[發(fā)明專利]光刻膠涂布裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910090520.5
• 申請日: 2009-08-19
• 公開（公告）號: CN101995773A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 焦宇;張學(xué)智;宋瑞濤;王輝;蘇九端;王江;劉杰
• 申請（專利權(quán)）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 劉芳

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種光刻膠涂布裝置，屬于液晶顯示器制造技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體器件和平板顯示面板制造的光刻工藝中，電路圖形需要在基板表面涂布光刻膠之后，通過曝光和顯影得到。現(xiàn)有技術(shù)在基板表面涂布光刻膠的方法可以是：將基板平放在涂布臺面上，在保證狹縫噴嘴和基板之間精確的間隙基礎(chǔ)之上，狹縫噴嘴利用均速泵產(chǎn)生的均勻壓力，將光刻膠涂布在基板上，然后通過旋轉(zhuǎn)單元使光刻膠在基板上涂布均勻。以液晶面板制造工藝為例，在光刻工藝中，光刻膠涂布時，首先將玻璃基板平放在平整的臺面之上，然后狹縫噴嘴在固定支架的水平移動的同時，狹縫噴嘴利用均速泵將光刻膠均勻的涂布在基板上。在涂布過程中，必須保證狹縫噴嘴和玻璃基板之間保持合適的間隙，從而保證光刻膠的均勻涂布。一般來說，該間隙設(shè)置為0.1～0.3mm，對于不同厚度的玻璃基板間隙會有所調(diào)整。

但是，由于狹縫噴嘴與玻璃之間間隙僅為0.1～0.3mm，因此現(xiàn)有的光刻膠涂布裝置在涂布的過程中，經(jīng)常會因玻璃表面存在異物而損壞狹縫噴嘴，而由于狹縫噴嘴的維修和購買成本非常昂貴，致使生產(chǎn)成本顯著提高。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種光刻膠涂布裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中噴嘴容易被損壞，導(dǎo)致生產(chǎn)成本提高的技術(shù)問題，實現(xiàn)保護噴嘴不被基板上的雜質(zhì)損壞，降低生產(chǎn)成本的技術(shù)效果。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種光刻膠涂布裝置，包括光刻膠涂布裝置本體，述光刻膠涂布裝置本體的噴嘴的外部罩設(shè)有用于將所述噴嘴與基板上的雜質(zhì)隔離開的保護模塊。

所述噴嘴包括沿所述噴嘴運動方向相對設(shè)置的第一表面，所述保護模塊包括兩個第一保護單元，所述兩個第一保護單元通過固定裝置固定在所述第一表面上，并形成狹縫。

所述固定裝置為螺釘，所述第一保護單元上設(shè)有矩形通孔，所述螺釘穿過所述矩形通孔將所述第一保護單元可調(diào)地固定在所述第一表面上，以形成可調(diào)節(jié)大小的狹縫。

所述噴嘴還包括沿與所述噴嘴運動方向相垂直的方向相對設(shè)置的端面，所述保護模塊還包括兩個第二保護單元，所述兩個第二保護單元上設(shè)有矩形通孔，螺釘穿過所述第二保護單元上的矩形通孔將所述第二保護單元可調(diào)地固定在所述端面上，并與所述兩個第一保護單元對合，形成可調(diào)節(jié)大小的狹縫。

所述保護模塊為一體結(jié)構(gòu)，且所述保護模塊沿豎直穿過噴嘴的直線方向呈鏡面對稱結(jié)構(gòu)，所述保護模塊與所述基板正對的端部為平面結(jié)構(gòu)，且所述端部上設(shè)有至少一排孔隙或縫隙。

所述噴嘴包括沿所述噴嘴運動方向相對設(shè)置的第一表面，所述保護模塊包括罩設(shè)在所述噴嘴的第一表面外部的第一部件。

所述噴嘴還包括與所述第一表面連接的第二表面，所述保護模塊還包括罩設(shè)在所述第二表面外部的第二部件，且所述第二部件與所述第一部件連接。

所述噴嘴還包括與所述第二表面連接的第三表面，所述保護模塊還包括罩設(shè)在所述第三表面外部的第三部件，且所述第三部件與所述第二部件連接。

所述保護模塊為一體結(jié)構(gòu)，所述保護模塊設(shè)置在所述噴嘴上沿移動方向靠前的一側(cè)，且所述保護模塊與所述基板之間的距離小于等于所述噴嘴與所述基板之間的距離。

所述保護模塊為一體結(jié)構(gòu)，所述保護模塊設(shè)置在所述噴嘴上沿移動方向的兩側(cè)，且所述保護模塊與所述基板之間的距離小于等于所述噴嘴與所述基板之間的距離。

所述保護模塊采用碳素鋼材料。

本發(fā)明光刻膠涂布裝置以現(xiàn)有的光刻膠涂布裝置本體為基礎(chǔ)，在光刻膠涂布裝置本體上的噴嘴的外部固定保護模塊，通過該保護模塊將噴嘴與基板上的雜質(zhì)隔離開，從而防止噴嘴通過該保護模塊在基板表面運動涂布光刻膠的時候被基板上的雜質(zhì)損壞，降低了生產(chǎn)成本。

下面通過附圖和實施例，對本發(fā)明的技術(shù)方案做進一步的詳細描述。

附圖說明

圖1為本發(fā)明光刻膠涂布裝置第一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明光刻膠涂布裝置第一實施例中第一保護單元的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明光刻膠涂布裝置第一實施例的局部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明光刻膠涂布裝置第二實施例中第二保護單元的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明光刻膠涂布裝置第三實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明光刻膠涂布裝置第三實施例的局部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明光刻膠涂布裝置第三實施例中保護模塊端部的局部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為本發(fā)明光刻膠涂布裝置第三實施例中保護模塊端部的另一局部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9為本發(fā)明光刻膠涂布裝置第三實施例中保護模塊端部的再一局部結(jié)構(gòu)示意圖；