[發明專利]一種晶體硅塊切割方法無效
| 申請號: | 200910098541.1 | 申請日: | 2009-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN101554757A | 公開(公告)日: | 2009-10-14 |
| 發明(設計)人: | 吳云才;劉偉;劉文濤;聶帥 | 申請(專利權)人: | 浙江昱輝陽光能源有限公司 |
| 主分類號: | B28D5/04 | 分類號: | B28D5/04;B24B7/16;B24B7/22 |
| 代理公司: | 浙江杭州金通專利事務所有限公司 | 代理人: | 徐關壽 |
| 地址: | 314117浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 晶體 切割 方法 | ||
技術背景
本發明屬于晶體硅塊加工和硅片制備技術領域,具體涉及一種提 高晶體硅塊切片成品率的多晶硅塊切割方法。
背景技術
晶體硅片廣泛應用于微電子或太陽能電池領域,是硅料經直拉法 或鑄錠法制成單晶棒或多晶硅錠、開方、切斷成硅塊后切片而成的。 其切片的主要工作原理是將不同長度的硅塊粘在固定長度的粘膠玻 璃上,該粘膠玻璃粘合與工件粘合,將工件掛在工件臺,利用平行卷 繞在兩個刻有細小槽紋的導輪上的細鋼線,帶動向鋼線供應的砂漿, 通過砂漿中的SiC微粉對硅塊進行切割。
隨著近年來太陽能光伏產業的快速發展,行業對硅片的需求越來 越大。太陽能硅料和硅片加工費用占據了太陽電池成本的大部份,降 低切片中的硅料損耗和利用先進的切片工藝來提高切片成品率是降 低太陽能發電成本的有效方式。
目前市售切片機進行多晶硅塊切片的過程中存在以下兩種不利 現象:
一是切割鋼線會在硅塊垂直度較差的端面產生“爬坡”現象,頭尾 片會有許多漸進的斜面條紋。這種切片中的斜面“爬坡”現象極易引起 線狀鋸網的振動、造成跳線,使線狀鋸網整體產生異常波動,臨近端 面的局部線狀鋸網的振動尤其明顯,通常會在靠近端面的部分產生許 多的不良片。
二是切片過程中極易產生細小的硅碎片掉入線狀鋸網或導輪的 現象,同樣會造成斷線、跳線,另外還有可能致使導輪受損,降低導 輪的使用壽命。
三是對于切片機來說,其每次切割硅塊的總的有效長度是一定 的,但是現有的單晶和多晶硅塊的有效長度則是不一定的,所以在粘 膠的工藝中,經常使用不同長度的硅塊來組合搭配粘膠成與切片機相 對應長度。這樣就在產生了許多的拼接縫,特別是多晶硅塊,因為是 采用定向凝固法生長,其單一硅塊之間的有效高度差別很大,通常需 要多塊硅塊一起粘膠成為切割工件。在對拼接縫處不良片的研究中發 現,如果切片過程中這些拼接縫的斜度過大或者不夠平整,在其端面 產生許多頭尾廢片。因為拼接縫處相連的兩端面共同對切片過程的擾 動更大,不僅在端面產生更多的不良片,而且更大的影響了整體的切 片質量。
國內外并沒有專門的設備和方法來精確的處理端面斜度和不平 整的問題,國外有使用內圓切割機或者精密帶鋸來進行切斷加工,但 是并沒有刻意的針對通過改善端面垂直度等方式來提高切片的成品 率。隨著硅片制造工藝的飛速發展,現在市場可接受的硅片厚度在 220微米以下,而國內的切斷機在分段過程中通常會造成500微米以 上的斜度,在切片過程中因為端面問題而引起的硅片損失也越來越 大。這個端面斜度的存在,讓切片過程中的斜面“爬坡”或者碎片無 法避免,擾動了整個線網,影響切片質量。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種改善“爬坡”現象和解決硅 碎片引起斷線、跳線的晶體硅塊切割方法。
本發明通過以下技術方案來實現:
一種晶體硅塊切割方法,將被切割晶體硅塊置于切片機平臺,若 干條水平等距布設的線狀鋸,線狀鋸噴灑砂漿,對晶體硅塊實施切割, 其特征在于晶體硅塊切割前對晶體硅塊的兩端面打磨平整,端面斜度 小于所述等距平行布設的線狀鋸之間的距離
所述的晶體硅塊可由粘膠于底座玻璃的若干短硅塊組成。
所述的端面斜度應不大于200微米。
所述的晶體硅塊切割過程可采用多晶端面磨面數控機床。
優化地,線狀鋸等距平行布設,總寬度小于被割晶體硅塊的長度。
更優化地,所述等距平行布設的線狀鋸寬度小于被割晶體硅塊長 度3~6mm,且兩端均分。
本發明中方法是將被切割晶體硅塊粘膠后,掛于切片機工件臺, 若干條水平布設的線狀鋸,線狀鋸等距平行布設成線鋸網,線狀鋸高 速走動并攜帶上方噴嘴噴灑的砂漿,對晶體硅塊實施切割。其中切割 前對晶體硅塊的兩端面打磨平整至與側面垂直。
在晶體硅塊置于切片機工件臺實施切割前,送數控多晶端面磨面 數控機床進行端面磨面,將晶體硅塊兩端因為切斷而產生的斜面打磨 平整,使其端面光滑平整并與側面之間具有良好的垂直度,具體為端 面斜度不大于200微米。這個斜度小于切片中平行布設的切割鋼線的 距離,使切片過程鋼線與端面的不良接觸幾率大大的降低,有效地避 免切片中的斜面“爬坡”和掉碎片現象。
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