[發(fā)明專利]掃描蒸鍍制膜的方法及設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910087009.X | 申請日: | 2009-06-22 |
| 公開(公告)號: | CN101619441A | 公開(公告)日: | 2010-01-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馮煥培;黎志欣;王軍 | 申請(專利權(quán))人: | 北京京運通科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/30 | 分類號: | C23C14/30 |
| 代理公司: | 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 閆立德 |
| 地址: | 100176北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 掃描 蒸鍍制膜 方法 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于一種掃描蒸鍍制膜的設(shè)備。
背景技術(shù)
薄膜光伏電池,包括CIGS光伏電池可替代單晶硅材料用作太陽能發(fā)電,晶 體硅材料作為光伏發(fā)電材料價格昂貴,制作難度大,成本高,難以推廣使用。 最新的科學(xué)顯示可以用在玻璃或其他材料的基板上用電子槍蒸鍍方法鍍數(shù)層金 屬和非金屬薄膜來替代晶體硅材料用作太陽能發(fā)電,這種新材料價格低廉,利 于推廣使用。用電子槍蒸鍍方法鍍數(shù)層金屬薄膜在基板上,要求薄膜必須厚度 均勻,但目前的設(shè)備難以達到這樣的要求。傳統(tǒng)的電子槍蒸鍍設(shè)備包括一個真 空腔體,真空腔體內(nèi)下端固定設(shè)置若干個電子槍,待鍍的基板置于電子槍上端, 完成電子槍蒸鍍制膜。這種傳統(tǒng)的設(shè)備不能保證基板上薄膜厚度的均勻,往往 造成靠近電子槍的基板上薄膜厚,反之,則薄。而薄膜厚度的不均勻使玻璃基 板光電轉(zhuǎn)換率大幅下降,質(zhì)量一致性差,難以在市場上推廣使用。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是設(shè)計一種掃描蒸鍍制膜的設(shè)備,該設(shè)備使電子槍在移動 狀態(tài)下進行噴鍍,鍍膜均勻,簡便可行,其設(shè)備具有鍍膜均勻,速度快,價格低, 質(zhì)量好,可大幅度提高基板光電轉(zhuǎn)換率,大幅延長其使用壽命的優(yōu)點。
為此,本發(fā)明設(shè)置使工作狀態(tài)下的電子槍擺動的裝置,使電子槍在移動狀態(tài) 下進行噴鍍。
實現(xiàn)本發(fā)明的設(shè)備是電子槍位于擺動裝置上,電子槍在移動狀態(tài)下進行噴 鍍。
所述的擺動裝置是:掃描支架,呈中空T字形,呈T字形掃描支架的上端位 于真空腔體內(nèi),掃描支架與真空腔體之間通過磁流體密封裝置軸接,掃描支架 下端連接大帶輪;擺盤,呈中空T字形,位于呈T字形掃描支架的上端兩側(cè),擺 盤與掃描支架通過磁流體密封裝置軸接,擺盤下端設(shè)有擺盤輪,擺盤上端設(shè)有 電子槍;傳動裝置,包括傳動掃描支架的電機、減速器、傳送輪、傳送帶和傳 動擺盤的電機、傳送輪和傳送帶,傳動擺盤的電機、傳送輪和傳送帶位于掃描 支架內(nèi),傳動擺盤的電機通過傳送輪和傳送帶帶動擺盤輪,傳動掃描支架的電 機通過減速器、傳送輪和傳送帶帶動掃描支架轉(zhuǎn)動。
所述的擺動裝置還可是:掃描支架,呈中空T字形,呈T字形掃描支架的上 端位于真空腔體內(nèi),掃描支架與真空腔體之間通過磁流體密封裝置軸接,掃描 支架下端連接大帶輪;擺盤,呈中空T字形,位于呈T字形掃描支架的上端兩側(cè); 傳動裝置,由傳動掃描支架的電機、減速器、傳送輪、傳送帶所構(gòu)成,傳動掃 描支架的電機通過減速器、傳送輪和傳送帶帶動掃描支架轉(zhuǎn)動。
所述的擺動裝置還可是:掃描支架,其內(nèi)中空,掃描支架的一端位于真空 腔體內(nèi)其上設(shè)有擺盤,位于真空腔體內(nèi)的掃描支架與真空腔體之間通過密封波 紋管軸接,掃描支架另一端位于真空腔體外并與直線導(dǎo)軌滑配,位于真空腔體 外的掃描支架側(cè)端與滾珠絲桿螺接;擺盤,呈中空T字形,位于真空腔體內(nèi)的掃 描支架內(nèi)側(cè)上端,擺盤與掃描支架通過磁流體密封裝置軸接,擺盤下端設(shè)有擺 盤輪,擺盤上端設(shè)有電子槍。
所述的擺動裝置還可是:掃描支架,其內(nèi)中空,掃描支架的一端位于真空 腔體內(nèi)其上設(shè)有擺盤,位于真空腔體內(nèi)的掃描支架與真空腔體之間通過密封波 紋管軸接,掃描支架另一端位于真空腔體外并與直線導(dǎo)軌滑配,位于真空腔體 外的掃描支架側(cè)端與滾珠絲桿螺接;擺盤,呈中空T字形,位于真空腔體內(nèi)的掃 描支架內(nèi)側(cè)上端,擺盤與掃描支架通過磁流體密封裝置軸接,擺盤下端設(shè)有擺 盤輪,擺盤上端設(shè)有電子槍;傳動裝置,包括傳動掃描支架的電機、電機輪、 傳送帶、傳送輪、受傳送輪帶動的滾珠絲桿和傳動擺盤的電機、傳送輪和傳送 帶,傳動擺盤的電機、傳送輪和傳送帶位于掃描支架內(nèi),傳動擺盤的電機通過 傳送輪和傳送帶帶動擺盤輪,傳動掃描支架的電機通過電機輪、傳送帶、傳送 輪和受傳送輪帶動的滾珠絲桿帶動掃描支架左右移動。上述結(jié)構(gòu)設(shè)計達到了本 發(fā)明的目的。
本發(fā)明的優(yōu)點是使電子槍在移動狀態(tài)下進行噴鍍,鍍膜均勻,簡便可行。該 設(shè)備使電子槍在移動狀態(tài)下進行噴鍍,具有鍍膜均勻,速度快,價格低,質(zhì)量 好,可大幅度提高基板光電轉(zhuǎn)換率,并大幅延長其使用壽命。利于在市場上推 廣使用。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖
圖2是圖1的A-A剖面局部結(jié)構(gòu)示意圖
圖3是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖
圖4是圖3的A-A剖面局部結(jié)構(gòu)示意圖
圖5是本發(fā)明的使用狀態(tài)結(jié)構(gòu)示意圖
圖6是本發(fā)明的另一實施例結(jié)構(gòu)示意圖
具體實施方案
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
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