[發(fā)明專利]梯度折射率薄膜的制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910098784.5
• 申請(qǐng)日: 2009-05-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101560653A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-10-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 章岳光;何俊鵬;沈偉東;劉旭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C16/52
• 分類號(hào): C23C16/52;C23C16/44
• 代理公司: 杭州求是專利事務(wù)所有限公司
• 代理人: 張法高

1.一種梯度折射率薄膜的制備方法，其特征在于包括如下步驟：

1)將兩種低折射率材料反應(yīng)前驅(qū)體放入原子層沉積鍍膜機(jī)的第一反應(yīng)前驅(qū)體容器和第三反應(yīng)前驅(qū)體容器，兩種高折射率材料反應(yīng)前驅(qū)體分別放入原子層沉積鍍膜機(jī)的第二反應(yīng)前驅(qū)體容器和第四反應(yīng)前驅(qū)體容器；

2)將原子層沉積鍍膜機(jī)中的襯底加熱到100℃～400℃，抽真空至0.1～1Torr，開(kāi)啟原子層沉積鍍膜機(jī)；

3)開(kāi)啟原子層沉積鍍膜機(jī)的第一閥門(mén)P1和第三閥門(mén)P3，分別通入第一反應(yīng)前驅(qū)體和第三反應(yīng)前驅(qū)體，沉積低折射率膜層1～100循環(huán)，得到低折射率膜單層；

4)關(guān)閉原子層沉積鍍膜機(jī)的第一閥門(mén)P1和第三閥門(mén)P3，開(kāi)啟原子層沉積鍍膜機(jī)的第二閥門(mén)P2和第四閥門(mén)P4，分別通入第二反應(yīng)前驅(qū)體和第四反應(yīng)前驅(qū)體，沉積高折射率膜層1～100循環(huán)，得到高折射率膜單層；

5)高折射率膜單層和低折射率膜單層形成折射率子層，交替沉積10～100次形成梯度折射率薄膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種梯度折射率膜層的制作方法，其特征在于，所述的兩種高折射率材料前驅(qū)體和兩種低折射率材料前驅(qū)體是金屬反應(yīng)物和氧化氣體；金屬反應(yīng)物是氯化鈦或氯化硅，氧化氣體是水蒸氣、氧氣或臭氧。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種梯度折射率膜層的制作方法，其特征在于，所述的襯底是光學(xué)玻璃或半導(dǎo)體光電子器件腔面。