜及其 透明載體構成，這種透明載體可以是平板玻璃或高分子薄膜基板。當筆尖或手 指等硬物觸摸觸摸屏幕時，兩層導電層在觸摸點位置就有了接觸，同時產生相 應的電信號。電阻式觸摸屏從結構上可劃分為薄膜/薄膜、薄膜/玻璃、玻璃/ 玻璃幾大類型。其中玻璃/玻璃型電阻式觸摸屏以其優良的穩定性被廣泛應用 于車載、軍用等顯示領域。為了保證玻璃/玻璃型觸摸屏的外側玻璃結構能夠 被外界觸摸體輕松地按壓變形而發送電信號，外側透明導電膜玻璃基板必須足 夠薄。目前，一般采用的是厚度小于0.3毫米的超薄玻璃，業內普遍應用的是 0.21毫米的超薄玻璃。

綜上所述，當前無論是平板顯示器件還是電阻式觸摸屏器件，都對作為其 重要組件的透明導電膜玻璃基板提出了新的輕薄性需求。超薄透明導電膜玻璃 的傳統的制作方法是，先制作0.21毫米厚度的平板玻璃基板，然后在上述玻 璃基板表面鍍透明導電膜。然而該方法存在嚴重的缺點，首先厚度小于0.3毫 米素玻璃制造難度極高，其次厚度小于0.3毫米素玻璃真空鍍膜難度極高，在 目前廣泛使用的真空鍍膜機上鍍膜時如此薄的玻璃破損率很高。特殊的專用鍍 膜機采用臥式方法在傳送膠輥的間隙對薄玻璃下表面鍍膜，玻璃傳送帶及膠輥 設計復雜，工藝及溫度要求苛刻，利用率低，生產效率低，不易大規模生產， 從而鍍膜費用也大大高于0.4毫米或以上的玻璃。因此，現有厚度小于0.3毫 米的透明導電膜玻璃生產成本十分昂貴。

發明內容

本發明要解決的技術問題在于，針對現有技術中薄透明導電膜玻璃生產成 本高昂的缺陷，提供一種低成本、高成品率的透明導電膜玻璃制作方法。

本發明解決上述技術問題采用的技術方案是：提供一種透明導電膜玻璃的 制作方法，包括如下步驟：

(a)在厚素玻璃基板的一面鍍以透明導電薄膜；

(b)對厚素玻璃基板在步驟(a)中鍍了透明導電薄膜的面進行保護；

(c)對厚素玻璃基板的另一面進行蝕刻減薄；

(d)去除步驟(b)形成的保護，即制得超薄透明導電膜玻璃。

在本發明所述的透明導電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(a)中的厚素 玻璃是0.4毫米至1.1毫米厚的玻璃。

在本發明所述的透明導電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(b)中的保護 采用如下方式之一：抗腐蝕油墨涂布、光刻膠涂布、膠帶貼附、或者抗蝕刻膜 材貼合。

在本發明所述的透明導電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(c)中的蝕刻 減薄方法為浸泡蝕刻或噴淋蝕刻。

在本發明所述的透明導電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(b)中的保護 采用真空吸盤保護裝置。

在本發明所述的透明導電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(c)中的蝕刻 減薄方法為噴淋蝕刻。

在本發明所述的透明導電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(d)中的超薄 透明導電膜玻璃厚度為0.10毫米至0.25毫米。

在本發明所述的透明導電膜玻璃的制作方法中，所述厚素玻璃是鈉鈣玻璃 或硼硅玻璃。

在本發明所述的透明導電膜玻璃的制作方法中，還包括：將制得的超薄透 明導電膜玻璃的蝕刻面進行充分清洗。

實施本發明的透明導電膜玻璃的制作方法，具有以下有益效果：

(1)傳統超薄素玻璃(0.25毫米以下)加工工藝復雜，價格昂貴，本發 明采用價格較低的厚玻璃(0.4毫米以上)作為基礎進行鍍膜加工，再減薄到 0.25毫米以下，降低了原料成本；

(2)玻璃基板先鍍膜加工再進行化學蝕刻，因此鍍膜基板厚度可以達到 0.4毫米以上，可以避免鍍膜中玻璃破損，提高產品良率；